【課題】例えば、１つ又は複数の放射ビームの波長の公称値からのずれによってもたらされる１つ又は複数の問題を緩和し又は最小化することができるリソグラフィシステムを提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、複数の放射ビームを基板に投影する投影系を有しており、複数の放射ビームは、第１波長範囲内の放射から形成される第１の１つ又は複数の放射ビームのグループと、第１波長範囲と異なる第２波長範囲内の放射から形成される第２の１つ又は複数の放射ビームのグループと、を備える。また、本装置は、第１のグループの１つ又は複数の放射ビームが第２のグループの１つ又は複数の放射ビームと異なる角度で分散素子に入射し、かつ分散素子から出力される第１及び第２のグループの１つ又は複数の放射ビームが実質的に平行であるように構成されている分散素子を備える。 （もっと読む）

【目的】マルチビーム形成アパーチャによって散乱した荷電粒子によるブランキング偏向器アレイへの帯電とコンタミ成長を抑制する装置を提供することを目的とする。
【構成】描画装置１００は、荷電粒子ビームを放出する電子銃２０１と、マルチビームを形成するマルチビーム形成アパーチャ部材２０３と、マルチビームのうち、それぞれ対応するビームのブランキング偏向を行う複数のブランカーが配置されたブランキングプレート２０４と、マルチビーム形成アパーチャ部材２０３とブランキングプレート２０４との間に配置された、電磁レンズ２１２，２１４と、電磁レンズ２１２，２１４の間であってマルチビームの集束点位置に配置され、集束点から外れた荷電粒子の通過を制限する制限アパーチャ部材２１６と、複数のブランカーによってビームｏｆｆの状態になるように偏向された各ビームを遮蔽する制限アパーチャ部材２０６と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板面内における現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】基板搬送手段２０と、被処理基板Ｇに対する露光処理空間を形成するチャンバ８と、基板搬送方向に交差する方向にライン状に配列された複数の発光素子Ｌを有し、下方を搬送される被処理基板上の感光膜に対し、前記発光素子の発光により光照射可能な光源４と、前記光源を構成する複数の発光素子のうち、１つまたは複数の発光素子を発光制御単位として選択的に発光駆動可能な発光駆動部９と、前記基板搬送手段により搬送される前記被処理基板を検出する基板検出手段３０と、前記基板検出手段による基板検出信号が供給されると共に、前記発光駆動部による前記発光素子の駆動を制御する制御部４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板とマスクの密着性能を向上することができる密着露光装置及び密着露光方法を提供する。
【解決手段】基板保持部１１の保持面１１ａには、ワークＷの裏面に向けて開口する、複数の第１エア流通孔３１、及び該複数の第１エア流通孔３１よりも外側に設けられた複数の第２エア流通孔３２と、を備え、複数の第２エア流通孔３２が開口する領域Ｅの内周側及び外周側には、ワークＷの裏面と接触可能な環状の内周側弾性部材３３及び外周側弾性部材３４がそれぞれ配置される。マスク保持部４と基板保持部１１との間には、マスクＭ及びワークＷを囲む、弾性の密封部材３５が設けられ、マスクＭ、マスク保持部４、基板保持部１１、及び密封部材３５によって密封空間Ｓを画成する。制御手段３０は、複数の第１エア流通孔３１を大気開放し、複数の第２エア流通孔３２からエアを吸引し、且つ、密封空間Ｓ内のエアを吸引して密封空間Ｓ内を負圧にし、密封空間Ｓ内の圧力が所定の基準負圧に達したとき、複数の第２エア流通孔３２を大気開放する。 （もっと読む）

【課題】アナモルフィック光学系を利用して低輝度の変調光場を集中させることにより、高い合計光強度がライン画像の全体長さに沿って同時に発生され、これにより、あらゆるドット様ピクセル画像が同時に発生される単一パス高解像度高速印刷用途に使用される画像形成システムを提供する。
【解決手段】アナモルフィック光学系１３０を用いて画像形成面１６２上へ二次元画像の略一次元ライン画像を発生させるために利用される単純化された単一パス画像形成システム１００において、システム１００はさらに、均質光発生器１１０と、均質光発生器１１０から受信される均質光１１８Ａを変調するようにコントローラ１８０により制御される空間光変調器１２０と、変調器１２０により発生される変調光場１１９Ｂを画像化しかつ集中させ、かつ画像形成面１６２上に略一次元ライン画像ＳＬを投影させるように位置合わせされるアナモルフィック光学系１３０とを含む。 （もっと読む）

【課題】被露光物の移動開始位置に依らず、被露光物を所望のパターンで精度良く露光することができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１０は、照明光学系１１と、照明光学系１１からの光を所定の周期的な変調パターンで位相変調して出射する位相変調マスク２０と、位相変調マスク２０と被露光物１４との間の距離を制御する制御手段１８と、を備えている。位相変調マスク２０は、位相変調マスク２０により位相変調された光の回折光のうち０次の回折光を除く回折光によって被露光物が露光されるよう構成されている。制御手段１８は、干渉パターンの変動周期のｓ倍（ｓ≧１の整数）に対応する距離にわたって位相変調マスク２０と被露光物１４との間の距離を変化させる。 （もっと読む）

【課題】帯状の基板に表示素子を効率的に製造することができる露光装置を提供する。
【解決手段】マスクＭに形成されたパターンＰｍを基板Ｓに転写する露光装置ＥＸであって、マスクＭを照明する照明装置ＩＵと、基板Ｓに対してパターンＰｍの拡大像を投影する投影装置ＰＵと、マスクＭを保持する第一円筒面３１を有し、第一円筒面３１の周方向に回転するマスク保持部４０と、基板を搬送する第二円筒面３２を有し、マスク保持部４０と同一の回転軸Ｃを中心として第二円筒面３２の周方向に回転する基板搬送部５０とを備える。 （もっと読む）

【課題】リカバー処理に掛かる時間を短縮することでスループットの向上を図ることのできる荷電粒子ビーム描画装置及び描画方法を提供する。
【解決手段】移動可能なステージ６１上に載置される試料にパターンを描画する描画部２と、荷電粒子ビームの偏向を制御する偏向制御部３２と、ステージの移動を制御するステージ制御部３６と、両者に対する制御を行う制御計算機３１、から構成される制御部３と、を備え、偏向制御部３２は、描画データを格納するバッファメモリ３２ｂと、バッファメモリ３２ｂから転送される描画データを格納するＦＩＦＯ３２ｃと、ＦＩＦＯ３２ｃへの描画データの転送量を判断した結果、バッファメモリ３２ｂへの描画データの格納が設定量に足りない場合に、ステージ制御部３６に対してステージ６１の停止を指示するとともに、ステージ６１を前記試料に対する描画の対象とされる位置にまで戻すリカバー処理を行う判定部３２ｄとを備える。 （もっと読む）

【課題】スループットの維持を図りつつＤＡＣアンプが異常（故障）として検出される前にショットの変化を確実に検出していくことで、ＤＡＣアンプの異常（故障）を事前に予測可能とするＤＡＣアンプの評価方法及び荷電粒子ビーム描画装置を提供する。
【解決手段】ＤＡＣアンプ３４，３５から出力されるアナログ電圧信号を受信し、加算するステップと、加算の結果生成される加算信号をデジタル加算信号に変換するステップと、デジタル加算信号を基にエラーを検出するステップと、を備え、エラー検出ステップでは、電子ビーム照射の整定待ち時間を整定時間よりも短く設定することで荷電粒子ビームのショット時におけるＤＡＣアンプ３４，３５の電圧値が予め設定される閾値外となることをエラーと定義する。 （もっと読む）

【課題】耐久性に優れ、かつ、遮光機構の小型化に有利な露光装置を提供する。
【解決手段】この露光装置１は、スリット光を照射する照明光学系２と、照明光学系２から照射されたスリット光の領域を拡大させて原版Ｍを照明する拡大光学系３と、拡大光学系３の前方に設けられ、スリット光を長手方向において遮光する第１遮光機構２２と、拡大光学系３の後方に設けられ、スリット光を長手方向において遮光する第２遮光機構２５とを備える。 （もっと読む）

【課題】フレキシブルな基板を用いても、高い精度で薄膜トランジスタを形成することができる薄膜トランジスタの製造装置およびその製造方法、ならびにプログラムを提供する。
【解決手段】本発明は、基板上にゲート電極、ゲート絶縁層、半導体層、ソース電極およびドレイン電極が少なくとも設けられた薄膜トランジスタの製造方法である。ソース電極およびドレイン電極を形成する工程において、基板の歪み、または基板の伸縮率に基づいて、露光データを、スケーリング処理を用いて薄膜トランジスタのチャネル長を固定した状態で補正して第１の補正データを作成する。この第１の補正データに基づいて、ソース電極およびドレイン電極の形成領域にレーザ光を照射し、その形成領域を親液性にする。この形成領域に、ソース電極およびドレイン電極となる液滴を、打滴データに基づいて打滴する。 （もっと読む）

【課題】電気光学結晶への電荷の残留を解消することで、電気光学結晶の内部に形成される回折格子の回折効率のオフセットを抑え、回折格子による適切な光変調の実現する。
【解決手段】交流信号をデータ信号によって振幅変調させた振幅変調信号を電気光学結晶に印加する。これによって、電気光学結晶には正側負側の両側に振動する信号が印加されることとなり、電気光学結晶への電荷の残留が解消することができる。その結果、電気光学結晶の内部に形成される回折格子の回折効率のオフセットを抑えて、回折格子による適切な光変調の実現が可能となる。 （もっと読む）

【課題】例えば、支持体の移動に関連する何らかの問題に対処する構成を提供する。
【解決手段】ある装置は、一実施例においては、第１流れ制限表面を有する第１平面要素を含むパターニングデバイス支持体と、第１流れ制限表面に対向する第２流れ制限表面を含む第２平面要素と、第２平面要素に対し支持体をある方向に沿って直線的に移動させる支持体駆動部と、を有し、第１及び／又は第２の流れ制限表面は第１及び第２の流れ制限表面間に１つ又は複数の凸部及び／又は凹部を有し、第１及び／又は第２の流れ制限表面の凸部及び／又は凹部は、流れに垂直な第１及び／又は第２の流れ制限表面単位幅につき、上記方向に垂直な流れに対してよりも上記方向に平行な流れに対して小さい流れ抵抗を提供するよう配設されている。流れ制限表面は発熱する駆動部分に気体流れを向けてもよい。 （もっと読む）

【課題】 分解能の高い識別記号を露光しながら回路パターンを感光させることができる露光装置を提供する。
【解決手段】 露光装置（１００）は、紫外線を含む光でフォトマスクの回路パターンを第１面に露光する投影露光ユニット（７０）と、紫外線を含む光で電子的に作成された情報データを第２面に露光する空間光変調ユニット（４０）と、投影露光ユニット又は空間光変調ユニットに対して相対的に移動可能な基板を載置し、空間変調ユニットからの光を透過する基板ステージ（６０）と、基板ステージを移動させるステージ駆動部（６５）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】周方向にグルーブパターンとサーボパターンが交互に配置されてなる微細パターンを電子ビーム走査により描画する際の、各パターンの周方向描画位置の精度を向上させる。
【解決手段】回転ステージを回転させつつ、電子ビームを走査して原盤にパターン描画を行うに際して、ある所定領域へのサーボパターンの描画を開始する際に、その直前の所定領域にグルーブパターンを描画するための描画データ信号群のデータ信号の一部が描画されることなく残っている場合、そのデータ信号の一部を破棄して、ある所定領域の描画データ信号群に基づくパターン描画を開始する。 （もっと読む）

【課題】描画データの解像度やエンコーダのパルス信号の周期に依存することなく露光間隔を設定し、描画データの解像度で決まる露光間隔とエンコーダのパルス信号の周期で決まる露光間隔とのずれを小さくして、描画精度を向上させる。
【解決手段】チャック１０と光ビーム照射装置２０との相対的な移動量に応じたパルス信号を出力するエンコーダ３２を設け、エンコーダ３２のパルス信号からチャック１０と光ビーム照射装置２０との相対的な移動量を検出する。描画データの解像度よりも細かな解像度で基準座標を設定し、目標とする基準露光間隔に対して、描画データの解像度で決まる露光間隔及びエンコーダ３２のパルス信号の周期で決まる露光間隔を、基準座標上で演算して、チャック１０の位置座標を決定し、チャック１０の位置座標に応じた描画データを光ビーム照射装置２０の駆動回路へ供給する。 （もっと読む）

【課題】複数のミラーを直交する二方向に配列した空間的光変調器を用い、多重露光を行って基板にパターンを描画する際、描画データの量を増やすことなく描画品質を向上させて、高速かつ高精細にパターンの描画を行う。
【解決手段】光ビーム照射装置（２０）の空間的光変調器（２５）の１つのミラーで反射された光が基板へ照射される領域と、他のミラーで反射された光が基板へ照射される領域が、光ビームによる基板の走査に伴って部分的に重なる多重露光を行って、基板にパターンを描画する。基板に描画するパターンの図形の座標データから、描画の要否を判定するサンプリング点を解像度の大きさの露光領域（２ａ）毎に周期的に変動させて、描画データを生成し、生成した描画データを、光ビーム照射装置の駆動回路（２７）へ供給する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、少ない工程で多層配線化を実現し、小面積で高機能な機能回路を有する配線基板及び半導体装置を提供する。またこのような高機能な機能回路を表示装置と同一基板上に一体形成した半導体装置を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、絶縁表面を有する基板上に、第１の配線と、第２の配線と、第３の配線と、第１の層間絶縁膜と第２の層間絶縁膜と、第１のコンタクトホールと第２のコンタクトホールを有し、前記第２の配線の幅を前記第１の配線の幅より広いか、あるいは前記第３の配線の幅を前記第１の配線の幅もしくは前記第２の配線の幅より広く、且つ前記第２のコンタクトホールの直径を前記第１のコンタクトホールの直径より大きく形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【目的】レジストヒーティングによる影響を抑制することを目的とする。
【構成】描画装置１００は、レジストが塗布された描画対象となる試料の描画領域が仮想分割された複数の小領域のそれぞれの小領域内に配置される複数の図形パターンの各パターンデータであって、図形パターン毎に、当該図形パターンが所属する小領域内でさらに複数のグループの１つに振り分けられるための振り分け識別子が定義された各パターンデータを記憶する記憶装置１４０と、グループ毎に描画順序が並ぶように、各小領域に当該小領域に配置される各パターンデータを割り当てるＳＦ割当部５６と、電子ビームを用いて、グループ毎に、各小領域に当該小領域に配置される各図形パターンを描画する描画部１５０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、複数の投影対物レンズ（１０）のうち各々が１つの物体視野（５０）を像視野（６０）の中に結像する投影対物レンズを備える投影露光装置（１）に関する。
【解決手段】像視野（６０）は基板領域（４０）において１つの基板平面の中に配置されており、基板領域（４０）が所定の走査方向（５）で複数の投影対物レンズと相対的に移動可能であり、前記投影対物レンズの少なくとも１つが前記基板平面に対して垂直に延びない該投影対物レンズの光軸の部分区間を有し、かつ前記部分区間の投影が基板平面の中へ走査方向（５）と平行に延びない。 （もっと読む）