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Fターム[2H097CA12]の内容

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Fターム[2H097CA12]に分類される特許

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【課題】投影露光装置において、広い露光エリアを確保しながら、高精度のパターンを形成する。
【解決手段】投影露光装置の投影光学系30において、第1レンズ群32、第2レンズ群34、第3レンズ群36、第4レンズ群38を備え、第1レンズ群32と第2、3レンズ群34、36との間に、偏光ビームスプリッタ40を配置する。そして、マスクPMの光軸上点からのマージナル光線ML1、ML2が偏光ビームスプリッタ40の入射面に対し垂直入射するように、第1レンズ群32の光学特性が定められている。 (もっと読む)


【課題】洗浄によるパターンの劣化を抑制することができるテンプレート処理方法を提供すること。
【解決手段】実施形態のテンプレート処理方法は、主面を有する基板と、前記主面上に形成され、凹部を含む第1のパターンと、前記第1のパターンとは異なる位置に前記主面上に形成され、凹部を含む第2のパターンとを具備し、かつ、前記第1のパターンは第1の材料を含み、前記第2のパターンは前記第1の材料とは異なる第2の材料を含むテンプレート1を処理する。実施形態のテンプレート処理方法は、前記第1および第2の材料とは異なる第3の材料を含む被覆部材11で前記第2のパターンを被覆する。次に、被覆部材11で前記第2のパターンを被覆した状態で、テンプレート1を洗浄する。次に、被覆部材11を除去して前記第2のパターンを露出させる。 (もっと読む)


【課題】照射位置の各所における照度が均一なライン状光を出射することのできる露光用光源を提供する。
【解決手段】露光用光源を、露光対象物Tに向けて一列に並べて配設され、露光用の光を出射する複数のランプユニット18で構成されたランプアレイ24と、露光対象物Tおよび各ランプユニット18の間にそれぞれ配設された複数のレンズ20とで構成する。さらに、レンズ20で、対応するランプユニット18から出射された光の内、露光対象物Tに向かう光を、ランプユニット18の光軸Lを通りかつランプユニット18が並べられた方向H1に平行な中心線CLに向けて屈折させ、中心線CLを中心として露光対象物Tにおける照射範囲を狭めるとともに照度を高めることにより、上記課題を解決することができる。 (もっと読む)


【課題】基板面内で細かく設定したエリア毎の露光量を調整し、現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】基板ステージ2上の基板Gと原版ステージ3上の原版Mとを同期移動させながら前記原版のパターンを前記基板上に露光する露光装置1であって、前記基板ステージの上方に設けられ、前記基板に対し局所的に光を照射する局所露光部20と、前記局所露光部の発光駆動を制御する制御部40とを備え、前記局所露光部は、基板幅方向にライン状に配列され、前記基板ステージによって移動される前記基板に対し光照射可能な複数の発光素子Lと、前記複数の発光素子のうち、1つまたは複数の発光素子を発光制御単位として選択的に発光駆動可能な発光駆動部25とを有する。 (もっと読む)


【課題】基板面内における現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】基板搬送手段20と、被処理基板Gに対する露光処理空間を形成するチャンバ8と、基板搬送方向に交差する方向にライン状に配列された複数の発光素子Lを有し、下方を搬送される被処理基板上の感光膜に対し、前記発光素子の発光により光照射可能な光源4と、前記光源を構成する複数の発光素子のうち、1つまたは複数の発光素子を発光制御単位として選択的に発光駆動可能な発光駆動部9と、前記基板搬送手段により搬送される前記被処理基板を検出する基板検出手段30と、前記基板検出手段による基板検出信号が供給されると共に、前記発光駆動部による前記発光素子の駆動を制御する制御部40とを備える。 (もっと読む)


【課題】放射が調整される少なくとも3つの光路を備える放射ビーム調整システムを提供する。
【解決手段】パルス放射ビームを調整する放射ビーム調整システムは、少なくとも第1、第2及び第3の光路に沿ってパルス放射ビームを分割する放射ビーム分割器と、単一の出力パルス放射ビームを形成するために、少なくとも第1、第2及び第3の光路からの放射パルスを再結合する放射ビームコンバイナと、第1の光路に沿って伝搬する放射パルスに合わせて構成された放射パルストリマと、を備え、放射パルストリマが、単一の出力パルス放射ビームの総エネルギー量が実質的に所定のレベルになるように、第1の光路内で前記放射パルスをトリミング処理し、第1、第2及び第3の光路の光路長は、放射ビーム分割器と放射ビームコンバイナとで異なっている。 (もっと読む)


【課題】マスクの大きさが基板上の露光対象領域に比して小さい露光装置において、基板の全面を均一に露光でき、隣接する露光領域間における継ぎムラの発生を防止できる露光装置を提供する。
【解決手段】光源4から出射された露光光をマスク2に導く光学系として、光源4からの出射光を平行光にするコンデンサレンズ6とこれを透過した露光光をマスク面にて入射光と同倍率で結像させるオフナー光学系8とが設けられている。コンデンサレンズ6からの結像面には可変ブラインド7が配置され、結像面において露光光内に介在するシャッタ72,73を有し、シャッタ72,73によりマスク面露光領域におけるスキャン方向に直交する方向の少なくとも一方の端縁をスキャン方向に傾斜するように整形する。そして、2回のスキャン露光にて、マスク面露光領域における傾斜した端縁が重なるように、露光光の整形を制御する。 (もっと読む)


【課題】露光装置において、光源の寿命を落とすことなく、適切な光量調整を行なう。
【解決手段】光量調整を行なう場合、DMDの有効ミラーをON状態にして投影光の光量を測定し、測定された光量と目標光量との比である使用率を定める。そして、使用率に基づいて、不使用ミラーの配列を示す調光フィルタデータを生成する。このとき、不使用ミラーが略一様な分布で、かつ不規則に並ぶようにする。DMDを利用した光量調整を行なっている間、放電ランプの出力が徐々に低下し、測定光量が目標光量に達しない状況になると、測定光量が目標光量より所定量多い基準光量に達するまで放電ランプの出力をアップする。 (もっと読む)


【課題】 グレイトーンマスクを用いたTFT基板の製造工程において、高画質かつ低価格の液晶パネルを高い歩留まりで生産し続けることが可能な露光装置および露光方法を提供すること。
【解決手段】 照明光学系と投影光学系を有する露光装置において、照明光学系内部に有効光源形状を変化させる有効光源形状調整手段と、投影光学系内部に静止ディストーションのばらつきを変化させる静止ディストーションばらつき調整手段と、プレートステージ上にあってマスク上のパターンを結像する2次元センサと、2次元センサが撮像した結果に基づき前記有効光源形状調整手段もしくは前記静止ディストーションばらつき調整手段のうち、少なくとも一つを調整する調整部を持つ。調整部は同一パターン内の光強度分布を調整することにより有効光源形状調整手段もしくは静止ディストーションばらつき調整手段を調整する。 (もっと読む)


【課題】光源から出射され被照射体に照射される光の光量を増加させることができる光照射装置を提供する。
【解決手段】紫外線源(光源)としてのランプ40から出射され、該ランプ40の下方に配置された遮光マスクMを透過した紫外線UVを、該遮光マスクMの下方に配置された被照射体としての貼り合わせ基板Wに照射させる紫外線照射装置において、遮光マスクMの上方に設けられた支持部材としてのホルダ部材24に吊下支持され、光透過性を有し、真空吸引により遮光マスクMを吸着保持する吸着管30を備える。 (もっと読む)


【課題】複数の露光ヘッドを備える露光装置において、構成を簡単にし、小型化を可能とする。
【解決手段】単一のレーザー光源と、このレーザー光源からの光を略等分に分割して複数の露光ヘッドに導光する光学路とを備えることにより、各露光ヘッドの被露光基板への照度(露光量)のばらつきが抑えられ、被露光基板上にパターンを露光むらが少ない状態で露光することが可能となった。 (もっと読む)


【課題】 複数の棒状の高圧放電ランプが、各々のランプ中心軸が一方向に延びる状態で、当該一方向に並んで配置された構成のものにおいて、ランプ点灯初期時と同様の均一な照度分布が長時間の間安定して得られる光照射装置を提供すること。
【解決手段】 この光照射装置は、各々バルブの内部に一対の電極が対向配置された複数の棒状の高圧放電ランプが、各々のランプ中心軸が一方向に延びる状態で、当該一方向に並んで配置された構成のものにおいて、隣接する2つの高圧放電ランプの各々の端部には、遮光体が設けられており、当該2つの高圧放電ランプの一方の高圧放電ランプが他方の高圧放電ランプに対して、均一な照度分布が得られるよう前記一方向に調整された位置に配列されている。 (もっと読む)


【課題】エネルギー効率の高い光源装置およびランプ点灯方法を提供すること。
【解決手段】本発明の光源装置は、発光管内に陽極と陰極とが対向配置され、当該発光管内に水銀が封入されたショートアーク型水銀ランプと、前記ショートアーク型水銀ランプに定格電力を供給する定格電力点灯モードと、前記ショートアーク型水銀ランプに定格電力より低い電力を供給する低電力点灯モードとを切り替えて前記ショートアーク型水銀ランプを点灯させるよう、当該ショートアーク型水銀ランプに電力を供給する給電装置とを具えてなる光源装置において、前記給電装置は、前記低電力点灯モードから前記定格電力点灯モードへの移行が150ミリ秒間以内で行われるよう電力を供給するものであることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】取り付け機構に対する放電ランプの装着等を容易に短時間に行うことができる光源装置を提供する。
【解決手段】発光部を形成するガラス管25とこれに連結された口金部26とを有する放電ランプ1と、口金部26を介して放電ランプ1を保持する取り付け装置31とを備えた光源装置であって、口金部26は、取り付け装置31の位置決め板50と当接するフランジ部26aと、フランジ部26aを位置決め板50に押圧する押圧力が付勢される固定部26hとを有し、取り付け装置31は、圧縮コイルばね44Aによって固定部26hを付勢する固定用アーム55Aを有する。 (もっと読む)


【課題】高精度のパターンを形成しながら、スループット向上を実現する。
【解決手段】基板に直接描画パターンを形成することが可能な露光装置の投影光学系に画像分割光学系27を設ける。画像分割光学系27により、第一結像光学系によって形成されたパターン像MPを第1結像光学系の結像面FSにおいて3分割し、3つの分割パターン像を、主走査方向Xに関して互いに間隔を空けながら、副走査方向Yに沿って並ぶように形成する。 (もっと読む)


【課題】放電管に外管が被嵌された高圧放電ランプの外周に水冷管が設けられた高圧放電ランプの両端に、保持ブロックが着脱自在に設けられてなる水冷式放電ランプユニットにおいて、保持ブロックを樹脂製としても、水冷管の端部から紫外光が放射されて保持ブロックの壁面を劣化させることのないようにした水冷式放電ランプユニットを提供することである。
【解決手段】前記保持ブロックは樹脂製であって、該保持ブロックの壁面に対向する前記水冷管の端部には紫外光遮蔽部材が設けられていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】
硬化対象が酸素阻害などの影響を受けやすい紫外線硬化型樹脂などであったとしても、酸素阻害の影響を比較的小さくすることができる光照射モジュール、光照射装置および印刷装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明に係る光照射モジュールは、相対的に一方向に移動する対象物に光を照射するための光照射モジュールであって、前記対象物の移動方向の上流側に位置する第1の発光素子群および下流側に位置する第2の発光素子群を有し、前記第1の発光素子群に含まれるそれぞれの発光素子へ供給される第1電流と、前記第2の発光素子群に含まれるそれぞれの発光素子へ供給される第2電流とを異ならせることにより、前記第1の発光素子群の発光量と前記第2の発光素子群の発光量とを異ならせる。 (もっと読む)


【課題】
液晶露光装置において、フォトマスクの変形に伴うガラス基板上のパターンの変形を避けて液晶パネルの品質を向上させると共に、フォトマスクとガラス基板間の圧力変動によって生じるマスク変形が小さくなるまで待つことなく露光開始可能とすることで生産性をも向上する。
【解決手段】
フォトマスク511と対向するガラス基板513を支えるチャック515の裏面にひずみ測定手段601を設置し、フォトマスク511とガラス基板513との間隔を調整するときの圧力変動を前記ひずみ測定手段601で測定し、このひずみ値が、予め設定したひずみ値になり、かつ、その時間微分値が負の値をとるときにフォトマスク511のパターンをガラス基板513に転写する。 (もっと読む)


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