【課題】基板面内における現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】基板搬送手段２０と、被処理基板Ｇに対する露光処理空間を形成するチャンバ８と、基板搬送方向に交差する方向にライン状に配列された複数の発光素子Ｌを有し、下方を搬送される被処理基板上の感光膜に対し、前記発光素子の発光により光照射可能な光源４と、前記光源を構成する複数の発光素子のうち、１つまたは複数の発光素子を発光制御単位として選択的に発光駆動可能な発光駆動部９と、前記基板搬送手段により搬送される前記被処理基板を検出する基板検出手段３０と、前記基板検出手段による基板検出信号が供給されると共に、前記発光駆動部による前記発光素子の駆動を制御する制御部４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】物体保持装置に保持された物体を迅速に搬出する。
【解決手段】 基板ホルダ３０の上面上に載置された基板Ｐを該基板ホルダ３０から搬出する基板Ｐの搬出方法は、前記基板ホルダ３０に予め保持された基板トレイ６０に前記基板Ｐを下方から支持させることと、前記基板トレイ６０に前記基板Ｐを吸着保持させることと、前記基板ホルダ３０から前記基板Ｐに対して気体を噴出することと、前記基板Ｐが前記基板トレイ６０に吸着保持され、且つ前記基板Ｐに対して前記気体が噴出された状態で前記基板トレイ６０を前記基板ホルダ３０の上面に平行な方向に沿って相対移動させることにより、前記基板Ｐを前記基板ホルダ３０から搬出することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】複数の基板の露光をより効率的に行うことができ、タクトタイムの短縮を図ることができる露光ユニット及びそれを用いた露光方法を提供する。
【解決手段】露光ユニット１０は、マスクＭを保持するマスクステージ２１と、基板Ｗ１，Ｗ２をそれぞれ保持する第１及び第２のワークチャック２２，２３を備える基板ステージ２４と、第１及び第２のワークチャック２２，２３に保持された基板Ｗ１，Ｗ２がマスクＭと対向するように、第１及び第２のワークチャック２２，２３を同期して移動可能なステージ移動機構２５と、マスクＭを介して基板Ｗ１，Ｗ２に露光光を照射する照明光学系と、を備える露光装置１１と、基板Ｗ１、Ｗ２をそれぞれ保持し、且つ、第１及び第２のワークチャック２２，２３に対して基板Ｗ１，Ｗ２を搬入及び搬出可能な第１及び第２の搬送装置１２，１３と、基板Ｗ１，Ｗ２の搬入及び搬出動作が同期して行われるように第１及び第２の搬送装置１２，１３を制御する制御部２０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】基板ステージ上の基板の搬出を迅速に行う。
【解決手段】 基板ホルダ３０ａには、基板Ｐの搬送に用いられる基板トレイ４０ａを収容するＸ溝３１ｘが形成されている。また、Ｘ溝３１ｘ内には、基板トレイ４０ａを押圧して基板トレイ４０ａと共に基板Ｐを移動させる基板搬出装置７０ａが設けられている。このため、基板Ｐに対する露光処理が終了した後、基板Ｐの交換のために基板ステージ２０ａを基板交換位置に位置させる前に基板Ｐの搬出動作を開始することができる。 （もっと読む）

【課題】基板ステージ上の基板の交換を迅速に行う。
【解決手段】 基板ステージ２０ａは、基板ホルダ３０ａから加圧気体を噴出して基板Ｐ_１を浮上させ、基板ホルダ３０ａに内蔵された基板搬出装置７０ａを用いて、基板ホルダ３０ａの上面（基板載置面）をガイド面として基板Ｐ_１を水平面に沿って移動させることにより基板ホルダ３０ａから搬出する。このため、基板Ｐ_１に対する露光処理が終了した後、基板交換のために基板ステージ２０ａを基板交換位置に位置させる前に基板Ｐ_１の搬出動作を開始することができる。次に露光予定の別の基板Ｐ_２は、基板Ｐ_１の搬出動作が行われる際、基板ホルダ３０ａの上方に待機しており、基板Ｐ_１の搬出動作完了後に基板ステージ２０ａが有する数の基板リフト装置４６ａに受け渡される。 （もっと読む）

【課題】大型のフィルム基板を露光チャックに平坦に搭載して、露光品質を向上させる。
【解決手段】各フィルム基板搬送装置３０，４０のアーム３１，４１を上昇させて、フィルム基板１を露光チャック１０、補助チャック１１及び補助チャック１２から持ち上げる。露光チャック１０、補助チャック１１及び補助チャック１２の表面にそれぞれ設けた複数の気体吹き出し孔１４から気体を吹き出して、フィルム基板１を浮上させながら、各フィルム基板搬送装置３０，４０のアーム３１，４１を移動して、フィルム基板１を補助チャック１１から露光チャック１０へ搬送し、またフィルム基板１を露光チャック１０から補助チャック１２へ搬送する。そして、各フィルム基板搬送装置３０，４０のアーム３１，４１を下降させて、フィルム基板１を露光チャック１０、補助チャック１１及び補助チャック１２に搭載する。 （もっと読む）

【課題】２層の反転装置を用いて、基板の搬送、反転を合理的に行い、１台のレーザ露光機を用いるものでありながら、高い生産性で基板の両面露光を行う。
【解決手段】レーザ露光機８で露光された基板Ｂは、ハンドリング装置３１により反転装置１９の上方位置Ｕにある基板保持路２２_１に搬入される。同時に、待機部３５で待機している反転済の基板Ｂは、ハンドリング装置５６により露光台９上に移送される。両面露光済の基板Ｂは、下方位置Ｄの基板保持路２２_２から排出部３６に排出される。 （もっと読む）

【課題】ワークの交換時間を短くして、装置の利用効率を上げること。
【解決手段】ワークトレイ６Ａ〜６Ｄを複数用意し、ワークトレイ６Ａ〜６Ｄを基台５に対して着脱可能とし、基台５に、ワークトレイ６Ａ〜６Ｄの内の一つを装着してワークステージ４を構成する。ワークトレイ６Ａ〜６Ｄを基台５から分離し、例えばワークトレイ６Ａに複数のワークＷを載せて基台５上に置き、ワークＷに対して一枚毎にアライメントを行い、光照射部１からの光をマスクＭを介してワークＷに対して照射し、逐次露光処理を行う。ワークトレイ６ＡのワークＷの露光処理をしている間に、他のワークトレイ６Ｂ〜６Ｄ上に未処理のワークＷを載せる作業を行い、上記露光処理が終わると、ワークトレイ６Ａを取り外し、未処理のワークが載せられたワークトレイ６Ｂ〜６Ｄを基台５に載せて露光処理を行う。また、同時にワークトレイ６Ａから露光済みのワークＷを回収する。 （もっと読む）

【課題】露光対象部材が連続的に供給される場合においても、マスク位置調整用のアライメントマークを露光対象部材の蛇行に応じて変化させ露光対象部材に対するマスクの位置を精度よく調整することができ、高精度で安定的な露光が可能な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１には、露光光の照射位置よりも上流側にアライメントマーク形成部１３が設けられており、露光対象部材２に移動方向に対して断続的な指標が付されたアライメントマーク２ａを形成する。検出部１４は、露光対象部材２の移動方向に交差する方向におけるアライメントマーク２ａの指標位置における位置を検出する。そして、検出部１４の検出結果によりアライメントマーク２ａの蛇行量を演算し、アライメントマーク形成部１３を移動させる。又は、検出部１４が露光光の照射位置に対応するように配置されている場合は、マスク１２の位置を調整する。 （もっと読む）

【課題】露光対象部材が連続的に供給される場合においても、マスク位置調整用のアライメントマークを露光対象部材の蛇行に応じて変化させ露光対象部材に対するマスクの位置を精度よく調整することができ、高精度で安定的な露光が可能な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１には、露光対象部材２の搬送方向における露光光の照射領域よりも上流側に第１マーク形成部１７が設けられており、蛇行検出用マーク２ｂを検出し、検出部１４は、露光対象部材２の移動方向に交差する方向の蛇行検出用マーク２ｂを検出し、これに基づいて演算された露光対象部材２の蛇行量を打ち消すように、アライメントマーク形成部１３を移動させ、アライメントマーク２ａを露光対象部材２に対して相対的に直線状に形成する。 （もっと読む）

【課題】専用のプリアライメント装置を設けることなく、短時間で且つ精度良く基板を基板ステージに搭載して、タクトタイムを短縮することができる露光ユニットを提供する。
【解決手段】露光ユニット１は、露光装置ＰＥと、ロボット８７と、制御部８８と、処理ユニット８４に供給された基板Ｗの位置情報を検出するセンサ１００ａ，１００ｂ，１００ｃと、を備える。制御部８８は、センサ１００ａ，１００ｂ，１００ｃの検出結果と所定の基準位置とのズレ量を算出し、当該ズレ量に基づいてロボット８７のアーム部９０を処理ユニット８４から基板ステージ２０に移動しながら、基板Ｗを基準位置にプリアライメントする。 （もっと読む）

【課題】ロードロック装置に供給した気体の温度が上昇した場合でも、スループットの点で有利なロードロック装置を提供する。
【解決手段】ロードロック室を含むロードロック装置であって、前記ロードロック室を真空状態にするポンプと、前記ロードロック室にガスを供給するガス供給手段と、前記ガスを冷却する冷却手段と、を有し、前記冷却手段は、真空状態にされた前記ロードロック室に前記ガスが供給されて前記ガスの温度が上昇する分だけ前記ロードロック室の基準温度より低い温度に前記ガスを冷却する、ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】交差する２軸方向に移動体を駆動させるときに生じる反力により、移動体が振動することを抑制することが可能なステージ装置を提供することを課題とする。
【解決手段】駆動手段２１２によってＹ方向に駆動されるＹ移動体２０２と駆動手段２１３によってＸ方向に駆動されるＸ移動体２０９と設置面６０に防振手段２０８を介して設置される基板ステージ定盤２０８とから構成されるステージの本体と、この本体と所定の間隔を維持した状態で前記Ｙ方向の駆動に同期して追従移動する補助ステージを備え、前記本体のＹ方向の駆動で生じる反力を設置面６０に逃がすと共に、前記補助ステージは、前記本体のＸ方向の駆動で生じる反力を案内手段２１６、支持手段２１７を介して設置面６０に逃がすように構成されたステージ装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】基板支持装置上に載置された基板の位置を修正する。
【解決手段】 基板Ｐは、基板トレイ９０上に載置された状態で基板搬入装置８０により搬送される。基板搬入装置８０は、搬送時における基板Ｐの移動経路上に基板ＰのＸ軸方向、Ｙ軸方向、及びθｚ方向に関する位置情報を計測する基板位置検出装置を有し、その計測結果に基づいて押圧装置８８ａ、８９ａ、８８ｂ、８９ｂを用いて基板トレイ９０上で基板Ｐの位置調整（アライメント）を行う。この際、基板トレイ９０は、基板Ｐの下面に対して加圧気体を噴出し、該基板Ｐを浮上支持する。 （もっと読む）

【課題】ステージ装置上から基板を迅速に搬出する。
【解決手段】 基板搬出装置６０は、基板が載置された基板トレイ９０を吸着保持して、水平面に平行にスライドさせることにより、基板トレイ９０を基板ホルダ５０から搬出し、エア浮上装置６８上に載置する。また基板搬出装置６０では、基板トレイ９０が進行して来る前に予めエア浮上ユニット６８を、その上面が基板ホルダ５０に近い側が低くなるように傾斜させておき、基板トレイ９０の進行に応じて水平に姿勢を制御する。基板トレイ９０は、傾斜したエア浮上装置６８のガイド面に対して進入するので、基板ホルダ５０のエア浮上装置５５からエア浮上装置６８にスムーズに載り移ることができる。従って、基板トレイ９０を高速でスライドさせることができ、基板の搬出を迅速に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】アライメントマークの位置の検出精度を低下させることなくアライメントマークの位置の検出に要する時間を短縮することが可能なアライメントマークの検出方法および配線回路基板の製造方法を提供する
【解決手段】カメラ６２により得られる画像の範囲内にアライメントマークＡＭが存在しない場合に、画像の範囲内に存在する識別マークおよび予め記憶されたアライメントマークＡＭと識別マークとの位置関係に基づいてアライメントマークＡＭの座標が算出される。算出されたアライメントマークＡＭの座標に基づいてカメラ６２の撮像範囲内にアライメントマークＡＭが位置するために長尺状基材１００ａを移動させるべき距離が算出され、長尺状基材１００ａが算出された距離移動される。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクと基材との位置合わせの時間を短縮することが可能なフォトマスクと基材との位置合わせ方法およびそれを用いた配線回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】露光システムは、露光機６０および画像処理装置６４を備える。露光機６０は、複数のカメラ６２ａ，６２ｂを含む。カメラ６２ａ，６２ｂは、フルスキャンモードおよびパーシャルスキャンモードに選択的に設定可能に構成される。カメラ６２ａ，６２ｂは、フルスキャンモードでは、得られた画像データの全てを転送し、パーシャルスキャンモードでは、得られた画像データから一部を抽出して転送する。画像処理装置６４が、カメラ６２ａから転送される画像データを用いた処理とカメラ６２ｂから転送される画像データを用いた処理とを並列的に行う。 （もっと読む）

【課題】載置ずれや変形を生じさせることなく基板の受け渡しを行うこと。
【解決手段】基板Ｐが載置される載置部９ａが設けられた基板ホルダ９との間で基板Ｐの受け渡しを行う受け渡し機構５０である。載置部９ａに対して上下動する複数の上下動部材５５と、少なくとも２つの上下動部材５５に架設され、基板Ｐを支持する少なくとも１つの支持部材５１と、を備えている。また、上下動部材５５「は、支持部材５１における基板Ｐとの接触部が載置部９ａに対して突没するように上下動する。 （もっと読む）