【課題】露光装置の解像限界よりも狭い線幅を有するラインパターンを形成可能な微細パターン形成方法を提供する。
【解決手段】エッチングの対象となる薄膜の上に、ネガ型のフォトレジスト膜を形成する工程と、前記フォトレジスト膜を減圧雰囲気下で乾燥する工程と、使用する露光装置における解像限界よりも幅が小さい露光光透過部を有するフォトマスクを用いて、乾燥された前記フォトレジスト膜に対し前記露光光を照射して当該フォトレジスト膜を露光する工程と、露光された前記フォトレジスト膜を現像して当該フォトレジスト膜からエッチングマスクを形成する工程と、前記エッチングマスクを用いて前記薄膜をエッチングする工程とを含む、微細パターン形成方法が開示される。 （もっと読む）

【課題】露光後の熱反応型レジストの再酸化を抑制でき、現像差の減少を抑制して微細パターンを正確に形成できる微細パターン形成方法及び露光装置を提供すること。
【解決手段】本発明の微細パターン形成方法は、基材上に設けられ、加熱により還元反応する熱反応型レジスト材料を含んでなるレジスト層にパターンを形成する微細パターン形成方法であって、レジスト層の所定の領域を加熱還元する加熱期間と、不活性雰囲気下又は還元性雰囲気下において、レジスト層の所定の領域を冷却する冷却期間と、を含む還元工程と、レジスト層を現像する現像工程と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

マスク投影技術により固体の表面に微細構造を形成するためのレーザー設備のマスク及び／又はダイヤフラムを製造するための方法において、レーザー放射を散乱させる決められた不透過面部を、マスク及び／又はダイヤフラム基材に、後者をフェムト秒、ピコ秒、又はフッ素レーザー光を用いて粗化・改変させることにより製造する。このようなマスク及びダイヤフラムは、その寿命と精度が大幅に改善され、例えば、固体の表面の回折格子アレイに配置されて、高輝度のスペクトル色及び混合色を生成するのに用いられるブレーズド格子を形成するのに使用することができる。
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【課題】基板上の複数箇所に遮光マスクを用いて露光を行う際に、基板と遮光マスクの位置合わせが1回のみで、複数箇所の露光を精度良く、しかも短時間で行うことが可能な偏光露光装置を提供する。
【解決手段】被媒体情報をもとに、１回のアライメントで設定した位置を基準として、遮光マスク又は基板ステージの機械動作によって露光位置へ移動し、設定した露光位置で停止し、露光位置に移動した後、露光条件算出機構で算出された露光条件をもとに露光を行う。 （もっと読む）

【課題】４００〜４１０ｎｍの波長の露光光に対する感度分布が略一定で、パターン再現性に優れ、パターン形状のバラツキが極めて抑制され、明室環境下の取り扱いが可能な感光性組成物、該感光性組成物を積層したパターン形成材料及び感光性積層体、パターン形成装置、パターン形成方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に少なくとも感光層を有し、該感光層が、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤及び増感剤を含み、該感光層が３８０〜４２０ｎｍの波長域に分光感度の極大値を有するとともに、４００ｎｍにおけるパターン形成可能な最小露光量Ｓ₄₀₀が２００ｍＪ／ｃｍ²以下であり、４１０ｎｍにおけるパターン形成可能な最小露光量Ｓ₄₁₀が２００ｍＪ／ｃｍ²以下であり、かつ、０．６＜Ｓ₄₀₀／Ｓ₄₁₀＜１．４を満たす感光性組成物、該感光性組成物を積層したパターン形成材料である。 （もっと読む）

【課題】露光量が少ない場合にも、基板上に多種類の高分子を形成できるバイオチップの製造に好適な酸転写樹脂組成物及びこれを用いたバイオチップの製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記式（１）に示す構造単位を有する重合体と、（Ｂ）感放射線性酸発生剤とを含有する酸転写樹脂組成物。


（式（１）中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基を示し；Ｒ²は置換基を有していてもよいアリーレン基を示し；Ｒ³及びＲ⁴はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリル基又はフェニル基を示すか、あるいはＲ³及びＲ⁴が窒素原子と一緒になって環状アミノ基を形成してもよい。ｎは０〜８の整数を示す。） （もっと読む）

【課題】 照射領域変更などの理由でハエの目レンズを交換する場合にハエの目レンズ固有の照度むらを補正し、照度むら調整のダウンタイムを無くし、生産性を向上させる照明光学装置を提供する。
【解決手段】 光源からの光を照明光学系に入射し、該照明光学系からの照明光により被照射面を照射する照明光学装置であって、複数のハエの目レンズと、光路内において前記ハエの目レンズを他のハエの目レンズに交換するハエの目レンズ交換手段と、前記複数のハエの目レンズと同数の、照射範囲を規定するスリットと、光路内において前記スリットを他のスリットに交換するスリット交換手段と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高密度かつ高テーパ角の微細凹凸形状を形成することができる微細構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】非感熱性の無機レジストを主成分とする感熱層を基材上に形成し、感熱性の無機レジストを主成分とする非感熱層を感熱層上に形成する。感熱層を露光、現像し、感熱層に所定のマスクパターンを形成する。マスクパターンを用いて非感熱層をエッチングすることにより、微細凹凸パターンを基材上に形成する。 （もっと読む）

一部の実施形態において、複合的なレーザー投影パターニング（ＬＰＰ）及びセミアディティブパターニング（ＳＡＰ）を用いた同一層マイクロエレクトロニクス回路パターニングが提供される。これに関して紹介される方法は、ラミネートされた基板表面の第１密度領域を、ＬＰＰを用いてパターニングし、前記ラミネートされた基板表面の第２密度領域を、ＳＡＰを用いてパターニングし、且つ前記ラミネートされた基板表面の第１及び第２密度領域をめっきすることを含み、第１及び第２密度領域に跨って延在する造形部が直接的に結合される。その他の実施形態も開示される。
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【課題】ニアフィールド露光と無機レジストプロセスを組み合わせて飛躍的な高密度記録を実現できるようにする。
【解決手段】原盤のリソグラフィ工程において、予め無機レジスト層の表面上へ保護薄膜を形成し、露光後に保護薄膜を剥離した上で現像を行う。無機レジスト層が保護薄膜に覆われた状態で露光を行うことで、無機レジスト上へ直接レーザを照射した際にレジスト材料の揮発でソリッドイマージョンレンズ表面が汚れてしまい、原盤−レンズ間のギャップ制御が不安定になる問題を回避する。さらに保護薄膜によって、露光部分の無機レジストの隆起を抑制することで、無機レジスト記録後の数１０ｎｍの隆起現象によって原盤とソリッドイマージョンレンズ間のギャップが塞がって衝突が起こる危険性を回避する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、複数のラインパターンを短時間で形成することができるフォトレジスト層の加工方法およびパターン形成基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】フォトレジスト層の加工方法およびパターン形成基板の製造方法は、所定の中心軸２Ａから等距離に配置される複数の設置面２２を有する支持部材２の各設置面２２に、フォトレジスト層６２を有する複数の基板６１を固定する設置工程と、フォトレジスト層６２に対してレーザ光を出射するヘッド３および支持部材２の少なくとも一方を中心軸２Ａ回りに回転させるとともに、ヘッド３および支持部材２の少なくとも一方を中心軸２Ａに沿うように移動させながら、ヘッド３からレーザ光を出射する露光工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 記録材料にしわ等を生ずることなく、画像を正確に記録することが可能な画像記録装置を提供すること。
【解決手段】 巻き出しローラ１１と、巻き取りローラ１４と、巻き出しローラ１１から巻き出され巻き取りローラ１４により巻き取られることで一方向に移動する記録材料１をその下面から吸着保持した状態で往復移動する吸着テーブル３１と、吸着テーブル３１と同期して移動する一対の剥離ローラと、記録材料１の移動方向と交差する方向に移動する記録ヘッド３４と、第１のダンサーローラ機構１２と、第２のダンサーローラ機構１３と、ニップローラ３５とを備える。 （もっと読む）

【課題】基材との密着性に優れた金属粒子含有膜を備え、種々の波長に対する遮光性に優れる遮光部材の作製方法を提供すること。
【解決手段】（ａ）露光によりラジカルを発生しうる基材上に、ラジカル重合可能な不飽和部位と金属イオン又は金属塩を吸着する部位とを有する化合物を接触させた後、露光を行うことにより、前記基材上に直接結合したポリマーを生成させてポリマー層を形成する工程と、（ｂ）該ポリマー層に金属イオン又は金属塩を付与する工程と、（ｃ）該金属イオン又は金属塩中の金属イオンを還元して、体積平均粒径が５ｎｍ以上５００ｎｍ以下の金属粒子を析出させる工程と、を有することを特徴とする遮光部材の作製方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、特に、フレキソ印刷、エンボス印刷、輪転グラビア印刷の分野に使用でき、且つ基層、基層に固定する感光性材料層からなるレリーフ画像構造の製造方法の提供。
【解決手段】方法は、レリーフにしなければならない領域を所定の波長を有する光に露光して選択的なレチキュレーションを生じさせることで、感光層に画像を形成するタイプである。方法は、基層（５）の方向に広がるほぼピラミッド形状となる点の集合として画像を形成することを特徴とする。本発明は、フレキソ印刷分野のレリーフ画像の作製に使用できる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、露光により表面形状や反射率の変化を伴う無機レジストを用いた場合でも、高精度な焦点位置制御を可能にし、所定の高密度パターンを高速で露光可能な無機レジストによる露光方法を提供することにある。
【解決手段】本発明は、基板と、基板上に形成されたレジストと、露光光となる第１の光ビームと、第１の光ビームの焦点位置を制御するための焦点位置制御用の光となる第２の光ビームと、第２の光の前記レジスト面からの反射光を受けて第１の光ビームの焦点位置制御を行う焦点位置制御手段とを有し、基板を、露光光に対して相対的に移動させながら、基板上に形成されたレジストを露光する露光方法であって、第２の光ビームが、レジストの第１の光ビームの露光領域及び記第１の光ビームにより露光された領域以外の領域を照射することを特徴とする露光方法である。 （もっと読む）

マスク形成性フィルムは、画像形成可能層とキャリアシートとの間に透明層を有し、この透明層は、キャリアシートの屈折率より、又はこれとキャリアシートとの間の任意選択の直接隣接した層の屈折率より小さい（少なくとも０．０４小さい）屈折率を有する。この低屈折率層は、レリーフ画像固体領域中により急勾配の肩角を与えるように、マスク画像転写中の入射輻射線の経路を変化させる。 （もっと読む）

【課題】感光性樹脂組成物を用いたフォトリソグラフィーにより、工程が簡便で、工程歩留まりが高く、高精度な中空構造を有する成形体を安価に作成する方法を確立すること。
【解決手段】基板上に、波長が４００ｎｍ以上の光に感光しない第１の感光性樹脂層を形成し、第１のマスクを介して波長が４００ｎｍ未満の光を照射する工程、現像処理を施すこと無く、前記工程により感光処理された第１の感光性樹脂層の上に、波長が４００ｎｍ以上の光に感光する固形分９０重量％以上の固形又は半固形の第２の感光性樹脂層を形成し、第２のマスクを介して波長が４００ｎｍ以上の光を照射する工程、前記第１及び第２の感光性樹脂層に一括で加熱処理を施す工程、及び前記第１及び第２の感光性樹脂層の未感光部を一括で現像する工程を有する、中空構造を有する成形体の製造法。 （もっと読む）

【課題】短時間で効率よく各着色層を形成でき、低コストで高品質なカラーフィルタ基板を製造することができる露光方法および露光装置を提供する。
【解決手段】感光剤Ｐａが塗布されたガラス基板Ｗを基板ステージ２０に載置し、感光剤Ｐａが厚さの異なる３つのレジスト層Ｒ，Ｇ，Ｂを形成するように、ガラス基板Ｗに照射されるエネルギーを変えながらマスクＭを介してガラス基板Ｗを露光する。 （もっと読む）

基材と、光熱変換層と、パターン指示層とを有する、レーザー誘起サーマルイメージング（ＬＩＴＩ）ドナーフィルム、及びそれらを調製する方法。パターン指示層は、自己集合単分子層領域、親水性及び疎水性領域、正若しくは負に帯電した領域、又は一連の隆起した若しくは引っ込んだ形状のパターンを包含することができる。それはまた、電荷パターン及び磁気パターンを生成するために使用され得る。パターン指示層は、それに適用された転写層のパターニングをもたらし、テンプレート転写層（templated transfer layer）を結果として生じる。画像化されるとき、ＬＩＴＩドナーフィルムは、テンプレート転写層（templated transfer layer）の少なくとも一部分を永久的レセプターに転写すると同時に、転写された部分中のパターンを実質的に原型を保って維持する。
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【課題】複数の深さ／高さを有する凹凸パターンが形成された光ディスク原盤を、がたつき無く高精度に、かつプロセスの増加を抑え高歩留まりに安定して作製することが本発明の課題である。
【解決手段】昇温で状態変化する無機レジスト材料を用い、基板上にそれぞれ異なる温度で状態変化する第１無機レジストと第２無機レジストを順次成膜する成膜工程と、成膜後の基板を露光し、第１無機レジストまたは第２無機レジストのどちらか一方のみを状態変化させる第１露光工程と、第１無機レジストと第２無機レジストの両方を状態変化させる第２露光工程と、露光された基板を現像し複数の深さ／高さの凹凸パターンを形成する現像工程を少なくとも有する原盤製造方法によりこれを解決する。 （もっと読む）