【課題】
本発明の目的は、基板に所定パターンの薄膜を精細に塗布することができる薄膜塗布装置を提供することにある。
【解決手段】
ｘｙｚ直交座標系を定義したとき、ｚ方向に向けて薄膜材料を吐出する複数のノズルがｙ方向に配列するノズル列を含む複数のノズルヘッドと、前記複数のノズルヘッドを保持するホルダと、を含み、前記ホルダは、前記複数のノズルヘッドを取り付ける際に、前記複数のノズルヘッド各々のｙ方向に対する配置位置を規定することができる位置決め機構を有する。 （もっと読む）

【課題】光源から出射され被照射体に照射される光の光量を増加させることができる光照射装置を提供する。
【解決手段】紫外線源（光源）としてのランプ４０から出射され、該ランプ４０の下方に配置された遮光マスクＭを透過した紫外線ＵＶを、該遮光マスクＭの下方に配置された被照射体としての貼り合わせ基板Ｗに照射させる紫外線照射装置において、遮光マスクＭの上方に設けられた支持部材としてのホルダ部材２４に吊下支持され、光透過性を有し、真空吸引により遮光マスクＭを吸着保持する吸着管３０を備える。 （もっと読む）

【課題】直描露光方式を用いて透過型用着色層と反射型用着色層とを形成する際の工程簡略化を図る。
【解決手段】基板上に着色フォトレジスト層を形成し、着色フォトレジスト層の上方からレーザー光を所定の露光領域に照射することでこの着色フォトレジスト層を露光し、次いで現像による未露光部の除去を行い、現像が終了した着色フォトレジスト層を加熱・焼成することでこの着色フォトレジストからなる透過型用着色層と前記反射型用着色層とを形成する。この際、透過型用着色層と反射型用着色層とに対応する露光領域を細分化し、これら透過型用着色層と反射型用着色層とが加熱後において所定の膜厚となるように、細分化された露光領域の個々についてレーザー光の照射を選択的に行う。 （もっと読む）

【課題】露光工程時において専用のマスク板を必要としないパターン形成方法を提案する。
【解決手段】配線パターン状にニッケル膜２６を含むクロム・ニッケル積層体２７が形成された石英ガラス基板１１の表面１１ａ側にネガレジスト３１をコーティングする。その後、ガラス基板１１の裏面１１ｂ側から露光光３２を照射して、クロム・ニッケル積層体２７をマスクとして利用してネガレジスト３１を露光する。その後、露光されなかったネガレジスト３１を除去してニッケル膜２６を露出させる。そして、ニッケル膜２６の上に金を積層し、ネガレジスト３１を剥離して金めっき配線を得る。なお、クロム・ニッケル積層体２７のうちクロム膜２５は省略できる。 （もっと読む）

【課題】表面に凹凸形状を有する金属部品を製造する方法を提供する。
【解決手段】
電鋳用の電極板１０１の表面にレジスト膜１０２を形成する。ついで、縁の少なくとも一部に微細な凹凸１１５が描かれたマスクパターンを有するフォトマスク１０４をレジスト膜１０２の上に重ね、フォトマスク１０４を通してレジスト膜１０２に露光する。ついで、記レジスト膜１０２を現像してレジスト膜１０２にキャビティ１０６をあける。このキャビティ１０６内に電鋳法によって電鋳材料を堆積させ金属部品１０９を製造する。 （もっと読む）

【課題】 感光性材料を高い精度で３次元形状の構造体に形成する。
【解決手段】 基材に塗布された感光性材料に光を照射する光源を有する露光ユニットと、基材が配置されるテーブルとを備え、光源から感光性材料に光が照射されるときに光源または感光性材料が塗布された基材の少なくとも一方が移動されて光源の感光性材料に対する照射位置が変化し、感光性材料の有する最大吸収感度を与える波長から所定の長さずれた波長の光を光源から感光性材料に照射して感光性材料の所望の部分を選択的に露光することで３次元形状の構造体を形成する。 （もっと読む）

【課題】ハンプのない半導体装置の製造方法と、半導体装置と、露光装置とを提供する。
【解決手段】被加工膜２の上に下層レジスト膜となる感光性のネガ型のレジスト材料が塗布される。下層レジスト材料膜に露光光を照射することにより酸を発生させる。ベーク処理を施すことによって下層レジスト膜３ｂが形成される。現像処理を施すことにより、架橋した下層レジスト膜３ｂを残して、未架橋の下層レジスト材料膜の部分が除去される。中間層レジスト膜となる感光性のネガ型のレジスト材料を塗布し、同様の露光処理と現像処理を施すことにより、架橋した中間層レジスト膜４ｂを残して、未架橋の中間層レジスト材料膜の部分が除去される。 （もっと読む）

【課題】回路との化学的結合を増大させて密着力を高めるフォトレジスト、及びこのフォトレジストを用いて高密度の微細回路を形成するプリント基板の製造方法を提供する。
【解決手段】フォトレジスト１００は、第１感光性樹脂層１０１及び第１感光性樹脂層１０１上に形成された第２感光性樹脂層１０２を含み、第１感光性樹脂層１０１が酸作用基を持つ感光性高分子化合物を含む。 （もっと読む）

【課題】従来の電極作成方法であるフォトリソグラフィ、マスクスパッタリングは、工程の簡略化、材料使用効率、コスト、多様な基板サイズに対応において解決するには困難な課題があり、インクジェット方式では高精細度なパターンが得られないという課題がある。
【解決手段】感光性塗布型電極材料を用いて、所望の電極パターンニングを行う。本発明による電極作成工程において、コストメリットがある拡散光を光源とするランプを用いて第１の露光と第１の露光よりも大きい露光量をもった第２の露光を施すことで、所望の電極パターンを得ることができる。拡散光を用いた２回露光プロセスによって、例えばタッチパネルの配線電極作成において従来の方法では解決できない材料使用効率、コスト、多様な基板サイズに対応という課題かつ、インクジェット方式では解決できない高精細電極パターニングを解決するものである。 （もっと読む）

【課題】周期的パターンを露光又は形成する際にスペース部の幅の均一性を高める。
【解決手段】ウエハＷにパターンを形成するパターン形成方法において、ウエハＷの表面に複数のラインパターン４０Ａを含むＬ＆Ｓパターン５４Ａを形成することと、ウエハＷの表面の複数のラインパターン４０Ａの間に配置される複数のライン状のレジストパターン４２ＮＡを含むＬ＆Ｓパターン５６Ａを、ラインパターン４０Ａの線幅とレジストパターン４２ＮＡの線幅とが負の相関を持つように形成することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】遮光性能の高い黒色感光性樹脂を安定的に加工する製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板上に形成された黒色感光性樹脂層に対して露光工程、現像工程、加熱硬化工程を順次行うことにより透明基板上に黒色遮光パターンを形成する黒色遮光パターン基板の製造方法において、該露光工程が、（１）透明基板の黒色感光性樹層が形成された側からパターン露光を行う工程と、（２）透明基板の黒色感光性樹層が形成されていない側から全面露光を行う工程、とを有することを特徴とする黒色遮光パターン基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】開閉蓋の開閉に連動し、押圧板を退避位置と押圧位置との間で移動させることのできるスタンプ作成装置を提供する。
【解決手段】印面Ａｄに露光を行うことで、スタンプ素材に印章画像を形成するスタンプ作成装置１であって、スタンプ素材が着脱自在に装着されるスタンプ装着部１１を開閉する開閉蓋１２と、マスクを印面Ａｄに、押圧する押圧位置Ｐ１と退避する退避位置Ｐ２との間で移動自在に構成された押圧板５０を退避位置Ｐ２に向かって付勢すると共に、退避位置Ｐ２から押圧位置Ｐ１に移動させる押圧板移動機構５１と、動力装置６の回転動力を、押圧板移動機構５１に伝達する押圧板移動ギヤ列５２と、押圧板移動ギヤ列５２に組み込まれ、開閉蓋１２の開閉に連動して、相互に噛み合う任意の移動出力ギヤ５２ｂと移動減速ギヤ５２ｃとの噛み合いを断続させるクラッチ機構９１と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】マスクの送りと押圧板の移動との切り替えを、簡単な構成で、且つ簡単な操作で行うことのできるスタンプ作成装置を提供する。
【解決手段】光硬化性樹脂で構成された印面Ａｄに露光を行うことでスタンプ素材に印章画像を形成するスタンプ作成装置であって、マスクを、印面Ａｄが位置する露光部に送り込むリボン送り機構４２（マスク送り機構）と、露光部に設けられ、マスクを印面Ａｄに押圧する押圧位置Ｐ１と印面Ａｄから退避する退避位置Ｐ２との間で押圧板５０を移動させる押圧板移動機構５１と、リボン送り機構４２および押圧板移動機構５１を駆動する単一の動力源と、動力源の回転動力を、リボン送り機構４２に伝達するリボン送りギヤ列４３（マスク送りギヤ列）と、押圧板移動機構５１に伝達する押圧板移動ギヤ列５２と、リボン送りギヤ列４３および押圧板移動ギヤ列５２に選択的に伝達する動力切替機構６２と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】様々な径のマイクロレンズにも対応可能なように製造プロセスを大幅に簡略化させる。
【解決手段】透明基板２０上に形成されたネガ型の感光性樹脂膜１２の吸収波長よりも長波長の光を透明基板２０の下側から照射し、照射した光に基づいて感光性樹脂膜１２と透明基板２０との界面に近接場光を発生させ、発生させた近接場光に基づく非断熱過程に基づいて感光性樹脂膜１２を底面側から感光させ、さらにこの感光に基づいて感光性樹脂膜１２を底面側から硬化させる底面側露光工程と、感光性樹脂膜１２が形成された透明基板２０を当該感光性樹脂膜１２の硬化温度未満である熱変形温度範囲で加熱することにより、これをマイクロレンズに応じた曲面形状とする加熱工程と、加熱工程後の透明基板２０並びに感光性樹脂膜１２をドライエッチングするドライエッチング工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】シートの凸部の厚さが厚く、欠陥がなく高品質で、かつ、生産性よく製造することができる凸状シートの製造方法および製造装置を提供することを目的とする。
【解決手段】凸部の厚みが５〜１５０μｍ、シート全体の厚みが４０〜２５０μｍおよびピッチの幅が１０〜３００μｍである凸状シートの製造方法において、シートＷの表面に紫外線硬化樹脂液を塗布し、塗布層１０を形成する塗布工程と、フォトマスク２０を用いて、塗布層１０に照射する紫外線の強度を変化することにより、厚みを調整して塗布層１０を硬化する露光工程と、塗布層を現像処理し、未硬化域１２を選択的に溶解する現像工程と、を有することを特徴とする凸状シートの製造方法および製造装置である。 （もっと読む）

【課題】簡易な構造で、印面となる光硬化樹脂を適正に硬化させるための露光状態が判別できるスタンプ基体を提供する。
【解決手段】本発明のスタンプ基体１は、紫外線により硬化する紫外線硬化樹脂１１から成る印面形成部２と、印面形成部２を保持する印面保持部３と、を備え、印面保持部３に、光の強度を測定する光強度測定部５と、光強度測定部５の測定結果および光硬化樹脂の硬化状況を整合させる露光指標部６と、を設けたものである。 （もっと読む）

【課題】モールド作成に好適なネガ型化学増幅レジスト組成物、特にネガ型電子線用化学増幅レジスト組成物、及びこれを用いたモールドの作成方法。
【解決手段】（Ａ）樹脂、（Ｂ）酸の作用により樹脂（Ａ）を架橋する架橋剤及び（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する、モールド作成に用いられることを特徴とする、ネガ型化学増幅レジスト組成物、及びこれを用いたモールドの作成方法。 （もっと読む）

本発明は着色剤、バインダー樹脂、光重合性化合物、光重合開始剤および溶媒を含む着色感光性樹脂組成物において、前記光重合開始剤が３００ｎｍ以下で反応する化合物を含むことを特徴とする３００ｎｍ以下の超短波長露光器を利用した固体撮像素子のカラーフィルター製造用着色感光性樹脂組成物を提供する。前記着色感光性樹脂組成物は、超微細化された着色パターンが具現されたカラーフィルターを製造でき、前記カラーフィルターは固体撮像素子に有用に適用できる。 （もっと読む）

【課題】正のパワーを有するレンズ部を構成する光硬化性樹脂を均一的に硬化させる。
【解決手段】ガラス基板２の表裏両面に対しそれぞれ光硬化性樹脂製のレンズ部４ａ，６ａが形成されたウエハレンズ１の製造方法が開示されている。当該製造方法では、前記光硬化性樹脂に光照射して一方の面に凹レンズ部６ａを形成する工程と、前記光硬化性樹脂に光照射して他方の面に凸レンズ部４ａを形成する工程と、を備え、凸レンズ部４ａが入射光を集束させる正のパワーを有し、その正のパワーを有する凸レンズ部４ａを形成する工程では、それを構成する前記光硬化性樹脂に対し平行光を入射させる。 （もっと読む）

【課題】パターン形成のタクトタイムの短縮を可能とし、またパターン層と誘電体層の一括焼成を可能にし、パターン形成のトータル的低コスト化が可能なパターニング方法を提供することを目的とする。
【解決手段】無機粉末と、ガラスフリットと、溶剤からなる混合物を基板上に塗布する塗布工程と、塗布された前記混合物を乾燥する乾燥工程と、レーザー照射により前記乾燥工程を経た塗膜にパターンを描画するレーザー照射工程と、前記パターンを現像する現像工程とを含むパターン形成方法。 （もっと読む）