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Fターム[2H097GB00]の内容

フォトレジスト感材への露光・位置合せ (19,491) | 投影露光 (1,334)

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【課題】照射光の広域な波長に亘って安定した低反射率を得られ、安定した二重露光防止作用と良好な露光作用を得られるとともに、液晶ディスプレイの軽量化と大型化に対応し、設備費と反射率の低減を図れるとともに、基板ステージの機能低下や故障を未然に防止し、低反射率の液晶基板保持盤を確実かつ安価に製造できる、液晶基板保持盤およびその製造方法を提供する。
【解決手段】母材11表面に低反射率の材料からなる溶射皮膜12を形成したこと。前記溶射皮膜12の表面に透明または半透明の基板Wを保持可能な支持部13を形成した液晶基板保持盤であること。前記溶射皮膜12をアルミナとチタニアを含有する複合材料(Al23−α%TiO2)で形成したこと。前記溶射皮膜12表面の全反射率を、光の波長360〜740nmの範囲に亘って9%以下に形成したこと。 (もっと読む)


【課題】原版を迅速に、かつ安全に搬送するのに有利な搬送システムを提供する。
【解決手段】この搬送システム1は、原版3に形成されたパターンを基板に露光する少なくとも1つの露光装置2と、原版3を保持し露光装置2に搬送する搬送車4と、該搬送車4が走行する走行路5とを有する。このとき、露光装置2が敷設される面から、露光装置2に設置された原版3を搬入する搬入口9までの高さが、搬送車4が走行する面から、搬送車4が原版3を保持して走行する際の原版3の保持位置までの高さよりも高く、搬送車4の保持位置と、露光装置2が搬入口9から原版3を受け取る位置とが一致する。 (もっと読む)


【課題】 本体構造体の弾性変形によるフォーカス精度の低下と、先読み領域の計測計を用いることで発生する基板処理枚数の劣化の両問題について解決する露光装置の提供を行う。
【解決手段】 上記目的を達成するために、本体構造体の位置変位量と、基板ステージ、もしくは原版ステージの位置を用いて、本体構造体が弾性変形をした時のフォーカス変動量をリアルタイムで計算し、予測補正する手段を有することを特徴とする。また、フォーカス変動量の予測補正量を算出する時に、本体構造体に強制的な作用力を加えて本体構造体の変位量を測定すると同時に、投影光学系と基板ステージ間の相対位置、もしくは、投影露光系と原版ステージの相対高さを測定し、回帰分析することで前記補正量の更正を行うことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ワークの交換時間を短くして、装置の利用効率を上げること。
【解決手段】ワークトレイ6A〜6Dを複数用意し、ワークトレイ6A〜6Dを基台5に対して着脱可能とし、基台5に、ワークトレイ6A〜6Dの内の一つを装着してワークステージ4を構成する。ワークトレイ6A〜6Dを基台5から分離し、例えばワークトレイ6Aに複数のワークWを載せて基台5上に置き、ワークWに対して一枚毎にアライメントを行い、光照射部1からの光をマスクMを介してワークWに対して照射し、逐次露光処理を行う。ワークトレイ6AのワークWの露光処理をしている間に、他のワークトレイ6B〜6D上に未処理のワークWを載せる作業を行い、上記露光処理が終わると、ワークトレイ6Aを取り外し、未処理のワークが載せられたワークトレイ6B〜6Dを基台5に載せて露光処理を行う。また、同時にワークトレイ6Aから露光済みのワークWを回収する。 (もっと読む)


【課題】基板の位置を容易に検出可能にする。
【解決手段】本発明の露光装置EXは、露光対象の基板Pに回路パターンを露光する露光部と、基板Pを貫通して設けられ、露光の位置基準となるアライメントマークAMに光を通して基板Pの位置を検出するアライメント系4を備える。アライメント系4は、光を射出する光学部材と、光学部材から射出されてアライメントマークAMを通った光を反射させる反射部とを備えてもよい。 (もっと読む)


【課題】対象面に対して光を照射し、その反射光を検出することによって当該表面の位置を検出するにあたって、適切な出射光量の値を簡易に決定できる技術を提供する。
【解決手段】光源から、光源に対して相対的に移動する対象面(基板Wの上面)に対して、出射光量を変化させながら間欠的に光を照射させるとともに、その反射光の光量分布データを受光部に取得させて、対象面内の異なる位置P(1),P(2),・・・P(N)で反射した反射光の光量分布データをサンプルデータとして次々と取得していく。続いて、取得された複数のサンプルデータのうち、受光量が許容範囲内にあるものを有効データとして抽出し、有効データを与えた最大の出射光量を、位置検出を行う位置検出用光源の出射光量の最適値とする。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、消費電力が少なく長寿命で、かつ必要な波長域の光を必要な光量で効率よく出射して露光することができる露光装置および光源装置が得られる。。
【解決手段】 光源ユニット41は、第1のLEDアレイ411、第1のレンズアレイ412、第2のLEDアレイ413、第2のレンズアレイ414、ダイクロイックミラー415、第3のレンズアレイ416、第1の結像光学系417を備える。第1のLEDアレイ411は、中心波長385nmの光を出射する。第2のLEDアレイ413は、中心波長365nmの光を出射する。ダイクロイックミラー415は、第1のLEDアレイ411の発光部411cの像に第2のLEDアレイ413の発光部413cの像を重ねて合成する。
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【課題】リニアモータの固定子と可動子との衝突を防止する。
【解決手段】Xボイスコイルモータ18xの固定子73に、ストッパブロック70を固定する。ストッパブロック70と可動子71のヨーク75との間のY軸方向に関するクリアランスは、コイルユニット78と磁石ユニット77とのY軸方向に関するクリアランスよりも狭く設定されている。従って、コイルユニット78と磁石ユニット77が接触するよりも前にストッパブロック70とヨーク75とが接触し、これによりコイルユニット78及び磁石ユニット77が保護される。 (もっと読む)


【課題】光ビームにより基板にパターンを描画する際、露光量を均一にして、パターンの描画を精度良く行う。
【解決手段】露光パターン解析装置80の光量データメモリ82は、予め、光ビーム照射装置20から照射される光ビームの光量を、所定の面積の露光領域毎に記憶する。描画制御部71は、光ビーム照射装置20のDMD駆動回路27へ描画データを供給する。露光カウンタ85は、チャック10と光ビーム照射装置20との相対的な位置、及び光ビーム照射装置20のDMD駆動回路27へ供給される描画データから、光ビームの照射回数を所定の面積の露光領域毎に数える。演算回路87は、予め記憶した光ビームの光量と、光ビームの照射回数とから、所定の面積の露光領域毎に露光量を算出する。露光パターン解析装置80は、算出した露光量に基づいて、露光量を補正する。 (もっと読む)


【課題】投影光学系内のミラーにおいて、ミラーの熱変形を効率良く防ぎ、かつ、ミラーの表面近傍での露光光の揺らぎを抑制することで、安定した像性能を得ることのできる露光装置を提供する。
【解決手段】露光光を反射する円形ミラー13と、該円形ミラー13を温調する気体供給装置14とを備えた投影光学系を有する露光装置であって、円形ミラー13は、円弧状の照射領域17を有し、気体供給装置14は、照射領域17を回避しつつ、円形ミラー13の表面の中心領域に位置する送風部19を備え、送風部19は、円形ミラー13の表面に向かう面が塞がれた円筒部材で形成され、温調エア18を、円形ミラー13の表面上を沿うように、円筒部材の側面の全面から円形ミラー13の外周領域に向けて放射状に供給する。 (もっと読む)


【課題】マスクとプレートとの間の高精度な位置合わせが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】マスクの上に配置されたマスクマークとプレートの上に配置されたプレートマークとの間の位置合わせを行う露光装置であって、マスクマーク及びプレートマークを同時に計測して画像を取得する画像計測装置と、画像計測装置により取得された画像からマスクマークとプレートマークとの間の相対的な位置誤差を算出する位置誤差演算装置と、画像計測装置による画像取得期間中に、マスクを搭載したマスクステージ又はプレートを搭載したプレートステージの駆動目標位置に対する位置偏差を計測する偏差計測装置と、偏差計測装置により得られたマスクステージ又はプレートステージの位置偏差と、位置誤差演算装置により得られた位置誤差とを用いて、マスクマークとプレートマークとの間の位置合わせを行うための補正量を算出する補正量演算装置とを有する。 (もっと読む)


【課題】スループットの低下を抑制しつつ焦点ずれの発生を低減する。
【解決手段】露光装置は、投影光学系と、原版ステージと、基板ステージと、筐体の一端面と前記原版ステージの第1基準面間の距離を検出する第1検出器と、筐体の他端面と前記基板ステージのた第2基準面間の距離を検出する第2検出器と、前記筐体の前記一端面と前記他端面間の距離情報を検出する第3検出器と、前記原版ステージのマークと前記投影光学系と前記基板ステージのマークとを通過する光を検出して前記投影光学系のフォーカス状態を計測する計測器と、を備える。前記制御部は、前記第3検出器による前記情報が許容範囲内でないなら前記投影光学系のフォーカス制御を行い、許容範囲内なら前記第1検出器の結果に基づいて前記原版の面が前記投影光学系の物体面に位置し、前記第2検出器の結果に基づいて前記基板が前記投影光学系の像面に位置するようにフォーカス制御を行う。 (もっと読む)


【課題】基板の搬送に用いる基板トレイ上に基板を平面度良く載置する。
【解決手段】複数の第1支持ピン62上に載置された基板Pは、複数の第2支持ピン63によりその下面が押圧されることにより、その撓みが抑制される。そして、撓みの抑制された基板Pが、基板トレイ90上に載置されるので、基板を基板トレイ90上に基板を平面度良く載置できる。基板Pは,基板Pの端部を下方から支持する基板搬送ロボットにより複数の第1支持ピン62上に載置されるために、複数の第1支持ピン62は、基板Pの端部を支持することができず、基板Pは、複数の第1支持ピン62に載置された状態で、その端部が自重により垂れ下がっているが、複数の第2支持ピン63によりその垂れ下がりが抑制される。 (もっと読む)


【課題】オートフォーカス機能を用いることなく、表面平坦性の悪い基板の露光面に所望の像を精度良く結像させる。
【解決手段】基板1は基板支持部材2の上に支持される。投影光学系3と基板1との間には、剛性の光透過性部材4が配置される。光透過性部材4は、基板1の露光面1aに対向する平面4aを有する。平面4aは、投影光学系3の結像面と一致するように位置付けられる。光透過性部材4の平面4aに対して露光面1aを密着および離反させるべく、基板支持部材2を移動させるための駆動機構5が設けられている。 (もっと読む)


【課題】不良デバイスの発生を抑制でき、デバイスの生産性の低下を抑制できる基板処理方法を提供する。
【解決手段】保持部に搬送された基板に対して第1手順に対応した第1処理を実行する基板処理方法は、保持部に搬送された基板の歪みに関する情報を検出することと、歪みに関する情報に基づいて、基板に対して第1処理と異なる第2処理の要否を判断することと、を含む。 (もっと読む)


【課題】大型のマスクの交換を効率良く実施し、かつ、次の露光処理に使用されるマスクに対する異物の付着を防止することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】複数の原版M、MPを保管するストッカと、原版Mを原版ステージ3に向けて搬送する搬送路7とを有し、原版ステージ3に載置する原版Mを交換するための原版交換装置6を備える露光装置1であって、搬送路7は、原版ステージ3上に向けて設置された直線路であり、原版交換装置6は、搬送路7に吊設された、原版Mを保持するハンド11を有する台車9と、搬送路7の直下に設置された待機室8とを備え、第1の原版Mを使用した第1回目の露光処理の間に、第2回目の露光処理で使用される第2の原版MPを、予めストッカから待機室8に搬送し、待機室8で待機させる。 (もっと読む)


【課題】複数の波長の強度を個別に実用レベルで調整できる光源装置を提供する。
【解決手段】輝線スペクトルの一つの輝線波長の光を遮断する反射被膜が、前記光束を反射させるか又は透過させて通過させる複数の開口を有するように設けられ、該複数の開口の最大寸法は、所定波長の光束の照射面内に複数の開口が配置可能である微小な寸法であり、選択された所定波長の光束における少なくとも一つの特性を、微小な開口の形状、間隔及び数により決定する光源装置。 (もっと読む)


【課題】 分解能の高い識別記号を描画しながら周辺領域のフォトレジストを感光させることができる周辺露光装置を提供する。
【解決手段】 周辺露光装置(100)は、第1の方向に移動するとともに、一端側で被露光基板(SW)を載置し他端側で被露光基板(SW)を第1の方向から第1の方向と交差する第2の方向へ回転させるステージ(12)と、ステージの上方に配置され第2の方向に配置された躯体(13)と、躯体の一端又は他端側の一方の側面に第2の方向に移動可能に設けられ周辺領域を露光する周辺露光手段(20)と、躯体の一端又は他端側の周辺露光手段が設けられている側面とは反対側の側面に第2の方向に移動可能に設けられ周辺露光領域にパターンに関する識別記号を描画する記号描画手段(42)と、を備える。そして、被露光基板(SW)が1往復のみ移動することで、パターンの周辺領域を露光するとともに識別記号を描画する。 (もっと読む)


【課題】製造が容易な投影光学系を有する露光装置を提供する。
【解決手段】原版のパターンを投影光学系によって基板に投影して該基板を露光する露光装置において、前記投影光学系は、ミラーアセンブリを含み、前記ミラーアセンブリは、前記投影光学系の光軸を折り曲げる第1反射面を有する第1ミラー部材と、前記光軸を折り曲げる第2反射面を有する第2ミラー部材と、前記第1ミラー部材および前記第2ミラー部材を支持する支持機構とを含み、前記支持機構が位置決めされることによって前記第1ミラー部材および前記第2ミラー部材の相互の位置関係が維持されたまま前記第1ミラー部材および前記第2ミラー部材が位置決めされる。 (もっと読む)


【課題】性能の低下を抑制できるステージ装置を提供する。
【解決手段】ステージ装置は、第1ステージと、第1ステージ上において第1ステージに対して水平面内の第1方向に相対的に移動可能な第2ステージとを有する。ステージ装置は、一端部が第1ステージに接続され、他端部が第2ステージに接続され、第1ステージ及び第2ステージの少なくとも一方の移動に伴って、第1方向と交差する方向に配列された複数のケーブルを保持して屈曲可能なケーブル保持装置と、複数のケーブルの配列方向が傾斜するように、水平面に対してケーブル保持装置を傾斜させて支持する支持機構とを備えている。 (もっと読む)


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