Fターム[2H110CB17]の内容
焼付け、複写における露光制御 (521) | 投影露光、特に写真焼付機 (142) | その他の露光 (2)
Fターム[2H110CB17]の下位に属するFターム
副露光(特性改善のための一様露光)
覆い焼き(意図的な不均一露光) (2)
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副露光(特性改善のための一様露光)
覆い焼き(意図的な不均一露光) (2)
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