【課題】ターゲットに照射されるビームの焦点ずれ及び位置ずれを独立に調整することが可能な光軸調整装置を提供すること。
【解決手段】本発明に係る光軸調整装置は、光学ベースと、受発光素子と、光学部品と、反射部材と、ターゲットと、支持部材とを備える。前記受発光素子と、前記光学部品と、前記反射部材と、前記ターゲットと、前記支持部材とは、前記光学ベース上に接着等により固定されて実装される。前記反射部材は、前記光学ベース上に接着された支持部材と接着されて前記光学ベース上に実装される。前記反射部材は、第１の反射面と、第２の反射面とを備え、ビームは、前記反射部材によって２回反射されて、前記ターゲットに照射される。 （もっと読む）

【課題】別基板に形成された第１光部品と第２光部品の調芯を高精度に行って、固定すること。
【解決手段】第１光部品と、第１光部品に対して固定され、第１光部品に光結合された第２光部品と、第２光部品が第１光部品に対して固定される前において第２光部品を第１光部品に対して移動させて、第１光部品及び第２光部品の調芯用の第１アクチュエータと、を備える光モジュール、光モジュール製造方法、及び光モジュール製造システムにより課題を解決した。 （もっと読む）

【課題】本発明は、マスクレス加工装置に関する。
【解決手段】本発明のマスクレス加工装置は、基板に照射される光を提供する照明光学系と、多数の光変換素子で構成され、前記照明光学系から照射された光を加工パターンに応じて選択的に反射または透過するように当該光変換素子を調節して光量を変換する空間光変調器と、前記多数の光変換素子が前記基板の一つのピクセルに対応して集光するように配列され、前記空間光変調器により変換された光が入射されると、当該ピクセルに前記多数の当該光変換素子によって提供された高エネルギーの光を投射する投射光学系と、前記加工パターンの入力を受け、入力された加工パターンに応じて、前記光源から照射された光を前記多数の光変換素子によって選択的に変換されるように前記空間光変調器を制御する制御部と、を含み、デジタルマスクを用いることにより、マスク使用によるコストが低減し、加工しようとする対象のスケール変形に対する能動的な対応が容易であるだけでなく、前記装置の活用度及び利用度が拡大される。 （もっと読む）

【課題】複数のエネルギー放射源を使用する指向エネルギーシステムにおいて、それぞれのエネルギー放射源から出力されるエネルギー束を目標に当てるための好適な制御を提供する。
【解決手段】指向エネルギーシステム（１）は、複数のレーザ光源（１０）と、複数の指向装置（２０）と、目標情報取得装置（３０）と、制御装置（４０）とを備える。複数の指向装置（２０）は、複数のレーザ光源（１０）のそれぞれから出力されるレーザビーム（１１）の照射方向を変える。目標情報取得装置（３０）は、目標（１００）の方向を特定するための情報を含む目標情報（ＴＡＲ）を取得する。制御装置（４０）は、複数のレーザ光源（１０）のそれぞれから出力されるレーザビーム（１１）が目標（１００）に照射されるように、目標情報（ＴＡＲ）に基づいて複数の指向装置（２０）を制御する。 （もっと読む）

本発明は、レーザアブレーションマイクロリソグラフィに関する。具体的には、画素毎に複数のミラーを使用して、ミラーに損傷を与えない程度にＳＬＭミラー面上のエネルギー密度を維持しつつ、レーザアブレーションを容易にするエネルギー密度にエネルギーを集中させる、新たなＳＬＭ設計およびパターニング方法を開示する。複数のマイクロミラーは、現行のＤＭＤ装置をはるかに超える非常に高い周波数で再設定することができる。
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【課題】従来のランプに代え、固体光源をその光源として採用するのに適した投写型表示装置の構造を提供する。
【解決手段】白色光を射出する光源ユニットと、当該光源ユニットからの白色光をＲ（赤色），Ｇ（緑色），Ｂ（青色）の３原色光に分離する光分離光学系と、分離されたＲ，Ｇ，Ｂの各偏光光を、それぞれ、映像信号に応じて光変調してＲ，Ｇ，Ｂの各光学像を形成するＲ，Ｇ，Ｂの光変調手段と、当該Ｒ，Ｇ，Ｂの光変調手段により形成された各光学像を光合成する光合成手段と、当該合成された光学像を拡大して投射する投射手段とを備えた投写型表示装置において、前記光源ユニットは、固体発光素子からの励起光を含んだ点光源から出射した白色光を、前記Ｒ，Ｇ，Ｂの光変調手段に射出する。 （もっと読む）

【課題】所望する光反射面を有するマイクロミラーアレイを製造すること。
【解決手段】基板３に支持部４を介して傾動可能に支持される可動板５の上面側に、光反射面２が設けられる金属柱２０を形成する際、可動板５の上面側を露出させる開口４０ａを有する保護膜４０を形成し、その開口４０ａ内に銀メッキを施して銀製の金属柱２０を形成した後、その金属柱２０の上端面２０ａに鏡面加工を施して光反射面２を形成することとした。 （もっと読む）

【課題】空間光変調器を使用して高精度パターンの印刷を行なう方法の提供。
【解決手段】パターン記述情報の読出し工程と、部分パターンの引き出し工程と、部分パターンの変調信号への変換工程であって、バイナリパターンを１画素あたり複数の利用可能なグレースケールレベルを有する画素ビットマップに変換することを含み、画素ビットマップから変調信号が導出される工程と、変調素子のいくつかを各々所定の変調状態に駆動するよう操作するステップであって、変調素子は多数の異なる変調状態に設定され、変調信号により個々に駆動される工程と、電磁波の放射工程と、空間光変調器の照射工程と、照射を空間光変調器から加工品上に投影し、部分イメージを生成する工程と、加工品および／または投影システムの相対的な動きおよび変調素子の操作を調整する工程であって、パターンを部分パターンにより生成される部分イメージから一体につなぎ合わせる工程とを含む。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１つの磁石（２２）を備える投影露光システム用のアクチュエータであって、磁石を、マイクロ技術製造法により製造した磁石保持板（１２）で封入及び／又は支持し、これは、移動マニピュレータ表面（２３）を、付加的な接続材料を用いずに一体接続又は結合接続により磁石保持板で保持することにより、確実な接続を得るような方法で行う。 （もっと読む）

【課題】 小さな駆動力で可動ミラーが大きく揺動する光学装置を提供する。
【解決手段】 支持部１９，２１，２３，２５は、可動ミラー３６の裏面に当接し、可動ミラー３６の第１端部３２が基板１４に接近する向きに揺動する際の支点１８と、可動ミラーの第２端部４０が基板１４に接近する向きに揺動する際の支点２４を提供する。アクチュエータ３０，４２は、可動ミラー３６の第1端部３２と第２端部４０のうちの任意の一方を選択し、選択した側の可動ミラーの端部３２，４０を基板１４に近づける。連結部５２，５４，５６，５８は、(1) 可動ミラー３６が第１端部側支点１８を中心にして第２端部側支点２４から離反する向きに揺動し、(2) 可動ミラーが第２端部側支点２４を中心にして第１端部側支点１８から離反する向きに揺動する相対運動を許容する態様で可動ミラー３６を基板１４に連結している。 （もっと読む）

【課題】 ＷＤＭ光信号をモニタする方法が提供される。
【解決手段】 この方法は、複数のチャンネルを有するＷＤＭ光信号を受信するステップと、同調可能フィルタによってＷＤＭ光信号にフィルタをかけた後に光信号を検出するステップと、少なくとも中心波長および同調可能フィルタ光伝達関数の帯域幅を再構成してＷＤＭ光信号の信号性能パラメータを決定するステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】 使用できない無駄な帯域が生じることを抑制し波長帯域の自由な配分を可能にする波長多重分離フィルタを得る。
【解決手段】 本発明による波長多重分離フィルタは、フィルタ形状が可変の波長多重分離フィルタであって、基準とする周波数間隔の２^N 倍（Ｎは１以上の整数）の分解能を持ち、該２^N 倍の分解能に対応する周波数スロットの中心周波数の周波数配置が該基準とする周波数間隔の１／２^N の周波数間隔を持つ標準の波長グリッドの周波数配置に対し半周期オフセットされていることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、セル部に規則的に配設され且つ伝播する光波面において部分光波に局所的に影響を及ぼす光変調セルを有する波面を動的に整形するための光学ユニットに関する。各セル部は、光変調器セルの光学挙動を個別に調整するセル制御器に接続される。本発明によると、各々が変調器セル（ＭＣ）を有する直列に配設されたセル部（Ａ１、Ａ２）は、光波面の光路に配置される。セル制御手段は、第１のセル部（Ａ１）においては変調器セルが連続する位相値を有する位相シフト（ＰＨｍ）を個別に実現するように、第２のセル部（Ａ２）においては変調器セルが部分光波に対して連続する方向値を有するプリズム機能を実現するように、変調器セルを調整する。光学ユニットの射出瞳に部分光波を誘導する放射波面の集束機能を実現する手段は、光学ユニットの光路に配置される。
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１つの態様の方法が、圧電アクチュエータを機械的に変形させることにより片持ち式光ファイバを作動させるステップを含むことができる。圧電アクチュエータの機械的変形の結果として生成される電気信号を検出することもできる。 （もっと読む）

半導体レーザ、波長変換素子、集成レンズ、及び１つ以上の可調光学コンポーネントを有する光学パッケージが提供される。集成レンズ及び可調光学コンポーネントは、半導体レーザの出力ビームを波長変換素子の入力面に向けるため、及び波長変換素子の入力面上の出力ビームの位置を変移させるために構成される。集成レンズ及び可調光学コンポーネントはさらに、半導体レーザから波長変換素子に光路に沿って伝搬するレーザ光が、集成レンズによってコリメートまたはほぼコリメートされてから可調光学コンポーネントによって反射され、可調光学コンポーネントによって反射された後に集成レンズによって波長変換素子の入力面上に集束されるような、折返し光路を定めるために構成される。別の実施形態も開示され、特許請求される。
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【課題】本発明は、特にSLMアセンブリ素子の製造において、熱的にまたは化学的に収縮する接続材料を介して、ベース部に接続され、その高さが横方向の大きさより非常に小さい素子の表面形状を補正する方法に関する。
【解決手段】本方法は以下のステップを備える。素子の製造後、素子の現在の表面形状を測定して、所望の表面形状からの偏差を検出するステップと、ベース部表面に、所望の表面形状からの偏差に対してネガティブな補正用型を設けるステップと、接続材料を、ベース部表面または素子の下側に塗布するステップと、現在の表面形状および補正用型に応じて位置を合わせながら、素子とベース部を結合するステップと、素子の現在の表面形状の偏差を補って所望の表面形状を達成するように、熱的にまたは化学的に収縮する接続材料を硬化させるステップを備える。 （もっと読む）

本発明は、マイクロ光学素子、好ましくは、それぞれがスプリング素子によって保持されたマイクロ光学素子の装置に関する。これらマイクロ光学素子は、静電力によって回転軸線の周りに旋回または並進変位される。本発明の目的は、度々再較正せずに長期間に亘って変動なく作動することができるマイクロ光学素子装置を提供することにある。本発明に係るマイクロ光学素子では、電磁放射が直接入射できない側であるマイクロ光学素子の下方に電極が配置される。それぞれの電極は、少なくとも二つのマイクロ光学素子に組み込まれるようにされている。これによって、電極に組み込まれたマイクロ光学素子を、静電力効果によって変位させることができる。このためには、電極とマイクロ光学素子との間の適切な電圧差を設定することだけでよい。
このため、電極は隣接するマイクロ光学素子のギャップの領域に配置される。 （もっと読む）

光源からの光を再分配するシステムおよび方法。コントローラは、光源の放射照度プロフィールがより均一になり、また、この放射照度プロフィールと流体流量プロフィールが一致するように光を再分配することができる。放射照度プロフィールは、複数の導波路からの光漏れを改変することによって、あるいは、反射体および／またはレンズの光方向づけ特性を変更することによって制御し得る。
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