応力関連の変形を最小限に抑えるように構成された支持構造を有するＭＥＭＳデバイス、およびその製造方法
ＭＥＭＳデバイスの実施形態は、上位の支持構造によって支持される移動可能層を含み、更に、下位の支持構造を含むことができる。１つの実施形態では、上位の支持構造内の残留応力と、移動可能層内の残留応力とが、実質的に等しい。別の実施形態では、上位の支持構造内の残留応力と、下位の支持構造内の残留応力とが、実質的に等しい。特定の実施形態では、実質的に等しい残留応力は、同じ厚さを有する同じ材料で形成される層の使用を通じて得られる。更なる実施形態では、実質的に等しい残留応力は、互いの鏡像である支持構造および／または移動可能層の使用を通じて得られる。
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テーパ縁を実現するために、ＭＥＭＳデバイス内に層を形成するための方法
特定のＭＥＭＳデバイスは、テーパ縁を有するようにパターン形成された層を含む。テーパ縁を有する層を形成するための１つの方法は、エッチング誘導層を使用することを含む。テーパ縁を有する層を形成するための別の一方法は、上方部分が下方部分よりも速い速度でエッチング可能な層を堆積することを含む。テーパ縁を有する層を形成するための別の一方法は、複数の反復エッチングを使用することを含む。テーパ縁を有する層を形成するための別の一方法は、リフトオフマスクの上に層が堆積され、そのマスク層が除去された後、テーパ縁を有する構造が残されるように、負の角度を含む開口を有するリフトオフマスクを使用することを含む。
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スイッチング可能光学要素は光軸を有する。その光学要素は、チャンバと、チャンバの内側表面を規定する面（その面は前記光軸を横切って広がっている）を有する波面変化器と、第１流体及び第２流体とを有する。その光学要素は、第１流体が波面変化器の面を実質的に覆う第１離散状態と、第２流体が波面変化器の面を実質的に覆う第２離散状態との間でスイッチング可能であり、チャンバは、第１及び第２離散状態の両方において第１及び第２流体の両方を囲み、界面は第１離散状態において前記光軸を横切って広がっている。
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プロジェクタのためのカラーホイールは、中心軸を中心として回転可能な、支持体に取り付けられた平坦で一体的なカラーフィルタセグメントを有する円筒形の支持体を備えている。該カラーフィルタセグメントは半径方向で回転軸の方を向くとともに、中心に対して同心的に配置された円環状の領域を支持体周辺部で形成しており、前記カラーフィルタセグメントの外周はそれぞれ少なくとも１つの切り込みを備える２つの半径方向領域を含んでいる。それにより、隣接する前記カラーフィルタセグメントの切り込みは共同して穴を形成し、前記支持体に設けられたピンが前記穴へ嵌合により嵌り込む。
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光学系と相互作用する電磁放射への影響を制御可能な可変光学系が、容器（１）と、容器に収容された誘電性の第１の流体（９Ｘ）と、第１の流体との間に相界面（１１）を形成しており、第１の流体と異なる比誘電率を有する第２の流体（９２）と、少なくとも１つの第１の電極（１５）と、少なくとも１つの第２の電極（１７）であって、第１の電極と第２の電極との間に印加された電圧により相界面（１１）を貫く電界が発生するように第１の電極に対応して配置された少なくとも１つの第２の電極（１７）とを含む。
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微小電気機械システム（１００、２００、３００、４００及び５００）は、屈曲部（１２０）を含み、屈曲部（１２０）はアモルファス材料で作成される。同様に、微小電気機械システム（１００、２００、３００、４００及び５００）を形成する方法は、基板（１１０，２１０）を形成することと、アモルファス屈曲部（１２０）を形成することとを含み、アモルファス屈曲部（１２０）は、基板（１１０，２１０）に結合されている。
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【課題】インターフェロメトリック変調器に関するプロセスコントロールモニター
【解決手段】
ＭＥＭＳデバイス１０８の製造に用いられるプロセスステップと同じプロセスステップの少なくとも一部を用いて製造されるプロセスコントロールモニター１００、１０２、及び１０４が開示される。プロセスコントロールモニター１００、１０２、及び１０４の分析は、ＭＥＭＳデバイス１０８の性質及び前記デバイス内の構成要素又は副構成要素に関する情報を提供することができる。この情報は、加工の際の誤りを識別するために又はＭＥＭＳデバイス１０８を最適化するために用いることができる。幾つかの実施形態においては、プロセスコントロールモニター１００、１０２、及び１０４の分析は、光学的測定値を利用することができる。 （もっと読む）

本発明は、一体型波面補正モジュールに関するものであって、取付デバイスと；この取付デバイスに付設されているとともに、入射波面における大きな時空周波数的エラーを補正するための変形可能ミラーと；ベースと、このベースとフレキシブル部分および固定部分のうちの一方との間を相互連結する複数のチップチルトアクチュエータと、ベースとフレキシブル部分および固定部分のうちの他方との間を相互連結する複数の支持支柱と、を備えていて、入射波面におけるチップチルトエラーを補償し得るよう、変形可能ミラーと一緒に取付デバイスを調節するための、チップチルト補正機構と；を具備している。
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本発明は、内壁を有する容器を有する光学素子に関する。前記容器は第1液体(A)及び電気感受性第2液体(B)を密閉する。前記液体(A;B)は非混和性で、かつ界面(14)を介して相互に接している。前記界面(14)は内壁との接触角及び、電圧の手段によって界面形状を制御する電極配置(2;12)を有する。光学素子は、第1接触角から第2接触角の間の動作範囲を有し、第1接触角の値の範囲は、50°-110°で、第2接触角の値の範囲は、70°-130°であって、第2接触角の値は第1接触角の値よりも大きい。界面(14)の位置変化の応答時間は接触角(θ)の関数であって、応答速度はθ=90°付近で最大値に到達し、少なくとも所定の角度でこの最大値の75%には到達することを発見した。その結果、有利な応答特性を有する光学素子が得られる。
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互いに間隔を開けて配置され、強磁性的に互いに結合する固定子３８，４０と、磁石９であって、磁石９によって生成される磁界の対称軸が前記固定子３８，４０から実質的に等距離で、かつその間を通るように前記固定子３８，４０に対して配置される磁石９と、フレクシャ素子１１であって、フレクシャ素子１１の中心点が磁石９の磁界の対称軸を実質的に横切るように、固定子３８，４０および磁石９に対して配置されるフレクシャ素子１１とを備え、フレクシャ素子１１は固定子３８，４０または磁石９のどちらとも物理的に接触しない、光学スキャナ１００である。
光学スキャナのフレクシャ素子を振動させる方法において、２つの固定子３８，４０の間であって、フレクシャ素子１１の下に配置された磁石９を用いて、おおむね対称で、互いに同一平面をなす第１および第２磁気回路３０，３１を作るステップであって、回路の一部は磁石９をとおる共通磁路を共有し、固定子３８，４０をとおる回路３０，３１の残りの非共有磁路は互いに反対向きであるステップと、電気コイル５，６を介して回路３０，３１の一方または両方に電磁束を印加して、ある回路３０，３１をとおる磁束を強化し、他の回路３０，３１をとおる磁束を妨げ、磁石９をとおる固定子誘導の磁束ベクトルを変化させないようにするステップと、フレクシャ素子１１を振動させるために、固定子誘導の電磁束の極性を規則的な周波数で反転させるステップとを有する、方法である。
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本発明は、画像センサと、画像センサにおいて画像の焦点を合わせるよう配置されたエレクトロウェッティングレンズと、制御ユニットとを有する測定装置に関する。制御ユニットは、エレクトロウェッティングレンズの状態と、画像センサにより供給された画像信号から得られた焦点情報とに基づいて対象までの距離を決定するよう動作する。

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エレクトロウェッティングセル（１５）は外側壁（９０）及び内側壁（８０）を有し、外側壁（９０）は内側壁（８０）の反対側に伸びている拡張部（８５、８６）を備えている。セル（１５）は、体積拡大のためのメンブレン（４５）を更に備え、電気メッキ層（９５）により密封されている。
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エレクトロウェッティングセル（１５）は外側壁（９０）及び内側壁（８０）を有し、外側壁（９０）は内側壁（８０）の反対側に伸びている拡張部（８５、８６）を備えている。セル（１５）は、体積拡大のためのメンブレン（４５）を更に備え、電気メッキ層（９５）により密封されている。
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例えばオイルの層の分裂又はオイルの層の移動に基づいており、且つ少なくとも２つの異なる状態を有するディスプレイデバイスであって、壁（１３）の高さが、ピクセルの幅と、充填針（１５）の先端におけるオイル界面の一般的な曲率とに比較して大きくはなく、ピクセルに針を挿入することなくピクセルに充填される、ディスプレイデバイス。充填針をピクセルに入れる必要がないため、比較的大きな注入針からのオイル（５）によってピクセルを充填することができる。 （もっと読む）