微小電気機械システム装置であって、この装置の外側の電気回路網とこの装置の電極（１６）及び可動層（１４）の少なくとも１つとの間に電気相互接続を有する微小電気機械システム装置が提供される。この電気相互接続の少なくとも一部は、この装置のこの電極（１４）と機械層（９２）との間に導電層と同一の材料で形成される。一実施形態では、この導電層は、この電極（１６）とこの可動層（１４）との間にキャビティ（１９）を形成するために後に除去される犠牲層（６０）である。この犠牲層（６０）は、好ましくは、モリブデン、ドープされたシリコン、タングステンまたはチタンで形成される。一実施形態によれば、この導電層は、好ましくはアルミニウムを含む可動反射層である。
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テーパ縁を実現するために、ＭＥＭＳデバイス内に層を形成するための方法
特定のＭＥＭＳデバイスは、テーパ縁を有するようにパターン形成された層を含む。テーパ縁を有する層を形成するための１つの方法は、エッチング誘導層を使用することを含む。テーパ縁を有する層を形成するための別の一方法は、上方部分が下方部分よりも速い速度でエッチング可能な層を堆積することを含む。テーパ縁を有する層を形成するための別の一方法は、複数の反復エッチングを使用することを含む。テーパ縁を有する層を形成するための別の一方法は、リフトオフマスクの上に層が堆積され、そのマスク層が除去された後、テーパ縁を有する構造が残されるように、負の角度を含む開口を有するリフトオフマスクを使用することを含む。
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大型の画像、図、動画を表示する装置および方法。装置は光ファイバを素材とした縦列の層からなり、各ファイバは一方の端から少なくとも一つのレーザダイオードによる照明を受ける。そして、第二層は第一層の前に平行して配置され、その投影範囲は実質的に第一層と重なり合う。この第二層は横列に配置された多数の光ファイバからなる。第一層と第二層との間には、光スイッチ部の第三層が置かれる。あるいは、第二層は光拡散層としてもよい。レーザダイオードから放たれたレーザ光は、各個のカラムファイバに沿って平行的に進み、カラムファイバ内でレーザ光を結合させる光スイッチ部によって、ロウファイバもしくは直接、拡散層へ方向を向き換えられる。拡散層において拡散器によってレーザ光は散乱し視聴者に届くことになる。小サイズのファイバによって、曲線因子をとても小さくでき、光吸収マトリックスや背景層が周辺光を効果的に吸収することを可能とする。周辺光条件の下でのコントラスト比は、周辺光を選択的に吸収する多層誘電光学フィルタを使用することで更に向上する。
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応力関連の変形を最小限に抑えるように構成された支持構造を有するＭＥＭＳデバイス、およびその製造方法
ＭＥＭＳデバイスの実施形態は、上位の支持構造によって支持される移動可能層を含み、更に、下位の支持構造を含むことができる。１つの実施形態では、上位の支持構造内の残留応力と、移動可能層内の残留応力とが、実質的に等しい。別の実施形態では、上位の支持構造内の残留応力と、下位の支持構造内の残留応力とが、実質的に等しい。特定の実施形態では、実質的に等しい残留応力は、同じ厚さを有する同じ材料で形成される層の使用を通じて得られる。更なる実施形態では、実質的に等しい残留応力は、互いの鏡像である支持構造および／または移動可能層の使用を通じて得られる。
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第１の面が第２の面に接着される（１１０）。第１の面及び第２の面がプラズマ処理される（１０２）。第１の面だけが湿式処理される（１０４）。第１の面及び第２の面が互いに接合され、第１の面を第２の面に接着する（１１０）。
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ＭＥＭＳデバイスのための支持構造、およびその方法
保護材料によって取り囲まれた犠牲材料で形成された支持構造を有する微小電気機械システムデバイス。微小電気機械システムデバイスは、上に電極を形成された基板を含む。キャビティによって第一の電極から分離された別の電極は、犠牲材料で形成された支持構造によって支持される移動可能層を形成する。
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静止摩擦を低減したマイクロ機械システム（ＭＥＭＳ）デバイス（２００）が提供されている。このＭＥＭＳデバイスは、基板に形成された中心電極（２１６）と、一対の外側電極（２２０）とを含む。中心電極は複数の延長部を備え、これら延長部は当該延長部（２１８）に散在した複数の溝（２２１）を形成している。外側電極は中心電極の溝内に配置された複数の延長部を含む。
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本発明は、担体素子３と薄膜４とを有する２自由度でボディ２を傾斜させるための微小電気機械装置１´であって、ボディ２は、薄膜４を介して担体素子３に接続され、ボディ２び担体素子３の各々は、少なくとも１つの電極５，６を有する。ボディ２は、電圧源から電極５，６への電圧Ｖ_１，Ｖ_２の印加によるボディ２の少なくとも１つの電極５と担体素子３の少なくとも１つの電極６との間の静電気力７によって傾斜される。
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集積空間光変調器を製造する方法。該方法は、ボンディング表面を含む第１の基板を提供するステップと、デバイス基板を処理して少なくとも１つの電極層を形成するステップであって、該電極層が複数の電極を含むステップと、該電極層上にスタンドオフ層を堆積するステップとを含んでいる。該方法はさらに、該スタンドオフ層からスタンドオフ構造を形成するステップと、該第１の基板の該ボンディング表面を該デバイス基板の該スタンドオフ構造に接合するステップとを含んでいる。具体的な実施形態では、該方法はさらに、スタンドオフ層を堆積する該ステップの後に、該スタンドオフ層の化学的機械的研磨を実行して該スタンドオフ層の上部表面を平坦化するステップを含んでいる。 （もっと読む）

本発明に係る焦点距離可変レンズは、或る自由度回転を有する、及び／または或る自由度並進を有する複数のマイクロミラーと、駆動手段とから構成されている。焦点距離可変レンズの操作方法としては、上記駆動手段が、マイクロミラーの位置を静電的及び／または電磁的に制御する。マイクロミラーを支持する構造体と、上記駆動手段とを、上記マイクロミラー群の下方に配置することによって、焦点距離可変レンズの光学効率を高めることができる。焦点距離可変レンズは、マイクロミラーを個々に制御することにより、収差を補正することができる。焦点距離可変レンズは、任意の形状、及び／または任意のサイズに構成することが可能である。マイクロミラー群を、平面状に、もしくは所定の曲率を有する曲面状に配置することができる。マイクロミラーの位置を左右する電極は、金属のような高い導電率の材料から構成することができる。マイクロミラーの表面材料には、多層誘電体または酸化防止剤によってコーティングされたアルミニウム、銀、金のような高い反射率を有した材料が用いられる。
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本発明の一実施例に従って、改良されたコントラストを有するデジタル・マイクロ・ミラー・デバイス及びそのための方法が提供される。デジタル・マイクロ・ミラー・デバイスは、基板（２１４）の上側表面上の複数の電流供給導電体であって、各々が上側表面を有する電流供給導電体（２１０）と、電流供給導電体の上側表面上に配置される低反射率金属（２０８）と、基板の上方に開口を形成する第１及び第２のマイクロ・ミラーとを含み、電流供給導電体の上側表面上に配置された低反射率金属（２０８）は、開口を介して電流供給導電体が受ける光の反射を低減させる。
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本発明は、外側の反射面及びその上に複数の永久磁石が固定される内側表面を有する可変鏡（２，３）からなる光電気デバイスに関し、前記デバイスは、可変膜に対応する領域を局所的に置換してその上に電磁気力を及ぼすために永久磁石と対向して置かれた複数の電磁石（６）を含むハウジング（５）をさらに含む。本発明は、内側表面（７）全体が可撓性材料の連続層で被覆されていることを特徴とする。
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【課題】微小電気機械システムデバイス内における構造物の電気機械的動作を制御すること。
【解決手段】
一実施形態においては、本発明は、微小電気機械システムデバイスを製造する方法を提供する。前記方法は、特徴的な電気機械的反応、及び特徴的な光学的反応を有する膜を具備する第１の層を製造することであって、前記特徴的な光学的反応は望ましく、前記特徴的な電気機械的反応は望ましくないことと、前記電気機械システムデバイスの起動中に蓄積される電荷を少なくとも減少させることによって前記特徴的な電気機械的反応を修正すること、とを具備する。
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光学フィルタの機能性がディスプレイ素子の基板中に組み込まれ、それによって、分離した薄膜フィルタの必要性を減じ、そして、従って、フィルタ付ディスプレイ素子の全厚を低減する。フィルタの機能性は、例えば、顔料物質、光ルミネセンス物質、及び、不透明物質のような、任意のフィルタ物質によって与えられることが出来る。該フィルタ物質は基板作製時に基板中に組み込まれることが出来る、或いは、基板をマスキングすること、基板をフィルタ物質に曝すこと、及び、該フィルタ物質を基板中に拡散するために基板を加熱すること、からなるプロセスによって、該基板中に選択的に拡散させられることが出来る。 （もっと読む）

【課題】薄膜トランジスター製造技術を使用して反射表示デバイスを作る方法を提供する。
【解決手段】（光干渉変調器などの）ＭＥＭＳデバイスは薄膜トランジスター（ＴＦＴ）製造技術を使用して製造されうる。ある実施形態では、ＭＥＭＳ製造プロセスは、ＴＦＴ生産ラインを識別することと、ＴＦＴ生産ラインでＭＥＭＳデバイスの製造の準備をすることとを含んでいる。別の実施形態では、光干渉変調器は、あらかじめＴＦＴ生産のために構成された生産ラインで少なくとも部分的に製造される。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイのアクティブ領域の方へ光を方向付けるための光学膜を提供する。
【解決手段】 本発明のさまざまな実施形態では、干渉計測ディスプレイデバイスは、光をディスプレイの非アクティブ領域からディスプレイのアクティブ領域に方向付ける複数の構造体を備えた外部膜を有する。一般にディスプレイの非アクティブ領域に向かって連続している外部膜への入射光が、光学キャビティを形成する可動反射面と静止反射面とを備えるディスプレイのアクティブ領域の方へ反射されるか回折されるか散乱される。 （もっと読む）

【解決手段】統合ポストおよび変形可能層８７０を備えるＭＥＭＳデバイス８００が提供される。いくつかの実施形態では、ポストと変形可能層との間の移行部は、実質的に単一の弓形又は凸形状の表面を備えており、これによって、機械的にロバストな構造を提供する。いくつかの実施形態は、その上に比較的一様な変形可能層を形成することに役立つ面を提供する自己平坦化犠牲材料の使用を含むＭＥＭＳデバイスの製造方法を提供する。 （もっと読む）

マイクロミラーアレイレンズは、２つの自由回転と１つの自由平行移動とを行う、複数のマイクロミラー１３と、駆動部分とから構成されている。上記マイクロミラーのアレイは、対象の１つのポイントから散光している全ての光が、同じ周期的な位相を有するように、また、画面の１つのポイントに収束するようにすることができる。上記駆動部分は、静電気的におよび／または電磁気的に、上記マイクロミラーの位置を制御する。上記マイクロミラーアレイレンズの光学効率は、上記マイクロミラーを支持する機械的構造と上記駆動部分とを上記マイクロミラーの下に配置することにより、改善される。半導体マイクロエレクトロニクス技術は、電極パッドおよびワイヤによる有効反射領域の損失を取り除くことができる。上記レンズは、各マイクロミラーを独立に制御することにより、収差を補正することができる。各マイクロミラーの独立した制御は、公知の半導体マイクロエレクトロニクス技術によって達成することができる。上記マイクロミラーアレイは、所望の任意の形状および／またはサイズのレンズを形成することができる。
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１つ以上の異なる色のサブピクセルについて異なる材料を利用することにより最適化されたｉＭｏＤディスプレイがここに示される。そのような最適化されたディスプレイは、サブピクセルがすべて同じ材料で構成されるディスプレイに対して全色域を改善した。さらに、そのようなディスプレイを製造する方法、およびｉＭｏＤディスプレイを最適化する方法が示される。 （もっと読む）

本発明は重合した液晶層を有するシャッター素子を有する機械的シャッター(601)に関する。重合した液晶は異方的に配向している。一の主要面で配向は異方的である。反対側の主要面に向かって変動するとき、配向は熱膨張係数が変化するように変化する。熱のような非機械的手段を受けるとき、シャッター素子は変動する。たとえばスプレイ配向又はツイステッド・ネマティック配向が使用されるとき、素子は非機械的手段に応じて曲がる及びまっすぐになる。電極(604,605,606)は任意で素子上及び支持基板上に形成可能であり、素子が電極間に印加された電場により生じる静電力によって制御可能となる。本発明はさらにそのような機械的シャッターをその場重合を使用して製造する方法をも提供する。
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