【課題】光源と光導波路コアとの間の調芯に高い精度が必要なく、この光源からの光を、枠状の光導波路の２辺に均等に分配することのできる入力デバイスを提供する。
【解決手段】入力デバイスの矩形状の検知空間Ｓの周りに配置された枠状の光導波路１０における発光側の光導波路コア１を、角部１０ａに設けられた発光素子３に接する光入射側の共通部１ａと、共通部１ａから発光素子３の発光の光軸に沿った枠の一辺方向に直線状に延びる第１のコア部１ｂと、共通部１ａの分岐点Ｊから所定の曲率で湾曲しそれより光出射側が上記光軸に直交する枠の他辺方向に延びる第２のコア部１ｃとから形成するとともに、上記発光側光導波路コア１の分岐点Ｊにおける、上記第１のコア部１ｂのコア幅（Ｗ１）に対する上記第２のコア部１ｃのコア幅（Ｗ２）の比を１以上〔（Ｗ２／Ｗ１）≧１〕とする。 （もっと読む）

【課題】小型化を図ると同時に、光出射部側のコア径を変換することで光出射側光ファイバの直径を小さくすることが可能な光導波路を提供する。
【解決手段】
本発明の光導波路は、光入射部側から入射される３以上の光を、合波し、光出射部側へ伝搬する合波コアを備える光導波路であって、３以上の前記光入射部の内、少なくとも１つの光入射部が他の２つ以上の同一高さにある光入射部とは異なる高さにあり、かつ前記合波コアが、光入射部側から光出射部側に向けて横幅及び厚さが狭くなるテーパ形状部を有する光導波路である。 （もっと読む）

【課題】低温プロセスでゾルゲルガラスからなるクラッド・コア材の作製、屈折率の任意制御、光損失の極小制御が可能なポリマー光変調器の製造方法の提供。
【解決手段】下記式（１）
Ｒ^１_ｎＳｉ（ＯＲ^２）_４−ｎ （１）
で表されるシリコンアルコキシド、その加水分解・縮合物、またはこれらの混合物と、光酸発生剤とを含む硬化性組成物を調製する工程と、
該硬化性組成物を基板上に塗布・硬化し、更にパターン形成を行い、ゾルゲルガラスから形成される下部クラッド層、コア層、側部クラッド層及び上部クラッド層を形成する工程と、
上部クラッド層中に、電気光学ポリマーから形成されるコア層を、該ゾルゲルガラスから形成されるコア層の上部に接触して埋設する工程とを含み、且つ、上部クラッド層と電気光学ポリマーから形成されるコア層との接続部の一部が、導波光の進行方向に対しテーパー構造を有する、ポリマー光変調器の製造方法。 （もっと読む）

【課題】光導波路全体の屈曲性を確保したまま、低コストで迷光の低減・伝送特性の確保が可能な光伝送モジュールを提供する。
【解決手段】光伝送路４は、コア部１１とコア部１１を囲ってなるクラッド部１２とを備え、クラッド部１２における、光信号が伝送する光伝送方向に沿った一部の表面領域に、光伝送路外部の空気よりも高い屈折率を有する樹脂から構成された樹脂部１３Ａが設けられている。樹脂部１３Ａは、光伝送方向に対し垂直な方向において互いに対向する２つのクラッド部１２の表面領域のうち、一方の表面領域に設けられている。樹脂部１３Ａの光伝送方向における長さＬは、信号遅延を許容できる許容遅延時間に対応するクラッド伝搬光の伝搬角度を許容伝搬角度θｍｉｎとし、クラッド伝搬光がクラッド部の外部に漏れ出す臨界角を臨界伝搬角度θｍａｘとし、光伝送路の光伝送方向に対し垂直な方向における長さを厚さＴとしたとき、所定の式を満足する。 （もっと読む）

【課題】光の挿入損失について改善された光デバイスを提供する。
【解決手段】基板と、基板に形成された光を導波するための光導波路と、光導波路の両側に基板の一部が掘り下げられて形成された所定深さの凹部が形成されてリッジ部を成す光デバイスにおいて、凹部の所定深さが、当該凹部の端に向かって徐々に浅くなって形成され、光が当該凹部の端の方向に導波するにしたがって導波する光のスポットサイズが徐々に大きくなる。これにより、リッジ部と当該リッジ部と連続して形成されるプレーナ部との境界部における光の結合損失を低減する。 （もっと読む）

【課題】入射した太陽光を効率良く集光することができ、窓に利用した場合でも視認性を確保することができる集光構造体を提供する。
【解決手段】集光構造体１０は、透明な導光体１１と、導光体１１の一方の面側に設けられた第１の層１２と、導光体１１の他方の面側に設けられ、かつ導光体１１側の面と反対側の面に凹凸構造１４が形成された第２の層１３とを備えている。第１の層１２及び第２の層１３はいずれも透明でかつ導光体１１より光の屈折率が小さな材質で形成されている。 （もっと読む）

【課題】容易かつ精度の高い微細加工が可能である光導波路素子の製造方法を提供する。
【解決手段】先端１２ｃを有するテーパ部１２を有するコア４を備えた光導波路素子を製造する方法であって、コア４の材料からなるコア層１４を形成するコア層形成工程と、コア層１４に接する補助層１８を形成する補助層形成工程と、コア層１４にテーパ部１２を形成しコア４を得るテーパ部形成工程とを含む。コア層形成工程は、テーパ部１２の先端１２ｃを含む第１側面領域１６ａを形成する工程である。補助層形成工程は、第１側面領域１６ａに接して、コア４とは異なる材料からなる補助層１８を形成する工程である。テーパ部形成工程は、コア層１４に対し、補助層１８と同時にエッチングを施すことによって、テーパ部１２の先端１２ｃを含む第２側面領域１２ｂを形成する。 （もっと読む）

【課題】小さな寸法を有し、且つ光学性能に優れた光ハイブリッド回路を提供する。
【解決手段】光ハイブリッド回路１０は、４つの入力チャネル１１と、４つの出力チャネル１２と、一方の端部に４つの入力チャネル１１が接続され、他方の端部に４つの出力チャネル１２が接続される多モード干渉カプラ１３と、を備える。多モード干渉カプラ１３は、一方の端部から他方の端部に向かって光を伝搬する。多モード干渉カプラ１３は、一方の端部１４から他方の端部１５側に向かって幅が漸減する第１部分１３ａと、この第１部分１３ａと接続され接続部分の幅を保持したまま一方の端部１４側から他方の端部１５側に向かって延びる第２部分１３ｂと、この第２部分１３ｂと接続され一方の端部１４側から他方の端部１５に向かって幅が漸増する第３部分１３ｃと、を有する。 （もっと読む）

【課題】平面状の簡易な製造工程で形成可能であり、低コスト化を実現することができるスポットサイズ変換導波路を得る。
【解決手段】この発明に係るスポットサイズ変換導波路は、導波路構造の途中においてコア上部の一定厚み層を平面テーパ状に狭めていく構造、または導波路構造の途中においてコア上部に一定厚み層を積み増し、その積み増し開始位置より段階的に平面テーパ状に前記の層の幅を広げていく構造を有する。この発明によれば、導波路を平面製造プロセスのみで実現でき、工程が簡易化されるため低コスト化が可能である。 （もっと読む）

【課題】感光性を有する樹脂層の所定箇所に光照射した後に光照射されていない箇所を現像液で除去するフォトリソグラフィーにより光導波路のパターンを形成する光導波路の製造方法において、十分な光伝送能力及び十分に高いパターン形成精度を提供する。
【解決手段】下部クラッド層を形成する工程と、前記下部クラッド層の表面上にコア材料からなるコア層を形成する工程と、前記コア層の表面上に上部クラッド層を形成する工程と、前記上部クラッド層の所定箇所に光照射した後に、現像液により光照射されていない箇所を除去して前記上部クラッド層のパターンを形成すると共に、該パターン形成がされた上部クラッド層をレジストマスクとして前記現像液により前記コア層及び前記下部クラッド層のパターンを形成して、下部クラッドと、前記下部クラッド上に形成されたコアと、前記コア上に形成された上部クラッドとを備える光導波路を得る工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】コアまたはクラッドの上層にさらにクラッドを形成する場合において、上層のクラッドの厚みを高精度に制御して、クラッドを平坦化できる積層光回路の製造方法を提供する。
【解決手段】クラッド上に形成されたコアの直上に金属マスクを形成する金属マスク形成工程１０１と、コア及び金属マスクをクラッドで埋め込むクラッド埋込工程１０２と、金属マスクが露出するまでクラッドを研磨して平坦化する研磨工程１０３と、露出した金属マスクを除去する金属マスク除去工程１０４と、平坦化したクラッドとコアとの段差の距離を計測する距離計測工程１０５と、平坦化したクラッド上及び金属マスク除去後のコア上に、段差の距離及びコアと次層のコアとの間の所望の距離に応じた厚さのクラッドを形成し、熱処理によってクラッドを一体成型することにより段差を平坦化する平坦化行程１０６とを含む。 （もっと読む）

【課題】優れた耐屈曲性と結合損失の低減とを高度に両立し得る光導波路を構成するための光導波路用フィルムを、効率よく簡単に製造可能な光導波路用フィルムの製造方法、かかる光導波路用フィルムの製造方法により製造された光導波路用フィルム、およびかかる光導波路用フィルムを備えた光導波路、光電気混載基板および電子機器を提供すること。
【解決手段】基材２０に対してノズル５２２が螺旋を描くように、基材２０およびノズル５２２を相対的に移動させつつ、ノズル５２２から液状樹脂組成物１００を吐出して液状被膜１１０を形成し、その後固化することにより、光導波路用フィルムを製造する方法であって、液状被膜１１０の縁部を形成する際の第１塗布量が、中央部を形成する際の第２塗布量より大きくなるように、基材２０またはヘッド５２０の移動パターンおよびノズル５２２の吐出パターンの少なくとも一方を制御することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 光半導体素子に設けられる光素子に、不所望に光が入射することを防止すること。
【解決手段】 光導波路部材２を含む光配線基板２０と、この光配線基板２０に対してフリップチップ実装される第１及び第２の光半導体素子３とを有する光配線モジュール１であって、光導波路部材２は、クラッド層６，８と、クラッド層６，８上に積層され、光路変換手段４０を有する複数のコア層７と、を含んで構成され、光配線基板２０上には、第１の光半導体素子３に設けられる光素子４と、第２の光半導体素子３の光素子４との間に設けられ、非光透過性の樹脂から成る遮光部材６２が配置されていることを特徴とする光配線モジュール１。 （もっと読む）

【課題】簡便に厚さを制御し得る光導波路の構造を提供することによって、特定部分の剛性や柔軟性に優れ、光損失の少ない光導波路、及び光電気複合配線板を提供する。
【解決手段】第１のクラッド層２、コアパターン４、及び第２のクラッド層７が順に積層された光導波路であって、コアパターンがテーパ状のダミーコア９を含み、かつ該ダミーコアにより、第２のクラッド層の厚さが連続的に変化することを特徴とする光導波路、及び該光導波路を電気配線板に積層した光電気複合配線板である。 （もっと読む）

【課題】光導波路のコア層またはクラッド層の膜厚を任意に制御できる光導波路形成用樹脂フィルム、およびこれを用いた光導波路、その製造方法並びに光電気複合配線板を提供する。
【解決手段】同一フィルム内に厚さが異なる部分を有する光導波路形成用樹脂フィルム、該光導波路形成用樹脂フィルムを用いて作製してなる光導波路、及び光導波路の製造方法、並びに該光導波路を、電気配線板に複合化した光電気複合配線板である。 （もっと読む）

【課題】屈曲耐久性に優れ、光損失の少ないフレキシブル光導波路を提供する。
【解決手段】下部クラッド層２、コア層６、上部クラッド層７が順に積層されてなるフレキシブル光導波路であって、コア層６が中間部より端部が厚く、かつ厚い部分から薄い部分にかけて傾斜を有し、上部クラッド層７がコア層６の傾斜面上で傾斜を有し、コア層６の傾斜角度が、上部クラッド層７の傾斜角度よりも大きいことを特徴とするフレキシブル光導波路、並びに前記フレキシブル光導波路を、フレキシブル電気配線板と複合化した光電気複合配線板である。 （もっと読む）

【課題】カップリング損失および伝達損失が、従来の光デバイスと比較して低い光デバイスの提供。
【解決手段】残余の部分よりも高い屈折率ｎ２を有する光回路が形成されたパッシブコア層と、光回路の少なくとも一部を覆うと共に、電気光学的効果を示し、且つ、光回路の屈折率ｎ２よりも高い屈折率ｎ１を有するアクティブコア層と、パッシブコア層がその上に形成されているとともに、光回路の屈折率ｎ２よりも低い屈折率ｎ３を有する下部クラッド層と、アクティブコア層およびパッシブコア層を覆うとともに、アクティブコア層の屈折率ｎ１よりも低い屈折率ｎ５を有する上部クラッド層と、下部クラッド層の下に形成された下部電極と、上部クラッド層の上に形成された上部電極と、を備え、アクティブコア層の入口部と出口部とは夫々テーパ状とされている光デバイス。 （もっと読む）

【課題】それぞれの位相変調領域が電気的に分離され、かつ高い光透過率を有する半導体マッハツェンダー光変調器及びその製造方法並びに半導体光集積素子及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、基板１１上にコア層１３と上部クラッド層１５とが積層されている。その上には、光導波路１ａ及び１ｂ、ＭＭＩ分波器２ａ、ＭＭＩ合波器２ｂを備える。光導波路１ａ及び１ｂには位相変調領域が設けられている。ＭＭＩ分波器２ａから出射された光は、光導波路１ａ及び１ｂで位相変調され、ＭＭＩ合波器２ｂへ出射する。また、光導波路１ａ及び１ｂの両側にコア層１３を貫通して形成された２本のトレンチ５に挟まれたメサ部１９が形成されている。なお、光導波路１ａ及び１ｂは、位相変調領域とＭＭＩ分波器２ａ及び位相変調領域とＭＭＩ合波器２ｂとの間で長さＬｇａｐの分離溝Ｇａｐで分離されている。 （もっと読む）

【課題】光変調部において厚さ１０μｍ以下の薄板を採用して速度整合を図った光変調器において、光変調器と外側の光ファイバとの間の結合損失および光変調器内部での結合損失を抑制することである。
【解決手段】光変調器１０Ａは、支持基板１、電気光学材料からなる変調用基板３、この変調用基板３の一方の主面側３ａに設けられている光導波路４、変調用基板３の他方の主面３ｂ側に設けられており、光導波路を伝搬する光を変調するための電圧を印加する電極、および変調用基板３の一方の主面３ａを支持基板１へと接着する接着層２を備える。変調用基板３が、少なくとも光導波路４を伝搬する光の変調を行うための厚さ１０μｍ以下の変調部７と、変調部７よりも厚い光ファイバ結合部６とを備える。 （もっと読む）

【課題】高精度の微細加工をしなくても容易に作製することが可能な半導体光集積素子を提供すること。
【解決手段】本発明に係る半導体光集積素子は、半導体基板上に下部クラッド層３、下部コア層４、中間クラッド層５、上部コア層６、及び上部クラッド層７がこの順に積層されており、第一領域、第二領域、及び第三領域に亘って、下部クラッド層３、下部コア層４、中間クラッド層５、上部コア層６、及び上部クラッド層７がそれぞれ形成されており、第一領域及び第三領域における中間クラッド層５の厚みＤ１が、第二領域における中間クラッド層５の厚みＤ２と異なることを特徴とする。 （もっと読む）