【課題】光通信、光集積回路基板に利用可能な光路長の温度依存性が小さい材料を提供する。
【解決手段】Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓから選ばれる１種以上の成分及びＮｂ、Ｔａから選ばれる１種以上の成分を含有するペロブスカイト型（ＡＢＯ_３）酸化物材料は、光路長温度係数（ＯＰＤ、ここでＯＰＤ＝１／Ｓ・ｄＳ／ｄＴ＝ＣＴＥ ＋ １／ｎ・ｄｎ／ｄＴであって、Ｓが光路長、ＣＴＥが線熱膨張係数、ｎが屈折率、ｄｎ／ｄＴが屈折率の温度係数である）が制御可能であり、特にその絶対値が６ｐｐｍ／℃以下と光路長の温度依存性が極めて小さく、光通信用フィルター、光集積回路基板などに利用可能である。 （もっと読む）

【課題】長波長用の可変光モジュールに用いることができる電気光学特性に優れた光学素子を提供する。
【解決手段】シリコンを含有する単結晶基板１１０と、単結晶基板１１０上にエピタキシャル成長により形成された第１の電極１３０と、第１の電極１３０上にエピタキシャル成長により形成された電気光学効果を有する電気光学膜１６０と、電気光学膜１６０上に形成された第２の電極１８０とを備え、第１及び第２の電極１３０及び１８０は、電気光学膜１６０の膜厚方向に電圧を印加するためのものであり、電気光学膜１６０は、単一配向を有しない結晶化膜である光学素子。 （もっと読む）

【課題】本発明は、従来技術による光パルスシンセサイザが離散的な透過スペクトルを有する、ある周波数間隔のモードを独立に制御することは可能であるものの、連続したスペクトルを制御することはできないという問題点を解決する導波路型分散補償回路を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の導波路型分散補償回路は、第１のアレイ導波路回折格子と、第２のアレイ導波路回折格子と、上記２つのアレイ導波路回折格子を結合する位相制御導波路アレイとを備える導波路型分散補償回路において、上記位相制御導波路アレイの導波路本数が、第１及び第２のアレイ導波路回折格子のアレイの導波路本数の２倍以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【目的】波長分割多重化された信号光から所望の複数の波長成分を同時に取出す。
【構成】制御光として用いるレーザ光を２つに分割し，さらにこれらの分割制御光ビームを，それぞれ，交叉する角度が異なる３つの制御光ビーム部分Ｂ１，Ｂ２，Ｂ３に分け，フォトリフラクティブ光導波路60に，プリズム50を介して垂直に照射する。これによって周期の異なる３つのグレーティングＧ１，Ｇ２，Ｇ３を光導波路60の異なる場所に同時に誘起させ，信号光Ｓに含まれる３つの異なる波長の信号成分を同時に回折させて取出す。 （もっと読む）

【課題】従来の光波長可変フィルタは、熱光学効果を利用していたため熱制御機構における消費電力が大きいことが問題となっていた。波長可変の応答時間は２−６０ｍｓと遅い。さらに、熱光学特性の観点からポリマ導波路を用いていたため、吸湿等の信頼性の点でも問題があった。
【解決手段】本発明の光波長可変フィルタは、波長可変のための波面変換制御をＡＷＧ外の空間光学素子により実現する。波面制御素子は、静電駆動方式よるマイクロマシン型波面制御器を用いる。磁気駆動方式、熱駆動方式、圧電駆動方式を用いることができる。電気光学結晶を利用しても同様の効果が得られる。偏波無依存化することで、ＬＣＯＳや垂直配向の液晶素子なども利用できる。極めて少ない消費電力で波長可変制御が可能で、波長切り替えの応答時間も極めて速い。光学配置構成が簡単で安定性、実装性に優れた光波長フィルタを実現できる。 （もっと読む）

【課題】光偏向素子の光導波路基板への実装構造であって、光導波路基板と光偏向素子との間における絶縁性及び光学的な透明性を確保した構造を備えた、光スイッチモジュールを提供する。
【解決手段】配線１６０−１、１６０−２、１６０−３、１６０−４が形成された光導波路基板１２０に、下面に外部接続端子１５０−１、１５０−２が形成された光偏向素子１０３ａが実装された光スイッチモジュール１００は、前記光導波路基板１２０と前記光偏向素子１０３ａとの間に複数種類の絶縁性樹脂１５７，２００が設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光デバイス同士又は光デバイスの構成部品同士を容易に且つ高精度に光結合することができる光結合方法を提供する。
【解決手段】光デバイスを構成する第１の構成部品２１０の凹部の縁部近傍の高台部分に、Ｘ軸方向に沿って複数の導電パターン２１１ａ，２１１ｂを形成する。また、光デバイスを構成する第２の構成部品２２０の下面のエッジ部に、Ｘ軸方向に沿って導電パターン２２１ａ，２２１ｂを形成する。導電パターン２１１ａと導電パターン２２１ａとが最適な状態で接触して端子２１２ａ間に電流が流れるように、第２の構成部品２２０の角度θｚを調整する。更に、導電パターン２１１ｂと導電パターン２２１ｂとが接触するように第２の構成部品２２０を移動させ、角度θｘを調整する。 （もっと読む）

【課題】
小型化・集積化が可能で、かつ作製が容易で、しかも光ファイバーとの結合を簡単に行うことができる偏波分離素子を提供する。
【解決手段】
スラブ光導波路からなる偏波分離素子１であって、スラブ光導波路のコア層１２を形成する材料が複屈折材料であって、その屈折率が、下クラッドまたは上下クラッドとの境界面に平行な偏波成分のみをもつＴＥ波と、前記境界面に垂直な偏波成分のみをもつＴＭ波とで異なることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】各構成部品を容易に且つ高精度に位置合わせ（光結合）することができる光デバイスの製造方法、及びその製造方法により製造された光デバイスを提供する。
【解決手段】基板２１１の第１の領域上に形成された光導波路を有する第１の構成部品２１０と、第２の光導波路を有する第２の構成部品２２０とを光結合する光デバイスの製造方法において、基板２１１の第２の領域に貫通孔を設けておき、基板２１１の裏面側に貫通孔を塞ぐようにして圧力変形部材２３１を貼り付ける。そして、基板２１１の第２の領域上に第２の構成部品２２０を配置した後、ガス圧印加治具２４１を用いて圧力変形部材２３１に圧力を印加する。これにより、圧力変形部材２３１の一部が基板２１１の上側に突出し、第２の構成部品２２０が上下方向に微動する。光源２４５から光を出射し、受光素子２４６の出力が最大となるように圧力変形部材２３１に印加する圧力を調整する。 （もっと読む）

【課題】下部電極と上部電極との距離を可及的に小さく抑え、コア層に印加する電圧を効率良く十分に確保して消費電圧を低減させると共に、光導波路の光損失量を小さく抑える信頼性の高い光学素子を提供する。
【解決手段】基板１と、基板１上に形成された電気光学材料からなる光導波路２とを備えて光偏向素子が構成されている。光導波路２は、下部クラッド層３と上部クラッド層５との間に光路が形成されるコア層４が挟持されて構成されている。下部及び上部クラッド層３，５は、導電性酸化物を材料として形成されており、コア層４に電圧を印加するための下部及び上部電極を兼ねている。 （もっと読む）

【課題】 非典型的又は過酷な条件下で電気光学デバイスを適合させる方法を提供する。
【解決手段】（１）デバイス作製工程２０２、（２）基板清浄工程２０４、（３）不動態化工程２０６、及び（４）シーリング工程２０８を含む。清浄工程は、デバイスを真空チャンバで加熱して２１０（例えば、〜６０℃及び〜６０ｃｍＨｇで〜４０時間）、基板上に集まった水を排除できる。次いで、デバイスを、プラズマエッチングする２１２シーリング工程は、ダイマー粉末がガスへと気化する約１５０℃の温度まで加熱されるときに始まる２１４。次に、パラキシリレンガスは熱分解炉中に拡散し、そこで、約６５０℃の温度まで加熱され、それによりパラ−キシリレンダイマーの分子結合は十分に破壊され、モノマーへと転化される２１６。真空下で、モノマーであるパラ−キシリレン分子は、コーティングチャンバへ移動、蒸着２１８する。 （もっと読む）

【課題】簡単かつ確実に、複数の光導波路部品の接合面（レンズ面も含む）での反射による戻り光の影響を受けることがないようにする。
【解決手段】スラブ光導波路基板を、互いに平行に設けられる複数の入力チャネル光導波路４と、互いに光軸が平行になるように設けられる複数のコリメートレンズ５と、他の光導波路部品を実装するための複数の凹部６と、複数の凹部６の間に設けられるスラブ光導波路７と、互いに光軸が平行になるように設けられる複数の集光レンズ８と、互いに平行に設けられる複数の出力チャネル光導波路９とを備えるものとし、入力チャネル光導波路４の中心軸を、コリメートレンズ５の光軸に対して平行にオフセットさせる。 （もっと読む）

適用分野：光学。電子光学材料から構成され、あるいはさらなる層に埋め込まれたブラッグ位相格子（３）を備える光学素子。ブラッグ位相格子（３）は、光の伝搬に沿って周期的に適用された導波路（２）表面の一連の凸部（６）および凹部（７）として設計され、補償材料（８）の層および電気絶縁（９）材料の層で覆われている。位相格子（３）に、空間的に一様でない非周期の外部電界を生成する手段が備えられている。
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【課題】３次元フォトニック結晶を利用した共振器であって、共振波長の選択幅が広く、所望の電場強度分布を有する共振器を提供する。
【解決手段】本発明にかかる共振器は、３次元フォトニック結晶の複数の周期欠陥部２１，２２により共振器を形成し、前記複数の周期欠陥部２１，２２は前記３次元フォトニック結晶のフォトニックバンドギャップ内に、固有の共振モードを有しない周期欠陥部２１，２２を少なくとも１つ有することを特徴とする。 （もっと読む）

本発明によれば、多孔性シリコン、シリカ、又はアルミナ基板の孔に屈折率ｎが電圧依存性を有する材料を堆積させる方法であって、堆積される前記材料の前駆体物質を前駆体溶液として設けること、前駆体溶液の液滴の微細ミストを形成すること、及び、前記液滴を前記多孔性基板に付着させること、を含む方法が提供される。本発明は初めて、充填率が少なくとも６０％である多孔性シリコン、シリカ、及びアルミナ基板を提供するものである。１００％近い充填率が実現可能である。上部電極及び下部電極が設けられると、充填された多孔性シリコン、シリカ、及びアルミナウェーハを電圧依存性を有するフォトニックデバイスとして使用することができる。例えばランダムアクセスメモリ等のマイクロ電子デバイスの製造において使用するべく、シリコン基板表面の溝を内張りするために、同じ方法を用いることができる。
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【課題】 光路変換部の形成位置等の設計自由度が高く、且つ漏光及び散乱損失の発生が抑制された光導波路デバイス及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 本光導波路デバイスの製造方法は、基部３と、基部３上に配置された下部クラッド部２１と、下部クラッド部２１上に積層され且つ光を伝搬するコア部１と、コア部１上に配置された上部クラッド部２２と、基部３上に形成されており且つコア部を伝搬した光の光路を変換する光路変換部４１、４２と、を備える光導波路デバイス１００を製造する方法であり、上記基部３と、基部３上に形成された上記下部クラッド部２１及び上記光路変換部４１、４２と、を備える積層体上に、コア部形成用未硬化フィルムを配設するコア部形成用未硬化フィルム配設工程と、上記コア部１を形成するコア部形成工程と、上記上部クラッド部２２を形成する上部クラッド部形成工程と、を備える。 （もっと読む）