【課題】プラズマ化学気相成長(Ｐｌａｓｍａ−Ｅｎｈａｎｃｅｄ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ：ＰＥＣＶＤ)工程で基材上に相異なる物性の多層薄膜構造を製造する方法を提供する。
【解決手段】プラズマ生成用混合ガスの比率を変化させない状態で、印加されるプラズマ周波数を変更して当該プラズマ周波数のプラズマ組成に対応する薄膜を順次形成する過程を含む構成とした。 （もっと読む）

光学フィルタは、金属層（１０６、１０７、１０８、１０９）と、少なくとも１つの誘電体層が２つ以上の亜鉛系薄膜（１１２、１１４、１１８，１２０）により定められている誘電体層（１０１、１０２、１０３、１０４、１０５）とを含む積層体から形成される。これらの亜鉛系薄膜は、亜鉛割合が異なっている。これらの割合の選択は、この誘電体層中の薄膜の位置に基づいている。金属層の形成の直前の亜鉛系薄膜が、８０パーセント〜１００パーセントの範囲内の亜鉛割合を持っている場合には、予想以上に小さいシート抵抗が得られる。下部の亜鉛系薄膜の割合を５０パーセントに近づける（２５〜７５パーセント）ことで、工程安定化と製造コストが実現される。工程安定化は、金属層に隣接して誘電体層中にインジウム系薄膜（１１０と１１６）を与えることで、さらに高められる。
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【課題】耐久性に優れ、適度な可視光線吸収率を有する、安価な光吸収性反射防止膜付き有機基体とその製造方法の提供。
【解決手段】表面がプラズマで処理された有機基体１０上に、基体側から、ケイ素の窒化物を主成分とする密着層１２、光吸収膜１３、低屈折率膜１５が順に形成された光吸収性反射防止膜付き有機基体とその製造方法。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィ技術において、露光光一層斜めに入射する場合であっても、レジスト層とシリコン半導体基板との界面における反射率を充分に低減することができる反射防止膜を提供する。
【解決手段】２層構造反射防止膜は、１９０〜１９５nmの波長を有し、開口数が１．２を越え１．３以下である露光系にてレジスト層を露光する際に用いられる、レジスト層とシリコン半導体基板の表面に形成されたシリコン窒化膜との間に形成され、反射防止膜を構成する上層、下層の複素屈折率N₁,N₂を、N₁=n₁−k₁i,N₂=n₂−k₂iとし、上層、下層の膜厚をd₁,d₂とし、[n₁₀,k₁₀,d₁₀,n₂₀,k₂₀,d₂₀]の値の組合せとして所定の組合せを選択したとき、n₁,k₁,d₁,n₂,k₂,d₂が、以下の関係式を満足する。{(n₁−n₁₀)／(n_1m−n₁₀)}²＋{(k₁−k₁₀)／(k_1m−k₁₀)}²＋{(d₁−d₁₀)／(d_1m−d₁₀)}²＋{(n₂−n₂₀)／(n_2m−n₂₀)}²＋{(k₂−k₂₀)／(k_2m−k₂₀)}²＋{(d₂−d₂₀)／(d_2m−d₂₀)}²≦１ （もっと読む）

【課題】中屈折率領域（ｎ＝１．５〜１．９程度）において、光吸収の少ない光学薄膜を有する光学製品の製造方法および光学製品を提供すること。
【解決手段】スパッタリングにより２つのターゲットを用いて基板上に光学薄膜を形成する光学製品の製造方法であって、前記スパッタリング用の２つのターゲットが、Ｓｉおよび、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｚｒ、ＨｆおよびＭｏから選ばれた少なくとも一種の遷移金属とＳｉからなる混合固溶体である。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィ技術において、露光光一層斜めに入射する場合であっても、レジスト層とシリコン半導体基板との界面における反射率を充分に低減することができる反射防止膜を提供する。
【解決手段】２層構造反射防止膜は、１９０〜１９５nmの波長を有し、開口数が１．１を越え１．２以下である露光系にてレジスト層を露光する際に用いられる、レジスト層とシリコン半導体基板の表面に形成されたシリコン窒化膜との間に形成され、反射防止膜を構成する上層、下層の複素屈折率N₁,N₂を、N₁=n₁−k₁i,N₂=n₂−k₂iとし、上層、下層の膜厚をd₁,d₂とし、[n₁₀,k₁₀,d₁₀,n₂₀,k₂₀,d₂₀]の値の組合せとして所定の組合せを選択したとき、n₁,k₁,d₁,n₂,k₂,d₂が、以下の関係式を満足する。{(n₁−n₁₀)／(n_1m−n₁₀)}²＋{(k₁−k₁₀)／(k_1m−k₁₀)}²＋{(d₁−d₁₀)／(d_1m−d₁₀)}²＋{(n₂−n₂₀)／(n_2m−n₂₀)}²＋{(k₂−k₂₀)／(k_2m−k₂₀)}²＋{(d₂−d₂₀)／(d_2m−d₂₀)}²≦１ （もっと読む）

【課題】本発明は、耐湿熱性を向上した、すなわち高温高湿環境下においても金属の凝集などによる劣化のない、高透明性、反射防止性、さらには帯電防止機能に優れ、防汚機能を有するディスプレイ用反射防止フィルムとその製造方法、およびその反射防止フィルムを前面に備えたディスプレイを提供することを目的とする。
【解決手段】少なくともトリアセチルセルロースフィルム基材上に、ハードコート層、金属薄膜層及び金属酸化物層を積層してなる導電性多層膜を有する積層体であって、前記トリアセチルセルロースフィルム基材のハードコート層を設ける側の反対側の面のみがケン化処理されていることを特徴とする反射防止フィルムとその製造方法、およびその反射防止フィルムを備えたディスプレイである。 （もっと読む）

【課題】耐衝撃性が高く、干渉縞のきわめて少ない軽量の高屈折率眼鏡用プラスチックレンズを得ること。
【解決手段】本発明は、少なくとも一種のポリイソシアネート化合物と少なくとも一種のポリチオール及び／又は含硫ポリオールとを重合して得られるポリウレタン系樹脂を用いたプラスチックレンズの表面に、少なくとも厚さ０．８μのポリウレタン樹脂からなるプライマー層を形成し、さらにその上に屈折率１．４７以上のオルガノシロキサン系ハードコート層を形成し、更に該ハードコート層の上に金属薄膜を少なくとも一層設けた高屈折率眼鏡用プラスチックレンズである。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、可視光領域の広い範囲にわたって反射率を充分に低くすることができ、撥水性、指紋拭き取り性、耐食性、耐候性および密着性に優れた反射防止薄膜積層体およびその反射防止薄膜積層体を前面に備えた光学表示装置を提供することにある。また、この反射防止薄膜積層体を光学物品の光学機能性フィルタとして用いることにある。
【解決手段】少なくとも基材上に、高屈折率透明薄膜層と金属薄膜層とを交互に積層してなる導電性多層膜を形成して、その最外層に防汚性機能と同時に防食性機能を備える防汚防食層を設けてなることを特徴とする反射防止薄膜積層体およびこの積層体を前面に備えた光学表示装置である。 （もっと読む）

【課題】 基材に対し、高屈折率金属化合物層と金属薄膜層と高屈折透明薄膜層と低屈折率薄膜層と防汚層とが順に積層された導電性積層体を、湿った布で長時間にわたり、荷重を掛けて擦っても高屈折率金属化合物層と金属薄膜層とが剥がれてしまわない導電性積層体、該導電性積層体を有する光学機能性フィルタおよび光学表示装置及び光学物品を提供することにある。
【解決手段】 少なくとも基材上に、金属薄膜層及び金属化合物層を積層してなる導電性機能層、防汚層を有する導電性積層体であって、前記防汚層が、反応性官能基と結合している有機珪素化合物から得られた層であり、且つ純水転落角が５０°以下であることあることを特徴とする導電性積層体とする。 （もっと読む）

【課題】基板との密着性を高めて膜剥がれを防止すると共に、優れた反射防止特性を有する反射防止膜を提供する。
【解決手段】基板上に施される反射防止膜であって、前記基板側から順に、金属で構成される第１の層と、フッ化物で構成される第２の層とを有することを特徴とする反射防止膜を提供する。 （もっと読む）

【課題】 帯電防止効果が非常に優れている帯電防止性光学フィルム及び帯電防止性粘着型光学フィルムを提供することを目的とする。さらに、前記光学フィルムを用いた画像表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 光学フィルムの少なくとも片面に帯電防止層が積層されている帯電防止性光学フィルムにおいて、前記帯電防止性光学フィルムの側面の少なくとも一部に導電部材が設けられており、前記導電部材は帯電防止層に接触していることを特徴とする帯電防止性光学フィルム。 （もっと読む）

【課題】 「フォトニックバンドギャップ結晶のパスバンド用反射防止膜」である。
【解決手段】 ストップバンドでの強い反射を保ちつつも、（交互に配置された高屈折率材料と低屈折率材料を有する）フォトニックバンドギャップ（ＰＢＧ）結晶のパスバンドを通過する光の透過率は、最大化される。反射防止膜（ＡＲＣ）は、ＰＢＧ結晶を被覆するために用いられ、ＡＲＣの材料は、ｎ＝（ｎ_ａｉｒ×ｎ_{ｈｉｇｈ−ｉｎｄｅｘ ｍａｔｅｒｉａｌ}）^１／２の屈折率を有し、λ_ｃを中心波長とした場合に、λ_ｃ／８程度の厚さを有する。 （もっと読む）

【課題】特定の表面処理を施さなくても液中での分散性が良好で、光透過性に優れた薄層を比較的低温で形成しうる光学器材用液剤及びその製造方法、並びに該光学器材用液剤を塗布する工程を有する光学器材の製造方法を提供すること。
【解決手段】フッ化カルシウムを含む粒子を含有する光学器材用液剤であって、前記フッ化カルシウムを含む粒子の動的光散乱法による平均粒径が１〜２０ｎｍである光学器材用液剤、グリセロリン酸カルシウム、グルコース−１−リン酸カルシウム及びグルコース−６−リン酸カルシウムからなる群より選ばれた１種以上のカルシウムイオン供給化合物（Ａ１）及びフッ素イオン供給化合物（Ｂ）を混合する工程を有する前記光学器材用液剤の製造方法、及び前記光学器材用液剤からなる被膜を光学器材の基材上に形成する工程を有する光学器材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 成膜を繰り返すことによって放電が消滅し易くなるという従来のスパッタ成膜装置の問題点を解決する。
【解決手段】 同一チャンバー内に複数のターゲットを有し、且つそのうちの少なくとも一つが遷移元素ターゲットであり、且つ、該複数のターゲットのうち少なくとも一つが、低吸収なフッ化物薄膜を生成するために水素添加を必要とするような金属ターゲットである反応性スパッタ成膜装置において、該水素添加を必要とする金属ターゲットで放電を行う際に、該遷移元素ターゲット、及びその周辺の電極部を該遷移元素とは異なる材料で被覆しておくことにより、該遷移元素ターゲットの放電安定性を維持する。 （もっと読む）

【課題】 光学設計による反射防止フィルムの問題点、及びサブ波長格子による反射防止構造体の問題点を同時に解決し、かつ、良好な反射防止機能を有する、工業的に生産可能な表面構造体を提供する。
【解決手段】 可視光全域の透過率が７０％以上で、厚さが３８０ｎｍ以下である薄膜層を少なくとも３層以上含む多層膜構造体であり、かつ各層の可視光領域の屈折率を外部媒体に最も近い最表層から基材に最も近い最下層方向に１．０から２．５の間で段階的に見かけ屈折率が大きくなるように変化させていることを特徴とする、屈折率傾斜多層薄膜。 （もっと読む）

【課題】 液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）等、表示部材の製造用等の光学用途において好適な反射防止フィルム用ポリエステルフィルムおよび反射防止フィルムを提供する。
【解決手段】 少なくとも一軸方向に延伸されたポリエステルフィルムの少なくとも片面に、金属元素を有する有機化合物と水性ウレタン樹脂とを含有する塗布剤を塗布し、乾燥させることにより設けられた塗布層を有し、波長４００〜８００ｎｍの任意の波長に対して絶対反射率が４．０％以上であることを特徴とする反射防止フィルム用ポリエステルフィルム。 （もっと読む）

【課題】 低コストでめっき処理でき、かつめっきムラのないめっき処理方法を提供すること。生産性の高い透光性導電性膜、透光性電磁波シールド膜、および光学フィルターを提供すること。
【解決手段】 透明な支持体上に導電性金属部と可視光透過性部から構成されるメッシュ状の透光性導電性膜においてハロゲン化銀感光材料の露光、現像により導電性を有する金属部を形成し、めっきによりさらに導電性を高める製造方法において現像処理後、定着処理前に乾燥工程を導入し、めっき前の導電性銀メッシュの導電性を高める製造方法。これを用いた透光性電磁波シールド膜、透光性導電性膜。 （もっと読む）

コーティング組成物、及びこの組成物を製品の表面に堆積させて、反射防止コーティングを形成する方法が開示される。一実施形態では、コーティング組成物は、（メタ）アクリレート官能性シリコンアルコキシド、シリカ粒子、（メタ）アクリレートモノマー、エポキシ（メタ）アクリレートオリゴマー、光開始剤、溶媒、酸、及び水を含む。コーティング組成物が製品表面に堆積され、かつ硬化された時に、コーティング組成物が５１０ｎｍの波長で約１．６０未満の屈折率を有するように、組成物の成分の相対量が制御される。別の実施形態では、コーティング組成物は、シリコンの有機金属化合物以外の有機金属化合物、エポキシ官能性シリコンアルコキシド、非エポキシ官能性シリコンアルコキシド、エポキシ官能性分子と混和性がある硬化剤、溶媒、無機酸、及び水を含む。コーティング組成物が製品表面に堆積され、かつ硬化された時に、コーティング組成物が５１０ｎｍの波長で約１．７０超の屈折率を有するように、組成物の成分の相対量が制御される。このコーティング組成物は、処理時間が９０分未満で反射防止コーティングを形成する方法で堆積される。
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【課題】光触媒消臭及び除菌機能と熱線・紫外線遮蔽機能の両機能を同時に有効に発揮でき、透明基材に用いることができ、常温での塗膜形成が可能な光触媒消臭及び除菌機能付き熱線・紫外線遮蔽膜形成用塗布液及びこれを用いた膜、基材を提供する。
【解決手段】光触媒消臭及び除菌用金属酸化物と、赤外光遮蔽材料と、紫外線吸収材料と、希釈溶媒と、硬化触媒とを含有する塗布液である。赤外光遮蔽材料はアンチモン含有酸化錫と錫含有酸化イリジウムのうちの１種以上からなる平均粒径３５ｎｍ以下の微粒子であり、紫外線吸収材料は無機系の酸化セリウム系紫外線吸収剤と酸化亜鉛系紫外線吸収剤と酸化チタン系紫外線吸収剤のうちの１種以上からなる平均粒径３５ｎｍ以下の微粒子であり、光触媒消臭及び除菌用金属酸化物は、酸化チタンと亜鉛ドープ酸化チタンと窒素ドープ酸化チタンのうちの１種以上からなる平均粒径３５ｎｍ以下の微粒子である。 （もっと読む）