【課題】ＡＲ膜とＮＤ膜を重ねることで生じる不具合を回避し、良好な低反射性を有するＮＤフィルタを提供する。
【解決手段】ＮＤフィルタ１は、光透過性を有する基材１０と、基材１０の表面に形成されて光の反射を調節するＡＲ膜２０と、ＡＲ膜２０の上に形成されて可視光の透過光量を調節するＮＤ膜３０と、を備え、ＡＲ膜２０は、可視光領域における屈折率が基材１０よりも低い低屈折率層２２と、可視光領域における屈折率が低屈折率層２２よりも高い高屈折率層２４と、を有し、高屈折率層２４は、低屈折率層２２よりも基材１０側に位置している。 （もっと読む）

【課題】入射角の変化による色調変化を抑制することができる光学体を提供する。
【解決手段】光学体は、高屈折率層と金属層とが交互に積層された５層構成の波長選択反射層を有する。高屈折率層全体の光学膜厚ｄ_aに対する金属層全体の光学膜厚ｄ_bの比率αと、第１の光学層側および第２の光学層側のいずれか一方から見て、１層目の高屈折率層の光学膜厚ｄ₁に対する３層目の高屈折率層の光学膜厚ｄ₃の比率β（＝ｄ₃／ｄ₁）とが所定の領域内に含まれるようにする。 （もっと読む）

【課題】ゴーストやフレアをより低減させて、良好な光学性能を有した光学系を提供する。
【解決手段】光軸に沿って物体側から順に並んだ、負の屈折力を有する第１レンズ群Ｇ１と、正の屈折力を有する第２レンズ群Ｇ２とからなる光学系ＷＬにおいて、無限遠物体から有限距離物体への合焦の際、第１レンズ群Ｇ１が固定されて、第２レンズ群Ｇ２が移動するようになっており、第１レンズ群Ｇ１および第２レンズ群Ｇ２における光学面のうち少なくとも１面に反射防止膜が設けられ、当該反射防止膜はウェットプロセスを用いて形成された層を少なくとも１層含むように構成され、第１レンズ群Ｇ１の焦点距離をｆ１とし、第２レンズ群Ｇ２の焦点距離をｆ２とし、無限遠合焦状態での光学系ＷＬの焦点距離をｆとしたとき、０．１０＜（−ｆ１）／ｆ２＜２．５０および０．２０＜ｆ２／ｆ＜１．５５で表わされる条件式を満足している。 （もっと読む）

【課題】ハフニウムおよび／もしくはジルコニウムオキシヒドロキシ化合物を備える薄膜または積層構造体を有する装置およびかかる装置の製造方法を提供する。
【解決手段】ハフニウムおよびジルコニウム化合物は、通常ランタンのような他の金属でドープすることができる。電子装置またはそれを作製し得る構成材の例には、限定することなく、絶縁体、トランジスタおよびコンデンサがある。ポジ型もしくはネガ型レジストまたは装置の機能的構成材としての材料を用いて装置をパターン化する方法、例えば、インプリントリソグラフィー用のマスタープレートを作製することができ、腐食バリアを有する装置の製造方法の実施形態。光学基板およびコーティングを備える光学的装置の実施形態であり、電子顕微鏡を用いて寸法を正確に測定する物理的ルーラーの実施形態。 （もっと読む）

【課題】近赤外光カットの性能を満足しつつ、素材の選択肢を広げ、ニーズに応じて小型化などの設計自由度を高めることが可能な固体撮像素子用または受光素子用の近赤外光カットフィルタ、並びに、これを搭載した撮像装置、固体撮像素子、撮像装置用レンズを提供する。
【解決手段】本発明の撮像装置１０１は、被写体と光電変換素子６２の間に、近赤外光を遮蔽する近赤外光カットフィルタ１が設置されているものである。近赤外光カットフィルタ１は、光学部材１０と、光学部材１０の第２主面１２の表層に形成された反射防止層３０と、光学部材１０の第２主面１２、又は／及び第１主面１１上に形成された近赤外遮蔽層２０とを備える。近赤外遮蔽層２０は、少なくとも一組の螺旋軸の回転方向が右の液晶相を固定化した選択波長反射層２１Ｒと、螺旋軸の回転方向が左の液晶相を固定化した選択波長反射層２１Ｌとを積層したものである。 （もっと読む）

【課題】高精細かつ均一なモスアイ構造を賦形可能な反射防止フィルム製造用金型、及び、反射防止フィルム製造用金型の製造方法を提供する。
【解決手段】反射防止フィルム製造用金型は、アルミニウム合金により形成される基材部と、基材部上にアルミニウムにより形成された層であり、その表面に可視光領域の光の波長よりも短い周期で複数の微細孔が配列された酸化皮膜を有する賦形部とを備え、微細孔は、開口部から底部に向かってその径が小さくなるテーパー形状を有しているものとした。また、この反射防止フィルム製造用金型は、アルミニウム層形成工程と、微細孔形成工程を備え、微細孔形成工程は、陽極酸化工程と、第１エッチング工程と、第１エッチング工程のエッチングレートよりも高いエッチングレートでエッチングする第２エッチング工程とを備え、これらの工程を順次繰り返すものとした。 （もっと読む）

【課題】反射屈折投影対物系、投影露光装置、及び半導体構成要素及び他の微細構造化構成要素を製造する方法を提供する。
【解決手段】物体平面の物体視野を像平面の像視野上に結像するためのマイクロリソグラフィのための反射屈折投影対物系は、物体視野を第１の実中間像上に結像する第１の部分対物系、第１の中間像を第２の実中間像上に結像する第２の部分対物系、及び第２の中間像を像視野上に結像する第３の部分対物系を含む。第２の部分対物系は、厳密に１つの凹ミラー及び少なくとも１つのレンズを有する反射屈折対物系である。第１の折り返しミラー及び第２の折り返しミラーが設けられる。第２の部分対物系のレンズの少なくとも１つの面は、０．２％よりも低い反射率を有する。代替的又は追加的に、第２の部分対物系のレンズの全ての面は、周縁光線同心からのずれが２０°よりも大きいか又はそれに等しいように構成される。 （もっと読む）

【課題】短波長かつ大出力のレーザ素子を利用した光学モジュールにおいて、気密封止されない光学部品の汚染を防止する。
【解決手段】光学部品（１０、２０、３０、４０、５０）は、波長４６０ｎｍ以下のレーザ光αを出射もしくは透過させるものであって、その表面上には少なくとも一部に誘電体膜からなる第１のコーティングＡが施されており、第１のコーティングＡ上には、貴金属もしくは白金族元素を含有した誘電体膜からなる第２のコーティングＢが施されている。 （もっと読む）

【課題】波長依存性が少なく、視認性の優れた光学調整機能を有し、かつ、優れた電気的信頼性を有する透明導電性素子を提供する。
【解決手段】透明導電性素子１は、可視光の波長以下の平均波長を有する波面Ｓｗが設けられた光学層２と、波面上に該波面に倣うように形成された透明導電層６とを備える。波面の平均波長をλｍとし、波面の振動の平均幅をＡｍとしたき、比率（Ａｍ／λｍ）が、０．２以上１．０以下であり、波面のうち斜面の平均角度が、３０°以上６０°以下の範囲内であり、波面が最も高くなる位置における透明導電層６の膜厚をＤ１とし、波面が最も低くなる位置における膜厚をＤ３としたとき、比率Ｄ３／Ｄ１が０．８以下の範囲内である。 （もっと読む）

【課題】低反射な光吸収性の光学フィルタを提供する。また光学フィルタ用いた光学装置、光学フィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】基板１３上に、膜厚方向に屈折率が段階的に変化する屈折率傾斜薄膜１２と
、反射を低減する反射防止構造体１１１とを有し、屈折率傾斜薄膜１２の屈折率を膜厚方
向において、基板１３側では、基板１３の屈折率に近づくように変化し、反射防止構造体
１１１側では、反射防止構造体１１１の屈折率に近づくように変化させた光学フィルタを用いることにより解決する。また光学フィルタを撮影光学系に用いる。 （もっと読む）

【課題】スパッタリング法によってＭｇＦ_２薄膜を形成するとともに、実用上問題のない反射率特性を維持しつつ、耐擦傷性の高い反射防止膜を提供する。
【解決手段】波長５００ｎｍにおける屈折率が１．３４〜１．４４のポーラスＳｉＯ_２層と、ポーラスＳｉＯ_２層の基板から遠い面に隣接するように形成された、膜厚５〜５０ｎｍのＭｇＦ_２層と、を有する。また、成膜圧力を０．５〜１０Ｐａに設定してＳｉＯ_２をスパッタリング成膜する第１工程と、第１工程で成膜したＳｉＯ_２上に、粒径０．１〜１０ｍｍの顆粒状ＭｇＦ_２をターゲットとし、Ｏ_２ガス雰囲気でＭｇＦ_２をスパッタリング成膜する第２工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 スパッタリングを用いて安全・安価な方法で、可視領域において低吸収なフッ化膜を作成する方法を提供すること。
【解決手段】 本願発明は、金属ターゲットと反応性ガスを含む混合ガスを用いて、反応性スパッタにより基板上にフッ化膜を形成するフッ化膜形成方法において、前記混合ガスはＯ_２ガス及び前記反応性ガスを含み、前記反応性ガスはフルオロカーボン系ガスであることを特徴とするフッ化膜形成方法である。 （もっと読む）

【課題】本件発明の課題は、プラスチック光学部品の表面に対する密着性に優れ、広い波長領域の光に対して優れた反射防止性能を有するプラスチック光学部品の反射防止膜及びプラスチック光学部品の反射防止膜の製造方法を提供することである。
【解決手段】上記課題を解決するため、反射防止膜を、プラスチック光学部品基材上に設けられ、有機系ケイ素化合物を用いて形成された応力緩和層と、当該応力緩和層上に、高屈折率層と、有機系ケイ素化合物を用いて形成される低屈折率層とを当該順序で積層した二層を一組の反射防止ペア層として、当該反射防止ペア層を少なくとも二組積層した構造を有する反射防止構造体とを備える構成とする。 （もっと読む）

【課題】耐熱温度の低い樹脂材料などに、膜応力が大きい膜材料を成膜するときに、膜クラックの発生が少なく、環境試験寿命を大幅に長くできるスパッタリング方法を提供することを目的としている。
【解決手段】樹脂基板９などに高屈折率膜１５，低屈折率膜１６，高屈折率膜１７，低屈折率膜１８をスパッタする場合に、スパッタの開始前の圧力を１０^−１Ｐａ台の低真空として、膜応力を引張応力とすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】再現性よく光取り出し効率を向上させることができる半導体発光素子、ウェーハ、および窒化物半導体結晶層の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の実施態様によれば、第１半導体層と、発光層と、第２半導体層と、低屈折率層と、を備えた半導体発光素子が提供される。前記第１半導体層は、光取り出し面を形成する。前記発光層は、前記第１半導体層の上に設けられ活性層を有する。前記第２半導体層は、前記発光層の上に設けられている。前記低屈折率層は、前記第１半導体層の屈折率よりも低い屈折率を有し、前記光取り出し面を部分的に覆う。 （もっと読む）

【課題】入射光の反射を低減することができる位相差素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板１１と、透明基板１１上に高屈折率膜と低屈折率膜とが交互に積層され、各層の厚さが使用波長以下である界面反射防止膜１２と、界面反射防止膜１２上に誘電体材料が１８０°異なる２方向から交互に斜方蒸着された斜方蒸着膜１３とを備える。界面反射防止膜１２の屈折率は、透明基板１１の屈折率よりも高く、斜方蒸着膜１３の屈折率よりも小さい。 （もっと読む）

【課題】液晶性化合物を配向させた光学異方性層を有する光学フィルムにおいて、フィルム強度が高く、薄膜で、液晶性化合物の配向性の良い光学フィルムを提供すること。
【解決手段】少なくとも２種のディスコティック液晶性化合物と、多官能重合性モノマーとを含む組成物から形成された光学異方性層を有する光学フィルムであって、
前記２種のディスコティック液晶性化合物が前記光学異方性層において層平面に対して実質的に垂直に配向し、
前記光学異方性層の厚さが０．５〜１．６μｍであり、
前記光学フィルムの波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅが８０〜２００ｎｍである、光学フィルム。 （もっと読む）

【課題】入射光の利用効率を向上する光電変換装置を提供する。
【解決手段】光路部材２２０は、中心部分２２２と、中心部分２２２の屈折率よりも低い屈折率を有する周辺部分２２１と、を含んでおり、光電変換部１１０の受光面１１１に平行な第５平面１００５内、および受光面１１１に平行で第５平面１００５よりも受光面１１１に近い第６平面１００６内において、周辺部分２２１が中心部分２２２に連続して中心部分２２２を囲み、かつ、周辺部分２２１の屈折率が絶縁膜２００の屈折率よりも高く、第５平面１００５内における周辺部分２２１の厚みＴＨ２よりも、第６平面１００６内における周辺部分２２１の厚みＴＨ４が小さい。 （もっと読む）

【課題】透明基材上に反射防止層をはじめとする光学薄膜層を形成した光学フィルムにおいて、その表面硬度をさらに高めるとともに、耐光性などを向上させる。
【解決手段】ベースフィルム１の上に、離型剤を塗布することによって離型層２を形成する。離型層２の上に中間層材料を塗工し硬化させることによって、シロキサン成分が含有された中間層３を形成する。透明基材層材料として、電離放射線硬化型樹脂組成物を、ラミネートフィルム５で覆ってキャスト法で成膜することによって透明基材層４を形成する。中間層３から、離型層２及びベースフィルム１を剥離すると共に、透明基材層４からラミネートフィルム５を剥離する。中間層３の上に反射防止層（ＡＲ層）を形成する。 （もっと読む）

【課題】ゴーストやフレアを低減し、良好な反射率特性の反射防止膜を有する光学素子を提供すること。
【解決手段】光学素子であって、第ｍ番目の光学面に形成され、関数Ｆｍ(ｘ)で表される反射率特性を有する反射防止膜と、第ｎ番目の光学面に形成され、反射率特性を関数Ｆｎ(ｘ)で表される反射率特性を有する反射防止膜と、を有し、関数Ｆｍ(ｘ)及び関数Ｆｎ(ｘ)の少なくとも一方の関数は、所定の波長において反射率の極大値を有し、Ｗ型の特性を有し、他方の関数は、一方の関数の少なくとも一つの極大値を打ち消すような波形を有し、関数Ｆｍ(ｘ)で示される反射率特性を有する反射防止膜は、関数Ｆｎ(ｘ)で示される反射率特性を有する反射防止膜よりも、光源に近い側の光学面に形成されていることを特徴とする反射防止膜を有する。
ここで、ｍ、ｎは、それぞれ正の整数ｍ＜ｎである。 （もっと読む）