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Fターム[3B005EA00]の内容

転写による装飾 (10,862) | 完成品の装飾形態 (711)

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Fターム[3B005EA00]に分類される特許

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【課題】有機マイクロエレクトロニクスデバイスを製造する目的で放射線硬化型熱転写素子を製造及び利用する方法の提供。
【解決手段】サブストレート100とサブストレート100の上を覆っている光熱変換層102を含む放射線硬化型熱転写素子と、熱転写素子を作製するための方法。該光熱変換層102は、硬化波長の放射線の照射によって硬化可能な放射線硬化型物質と、硬化波長における放射線吸収度を実質的に向上させない結像放射線吸収剤物質からなる。該放射線硬化型熱転写素子は、有機マイクロエレクトロニクスデバイスを作製するためのプロセスで用いることができる。 (もっと読む)


【課題】 ビニルアルコール系重合体樹脂を基材フィルムとして使用し、且つ保護層として硬化性樹脂を使用する転写フィルムであって、加熱により容易に剥離でき、且つ、得られる保護層の表面物性に優れる熱転写用フィルムを提供する。
【解決手段】 ポリビニルアルコール樹脂を主成分とする基材フィルム上に、ラジカル重合性樹脂組成物層と加飾層とをこの順に積層した転写層を有する熱転写用フィルムであって、前記ラジカル重合性樹脂組成物層が、熱可塑性樹脂を20〜50質量%と、数平均分子量100〜600の範囲であるラジカル反応性希釈剤を全固形分量に対して10〜70質量%含有する熱転写用フィルム。 (もっと読む)


【課題】液晶の様な、分子配向を起因とする破断抵抗異方性を示す材料を含む転写箔において、剥離時にかかる抵抗を低減し、転写欠けやバリを軽減し、作業性が安定した転写箔およびその転写物を提供する。
【解決手段】破断抵抗に異方性を生じる液晶層の輪郭部(破断させる部分)をポリドメイン構造若しくはアイソトロピック相とすることにより、剥離時にかかる抵抗を低減し、転写欠けやバリを軽減し、作業性が安定した転写箔およびその転写物が提供可能となる。 (もっと読む)


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