【課題】処理対象基板とランプとの間に空気が流入することが抑制され、従って、処理対象基板に対して高い効率で光を照射することができる光照射装置を提供する。
【解決手段】基板搬送路に沿って搬送される処理対象基板の一面に向けて光を照射するエキシマランプが内蔵されたランプハウスと、前記処理対象基板と前記エキシマランプとの間に不活性ガスを供給するガス供給手段とを備えてなり、前記基板搬送路における前記ランプハウスの上流側に当該ランプハウスに隣接して圧力緩衝空間が形成された光照射装置であって、基板搬送路における圧力緩衝空間の上流側には、処理対象基板における光が照射される一面に沿って流れる空気を排出する空気排出手段が設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】洗浄対象物の表面形状の違いに拘らず、単一の部材で且つ簡単なセッティング操作で洗浄媒体の飛散を防止でき、洗浄装置に対する洗浄対象物の保持操作の容易化を実現できるとともに、洗浄対象物の表面形状の違い毎に用意することの無駄を無くすことができる洗浄媒体飛散防止部材を提供する。
【解決手段】洗浄対象物４は洗浄対象物保持体１２の保持ピン３２に支持されて洗浄槽６の開口部６ａに対向して保持されている。洗浄対象物保持体１２の上方から、低反発性ウレタンスポンジを芯材とする洗浄媒体飛散防止部材２２Ａが挿入され、押圧手段２４により押圧される。洗浄媒体飛散防止部材２２Ａは洗浄対象物４の表面形状に沿って変形し、これにより、洗浄槽６で空気流により飛翔する洗浄媒体５が飛散してその数量が少なくなることが防止される。 （もっと読む）

【課題】電子製品用の基板に付着した異物を除去する異物除去装置において、エアー射出による異物への除去作用を維持しながらも異物の拡散による再汚染を防止し、充分な異物除去能力を得ることができる。
【解決手段】この発明の異物除去装置においては、異物除去処理を行う際に基板１上部に隙間を空けて対向して配置される異物飛散防止板３と、異物飛散防止板３の外周に設けられる囲い板４と、異物飛散防止板３に開口して設けられるエアー射出部５と、エアー射出部５と囲い板４の間に開口して設けられるメインエアー吸引部６およびサブエアー吸引部７とを備えるものである。 （もっと読む）

【課題】基板がエアー洗浄部に接触することにより損傷を受けることを防止可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】上側エアー洗浄部５は、搬送路の途中に設けられた洗浄領域４の上方に配置され、基板２の上面にカーテン状にエアーを噴き付けつつ、噴き付けたエアーを吸入することにより基板２を洗浄する。下側エアー洗浄部は、搬送路の下方において上側エアー洗浄部５と対向する位置に配置され、基板２の下面にカーテン状にエアーを噴き付けつつ、噴き付けたエアーを吸入することにより基板２を洗浄する。上側エアー洗浄部５および下側エアー洗浄部は、端辺３が伸びる方向に対して基板２上において交差するようにカーテン状にエアーを噴き付ける。洗浄領域４には基板案内部１３が配置され、下側エアー洗浄部によるエアーの吸入によって基板２が下側エアー洗浄部に接触することを、基板案内部１３が基板２の下面を支持することによって防止する。 （もっと読む）

【課題】ガラス板の表面に固着したカレットを除去する。
【解決手段】フッ化水素及び水蒸気を含む反応ガスを大気圧近傍下でガラス板９０に接触させて、ガラス板９０の表面部分９１ｅ，９２ｅを構成するＳｉＯ_２のエッチング反応を起こさせる。エッチング反応の度合いを、カレット９３，９４の表面部分９３ｅ，９４ｅがエッチングされるとともに表面部分９３ｅ，９４ｅより内側の部分９３ａ，９４ａが残留する程度に調節する。その後、ガラス板９０を洗浄流体４３にて洗浄する。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク上に付着した異物を、微小なパターンの破壊を抑制しつつ異物を除去し、かつ洗浄による新たな異物を付着させない洗浄方法を提供すること。
【解決手段】フォトマスクのパターン表面上に付着した異物を除去する洗浄方法であって、異物付着面に、液体状の異物除去材料を塗布して異物を囲む膜を形成する工程と、液体状の異物除去材料を固体化した膜とする工程と、固体化した膜を異物とともに除去する異物除去工程と、異物除去工程後にフォトマスク上に残存する異物除去材料に触媒を接触させる工程と、残存する異物除去材料を触媒により分解、除去する工程と、を有することを特徴とする、フォトマスクの洗浄方法である。 （もっと読む）

【課題】回路基板に付着した洗浄液などの液体の飛散に起因する不具合の発生を抑制することができる基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】基板洗浄装置１は、載置台３と、ブラシ４と、ブラシ支持装置５と、駆動装置６とを備える。載置台３の載置面１６には、回路基板が載置される。ブラシ４は、載置面１６に載置された回路基板の実装面を掃く。駆動装置６は、ブラシ４を往復移動させるための可動部５６を含む。ブラシ支持装置５は、ブラシ４が固定されるフレーム２１と、ブラシ４の接触部４ｃの位置よりも高い位置に配置されフレーム２１を移動方向Ｍ１に移動可能に案内するレール２４Ｌ，２４Ｒと、を含む。可動部５６は、接触部４ｃの位置よりも高い位置に配置される。 （もっと読む）

【課題】排気効率およびスペース効率を改善し、液切り乾燥直後の乾いた基板にミストが付着するのを十全に防止する。
【解決手段】上部および下部エアナイフ１２２Ｕ，１２２Ｌがそれらの間を通過する基板Ｇに対してナイフ状の鋭利な高圧エア流を吹き付けることにより、両エアナイフ１２２Ｕ，１２２Ｌの上流側の空間に多量のミストが発生する。基板Ｇの上で発生したミストの大部分は、下流側のＦＦＵ１３６から隙間Ｋを通って廻ってくる空気および入口１１８から入ってくる空気と一緒に上部排気口１２４に吸い込まれる。基板Ｇの下で発生したミストは、その全部がＦＦＵ１３６から廻ってくる空気および入口１１８から入ってくる空気と一緒に下部排気口１２６，１２８に吸い込まれる。 （もっと読む）

【課題】基板の表面の洗浄エリアに基板の回転速度とロール洗浄部材の回転速度の相対速度がゼロとなる点（領域）が存在しても、基板の表面をその全域に亘ってより均一に洗浄できるようにする。
【解決手段】基板Ｗの直径方向に沿って延びるロール洗浄部材１６を基板Ｗの表面に接触させつつ、ロール洗浄部材１６と基板Ｗを共に回転させて基板Ｗの表面をスクラブ洗浄する基板洗浄方法において、ロール洗浄部材１６及び基板Ｗの少なくとも一方の回転速度または基板の回転方向をスクラブ洗浄処理中に変更する。 （もっと読む）

【課題】第１の外装体と第２の外装体との隙間に水晶素板が入り込み、水晶素板が破損してしまうことを低減すると共に、生産性を向上させる水晶素板洗浄用治具を提供することを課題とする。
【解決手段】 水晶素板洗浄用治具１００は、第１及び第２の外装体１１０及び１２０を備えている。第１の外装体１１０は、水晶素板１０が設けられる収容部１１１を有し、収容部１１１の底面に第１の貫通孔１１２が設けられ、収容部１１１を囲むようにして磁石部１１３が設けられている。第２の外装体１２０は、第２の貫通孔１２２を有しており、収容部１１１を覆うように磁石部１１３によって第１の外装体１１０に固定される。 （もっと読む）

【課題】ロール洗浄部材の形状の最適化を図り、基板表面を高い洗浄度で効率的に洗浄して、基板表面に残存するディフェクト数を低減できるようにする。
【解決手段】表面に多数のノジュールを有し基板の直径のほぼ全長に亘って直線状に延びて基板表面との間に洗浄エリアを形成するロール洗浄部材と基板とを共に一方向に回転させつつ、ノジュールと基板表面とを互いに接触させて該表面をスクラブ洗浄する基板洗浄方法において、洗浄エリア（長さＬ）上のロール洗浄部材１６と基板Ｗの相対回転速度が相対的に低い順方向洗浄エリア（長さＬ_ｆ）では、洗浄エリア上のロール洗浄部材と基板の相対回転速度が相対的に高い逆方向洗浄エリア（長さＬ_ｉ）よりも少ない面積でノジュール１６ａと基板Ｗの表面とを互いに接触させる。 （もっと読む）

【課題】異なる材質が貼り合わされている平面部材の左右面または上下面を同時に研磨および／または洗浄を行うことができる平面部材研磨・洗浄装置を提供する。
【解決手段】研磨・洗浄装置は、両面が異なる材質からなる平面部材１１１、１１２を垂直にした場合の左右面、または水平にした場合の上下面を同時に研磨および／または洗浄をすることができる。前記研磨・洗浄装置は、平面部材の一つの面を研磨および／または洗浄する複数組の第１ブラシ組立体１３１、１３４と、平面部材の他の面で、異なる材質からなる面を研磨および／または洗浄する前記第１のブラシ組立体と異なる種類のブラシ毛および異なる構造からなる複数組の第２ブラシ組立体１３２、１３５、１３３ｎ、１３３ｎ’とから構成され、制御装置によって、異なる駆動態様および駆動速度でそれぞれ制御される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、縦型平面部材の左右面を同時に研磨および／または洗浄を行うことができる自動研磨・洗浄装置に関するものである。
【解決手段】本発明の自動研磨・洗浄装置は、大型太陽電池あるいは大型液晶画面等の縦型平面部材の左右面を同時に研磨および／または洗浄をすることができる。前記縦型平面部材は、前記研磨・洗浄中に、砥粒および／または香料の入った研磨液および／または洗浄液が掛けられて研磨・洗浄が簡単で、かつ、素早く行える。本発明の自動研磨・洗浄装置は、縦型平面部材に合った素材から構成されている複数組のブラシ組立により、左右面を同時に研磨および／または洗浄を行うことができるようになっているため、前記縦型平面部材の左右両面の研磨および／または洗浄を迅速、かつ、効率良く行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 マスクブランク用基板の洗浄時に、ガラス基板内部に潜傷が発生することを抑制でき、しかも基板主表面に存在するパーティクルを確実に排除できるマスクブランク用基板等の基板の洗浄方法を提供する。
【解決手段】 液体中に配置された基板の少なくとも一つの表面に向かって、気泡又は洗浄用粒子を含む加圧した洗浄液体を噴射ノズルから噴射し、前記基板の少なくとも一つの表面を洗浄することを含むことを特徴とする、基板の洗浄方法である。 （もっと読む）

【課題】ランニングコストや設備投資の増大、さらにはガラス基板の生産性低下を極力招くことなく、ガラス基板の有効面を効果的に清浄化することができる技術を提供する。
【解決手段】搬送されるガラス基板Ｇの有効面に対し、洗浄液２１を供給しつつ、洗浄ヘッド１５を回転させながら押し当てることにより、ガラス基板Ｇの有効面に付着した異物を取り除く洗浄工程において、洗浄ヘッド１５または洗浄ヘッド１５を保持する第１保持部材１３の少なくとも一方の膨張収縮を利用して、ガラス基板Ｇに対する洗浄ヘッド１５の接触圧を調整する。具体的には、洗浄ヘッド１５がある程度摩耗したときに、洗浄液２１の供給温度を上昇させて、洗浄ヘッド１５または第１保持部材１３の少なくとも一方を熱膨張させ、洗浄ヘッド１５の摩耗によって低下したガラス基板Ｇに対する洗浄ヘッド１５の接触圧を再度高める。 （もっと読む）

【課題】シートガラスの表面の洗浄度を向上することができる洗浄ブラシ体およびシートガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】シートガラスの搬送中に、一方向に並んだ複数の洗浄ブラシを回転させることにより、前記シートガラスを洗浄する。前記洗浄ブラシのそれぞれは、放射状に延びる複数の羽根ブラシ部を備える。前記複数の洗浄ブラシのそれぞれの前記羽根ブラシ部のそれぞれは、接触しないように、同期して回転する。前記羽根ブラシ部の少なくとも１つの回転方向前方のエッジには、ガラス面に対して摺動して洗浄する前方摺動体要素が前記エッジに沿って連続して延在するように形成される。さらに、前記羽根ブラシ部の少なくとも１つの回転方向後方のエッジから、前記洗浄ブラシ体の放射方向内側に傾斜した方向に連続して延在するように後方摺動体要素が形成される。これにより、前記洗浄ブラシ体の回転中、前記シートガラスの表面上に洗浄液の流れが形成される。 （もっと読む）

【課題】洗浄中に板状部材の位置ズレを発生させることなく、板状部材の表裏面に固着したカレット等の異物を確実に除去することができる洗浄装置および洗浄方法を提供する。
【解決手段】洗浄対象である搬送中の板状部材２の表裏面を挟むように搬送経路の両側にそれぞれ千鳥状に配置された複数の洗浄手段３ａ、３ｂを備え、板状部材２に洗浄液を供給しつつ洗浄手段３ａ、３ｂを回転させて搬送中の板状部材２を洗浄する洗浄装置１であって、複数の洗浄手段３ａ、３ｂは、搬送経路の一方側に配置された１つの洗浄手段３ａと、該洗浄手段３ａと同軸上で相対向するよう搬送経路の他方側に配置された１つの洗浄手段３ｂとからなる組を複数含み、かつ複数の凸部が所定の間隔をおいて連続して配置された洗浄面を有し、同一組を構成する洗浄手段３ａ、３ｂは、洗浄面の回転方向が逆であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被処理物に形成された酸化膜に対して、酸化膜中に含まれる酸素原子を分離させるために必要な量以上の水素ラジカルを照射して酸化膜を高速に除去するとともに、前記水素ラジカルを含むプラズマの温度を調整して被処理物等へダメージフリーな酸化膜除去方法を提供することを目的とする。
【解決手段】被処理物の表面の原子が酸素原子、窒素原子または硫黄原子のうち少なくとも１種類と結合することにより形成された被膜に対して、プラズマ生成用ガスに電圧を印加することにより発生したプラズマを照射して前記被膜中の前記酸素原子、窒素原子または硫黄原子を除去する。 （もっと読む）

【課題】洗浄後の欠陥の発生が極めて少ないフォトマスク関連基板を得られる洗浄方法及び洗浄装置提供することを目的とする。
【解決手段】フォトマスク関連基板の洗浄方法において、少なくとも、前記フォトマスク関連基板の表面の異物をあらかじめ除去する前処理工程と、該前処理工程の後に前記フォトマスク関連基板にＵＶ光を照射するＵＶ照射工程と、該ＵＶ照射工程の後に前記フォトマスク関連基板を湿式で洗浄する湿式洗浄工程とを行うことを特徴とするフォトマスク関連基板の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】 パターン部材上に固形物が残存することのない塵の除去を可能とするパターン部材洗浄方法及び洗浄装置を提供すること。
【解決手段】 基板上にパターンが形成されたパターン部材に付着した塵を除去するパターン部材洗浄方法であって、前記パターン部材のパターン形成面に、冷却により固化可能な液状塵除去材料を付与する工程、前記液状塵除去材料を冷却し、固体又はゲル状の塵除去層を形成する工程、及び前記塵除去層を、前記パターン部材に付着した塵とともに除去する工程を具備することを特徴とする。 （もっと読む）