【課題】ワーク洗浄配管の洗浄液供給口から洗浄液が急に吹き出すのを防止する。
【解決手段】洗浄手段３は、ロール状の洗浄部３０と、板状ワークＷの裏面ＷＢに洗浄液を供給するワーク洗浄配管３２とワーク洗浄配管３２に連結し洗浄液供給源３３０に連通する洗浄液供給配管３３とこれに分岐する圧力緩和配管３４と洗浄液供給配管３３に配設される洗浄液供給バルブ３５とを少なくとも備え、ワーク洗浄配管３２には複数の供給口３００が開いており、圧力緩和配管３４は、洗浄液供給配管３３に洗浄液が満たされると空気室が形成され、空気室の空気は、洗浄液供給バルブ３５を開くと収縮し、洗浄液供給バルブ３５を閉じると膨張し洗浄液供給配管３３及びワーク洗浄配管３２の内部における圧力上昇を緩和させる。そして、ワーク洗浄配管３２の供給口３００から洗浄液が急に吹き出すことを防止できる。 （もっと読む）

【課題】構造が簡単で安価にタッチパネル式機器の表示画面をクリーニングする。
【解決手段】表示画面（２１）上に設けられ接触の位置と接触の有無を検出するタッチパネル式機器（２０）のクリーニング装置（１０）であって、長辺又は短辺に前記タッチパネル式機器を挿入する挿入口（１１ｃ）を有するケース（１１）と、前記ケースの挿入口付近に設けられ、前記タッチパネル式機器の挿入動作で前記表示画面を清掃する清掃部材（１２）と、前記ケース内に設けられ、挿入された前記タッチパネル式機器の表示画面に殺菌光を照射する殺菌灯（１３）とを備える。 （もっと読む）

【課題】塊（異物）を確実に除去することができる異物除去装置を提供する。
【解決手段】発泡樹脂シートに付着した異物を除去する除去手段５を備えたシートの異物除去装置において、前記除去手段５は、シートの表裏両側に付着した異物を吸引すべく、シートの表裏両側に配置した一対の吸引装置６，７を備え、該吸引装置６，７は、発泡樹脂シートに対して吸引力を作用させて前記異物を吸引する吸引部であって、発泡樹脂シートの幅方向に沿って所定長さを有して幅方向に複数並設される吸引部を備えている。 （もっと読む）

【課題】洗浄起因の不良を抑制した電子写真用ローラの製造方法、および、円筒体表面の液体を効率的に除去することのできる乾燥方法を提供する。
【解決手段】芯金と、芯金の両端部の周面以外の周面を被覆する１層以上の弾性層とを有する電子写真用ローラの製造方法であって、（１）芯金の周面に形成した弾性層の周面を液体で洗浄する工程と、（２）弾性層の周面を乾燥させる工程と、を有し、工程（２）が、弾性層の周囲に気体の渦流を生じさせることにより、弾性層の周面に付着した液体を除去する工程を含む。液体で洗浄された円筒体の周囲に、円筒体と同心に気体の渦流を生じさせて、該円筒体の周面に付着した液体を除去する工程を有する円筒体の乾燥方法。 （もっと読む）

【課題】固体状のクリーニング対象物の表面に堆積・付着した微細なゴミを、クリーニング対象物を液中に浸すことなく、かつ非接触で除去することができる超音波を用いたクリーニング方法を提供する。
【解決手段】本発明の超音波を用いた非接触クリーニング方法は、固体状のクリーニング対象物の表面に付着した微細な塵埃等の固形微小物を除去するために、気相中で超音波を対抗する面から非接触でクリーニング対象物の表面に照射することで、固形微小物を振動させてはじき出し、もしくは剥離させた後に遊離させ、音圧の節にリフトアップさせて捕捉しもしくは跳ね飛ばして除去可能な状態とした後、除去することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】イオン系コンタミが少なく、かつ乾燥不良が起きず、その結果ヘッド浮上量が微少なハードディスクに搭載してもヘッドクラッシュを起こさない磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】磁気情報記録媒体用ガラス基板を保管ケースに保管する公知を備える磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、前記保管ケースは、電気抵抗値が１０ＭΩ・ｃｍ以下である水溶液を用いてリンスされることを特徴とする磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を用いる。前記電気抵抗値が１０ＭΩ・ｃｍ以下である水溶液は、水に炭酸ガスを浸透溶解させて調整したものであることが好ましい。また、前記電気抵抗値が１０ＭΩ・ｃｍ以下である水溶液は、水に水素ガスを浸透溶解させ、ｐＨを９〜１０に調整したものであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】搬送中のウェブ基材に付着している異物を、従来よりも一層のクリーン度に確実に除去することのできる微小異物除去ロールを提供する。
【解決手段】光学機能性フィルム等の柔軟性を有するウェブ基材に付着した微小異物の除去ロールであって、搬送されるウェブ基材の表面に接しながらウェブ基材の搬送方向に回転し、且つウェブ基材の表面に接する外周に網目状の構造を有する外刃ロールと、ダンパーを有し前記外刃ロールの内周に接して配置された内刃と、外刃ロールの内部のエアーをロールの外部に排気する手段と、外刃ロールを加温する手段と、を有することを特徴とする微小異物除去ロール。 （もっと読む）

【課題】大気圧プラズマにて被処理物を処理するに際してプラズマ点灯後のプラズマの点灯状態やプラズマの照射状態を確認できて信頼性の高いプラズマ処理を確保することができる大気圧プラズマ処理方法及び装置を提供する。
【解決手段】大気圧近傍の所定の反応空間１１に第１のガス１５を供給するとともに反応空間１１近傍のアンテナ１３又は電極に高周波電圧を印加して一次プラズマ１６を発生させ、発生した一次プラズマ１６又は前記一次プラズマ１６を第２のガス１８に衝突させて発生させた二次プラズマ２１を被処理表面６に向けて照射し、被処理表面６をプラズマ処理する大気圧プラズマ処理方法において、一次プラズマ１６の点灯後の反射波の大きさを検出し、反射波の大きさを第１の所定値と比較して一次プラズマ１６が点灯しているか否かを確認するようにした。 （もっと読む）

【課題】本発明は、大型平面部材の上面および下面を同時に研磨および／または洗浄を行うことができる自動研磨・洗浄装置に関するものである。
【解決手段】本発明の大型平面部材研磨・洗浄装置は、複数組のブラシ組立体により、前記大型平面部材の移動中に、上面および下面を同時に研磨および／または洗浄することができる。前記複数のブラシ組立体は、大型平面部材の研磨および／または洗浄に合った、異なる種類のブラシ毛および構造の異なるブラシから構成されている。また、前記大型平面部材研磨・洗浄装置は、前記異なる複数組みのブラシに対する駆動速度をそれぞれ別々に制御することができる。本発明の大型平面部材研磨・洗浄装置は、大型平面部材に合った素材から構成されている複数組のブラシ組立により、上下同時に研磨および／または洗浄を行うことができるようになっているため、前記大型平面部材を一方向に流すのみで、上下両面の研磨および／または洗浄を終了させることができる。 （もっと読む）

【課題】ブラシマークの発生を防止しつつ、自己洗浄機能を備えたスポンジロールを提供する。
【解決手段】軸体１０と、薄板状に形成された複数のスポンジ体２０と、薄板状に形成されたスペーサ３０と、を備え、スポンジ体２０及びスペーサ３０は軸体１０を通す中心孔を有し、スペーサ３０の中心孔はスペーサ板面に垂直な第１仮想線に対して傾いた第２仮想線を中心軸として傾いて形成されており、スポンジ体２０とスペーサ３０とは軸体１０に交互に装着されていて、スペーサ３０は中心孔によって軸体１１に斜めに装着され、スポンジ体２０はスペーサ３０に支持されて軸体１０に斜めに装着されている。 （もっと読む）

【課題】高い清浄度でウェブを洗浄する。
【解決手段】表面に洗浄液が供給される洗浄ローラ５に、当該洗浄ローラ５上に形成される洗浄液の液膜を介してウェブ２を巻装させた状態で、当該ウェブ２が搬送させられ、洗浄ローラ５の周速度とウェブ２の搬送速度とが異なる速度に制御される。これにより、洗浄ローラ５とウェブ２との間に、大きな速度勾配を持った液流を有する薄い液膜が容易に形成され得る。かかる液流により、ウェブ２へのダメージを抑えて、効果的に異物がウェブ２から除去される。 （もっと読む）

【課題】ドラム容器の洗浄を安定して行う。
【解決手段】２つの回転ローラが水平に設けられる。回転ローラは、ドラム容器１８を横たわった状態で支持する。図示しない移動手段は、これらの回転ローラを移動する。この移動により、ノズル３１ｂ〜３３ｂがドラム容器１８内に挿入された状態となる。モータは、回転ローラを一方向へ回転させる。回転ローラの回転により、ドラム容器１８は一方向へ回転する。ノズル３１ｂ〜３３ｂは、鉛直の反対方向から回転方向へ角度θ１だけ移動した部分へ洗浄液を噴射する。角度θ１は、１０°以上９０°以下である。 （もっと読む）

【課題】高い清浄度でウェブを洗浄する。
【解決手段】ウェブ２の表裏面の少なくとも一方の面に対して、洗浄液が供給される。これにより、ウェブ２の面に沿った液流が発生させられる。この洗浄液には、ウェブ２の面に存在する異物１１に接触させるためのブラスト材１２が混入されている。したがって、ウェブ２の表面に沿った液流自体による剥離作用だけでなく、ブラスト材１２が接触することによる剥離作用が、異物１１に対して働く。このようにして、ウェブ２の面に沿った液流により、ウェブ２の面に存在する異物１１が除去される。 （もっと読む）

【課題】柱上変圧器のケースの底面に発生した錆を落す作業を容易に行うことができるようにする。
【解決手段】軸線方向を鉛直方向に向け、底面を下方に向けた柱上変圧器のケースＴを下方から支える退避可能な可動テーブル２と、可動テーブルの上に支持されたケースをクランプするクランプ機構３と、クランプされたケースの下方に昇降装置とＸ−Ｙ移動装置とを介して支持されていて、ケースの底面に回転研削ブラシを接触させてケースの底面を研削する研削装置６とを備え、可動テーブル２をクランプされたケースＴの下方から退避させた状態で研削装置６をＸ−Ｙ移動装置により水平面上でＸＹ方向に移動させることにより回転研削ブラシをケースの底面に沿って移動させながら、ケースの底面全体の錆落しを行う。 （もっと読む）

【課題】大型の基板であっても、洗浄品質を維持しつつ短いタクトタイムで洗浄を行う。
【解決手段】第一洗浄布１２を基板に押し付ける第一押圧子１１と、第一洗浄布１２の新しい部分を第一押圧子１１に供給する第一供給手段１３と、第一押圧子１１を基板１に対して相対的に移動させることにより第一洗浄布１２を基板に対して相対的に移動させて洗浄工程を実施する移動手段３とを備える基板洗浄装置３０であって、第一押圧子１１は、第一洗浄布１２を基板１に押し付ける第一押付部２５と、第一押付部２５の前方に液体を吐出する第一吐出口１８とを備える。 （もっと読む）

【解決手段】 被加工物を洗浄するためのブラシを提供する。ブラシは、互いに貼り付けられた第１部分及び第２部分を有する硬質コアを含む。硬質コアは、硬質コアの回転軸線を中心に画成された開口を有する。流体チャンネルが、第１部分及び第２部分の反対面の間に画成される。流体チャンネルは、開口を画成する面から半径方向に延びる。第１膜及び第２膜が、第１部分及び第２部分の外側面に貼り付けられ、第１膜及び第２膜の運動は、流体チャンネルを通る流体の導入によって制御される。一実施形態では、膜は多孔質であり、流体は、洗浄のための磁気ディスク又は半導体基板等の被加工物に接触する洗浄液である。 （もっと読む）

【課題】 全長が１８００ｍｍ以上ある大型のエキシマランプ４０を光源に備えていても、中間部と端部とで一定の水準の処理効果を保つことができるランプユニット２０を提供すること。
【解決手段】 放電容器４１における上壁面４２と下壁面４３との外表面に電極４６、４７が設けられると共に放電容器内にキセノンガスが封入されてなり、当該放電容器内にエキシマ放電を発生させるエキシマランプ４０と、
エキシマランプ４０の両端をランプ保持体２６によって支持して筐体２１内にエキシマランプ４０を配置したランプユニットにおいて、
前記エキシマランプ４０の長手方向の中間部下方に中間支持体５０を配置し、エキシマランプ４０を下側から支持したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来の液滴吐出装置では、吐出ヘッドの信頼性を高めることが困難である。
【解決手段】液状体が液滴の状態で吐出されるノズルを有する吐出ヘッド３３と、吐出ヘッド３３の前記ノズルが設けられている面であるノズル面３５に付着した前記液状体の少なくとも一部を払拭するワイパー２３ａ及びワイパー２３ｂと、ノズル面３５とワイパー２３ａ及びワイパー２３ｂとを互いに対向させた状態で、ワイパー２３ａ及びワイパー２３ｂに対する吐出ヘッド３３の位置を変化させる変位装置と、を有し、吐出ヘッド３３とワイパー２３ａ及びワイパー２３ｂとが互いに対向した状態において、ノズル面３５とワイパー２３ａ及びワイパー２３ｂとは、隙間９１を介して互いに離間している、ことを特徴とする液滴吐出装置。 （もっと読む）