説明

Fターム[3B116AB03]の内容

清浄化一般 (18,637) | 被清浄物の取扱い (3,089) | 被清浄物を搬入する (2,045) | 被清浄物を移動 (911) | 搬入搬出口が同一 (95)

Fターム[3B116AB03]の下位に属するFターム

循環式 (18)
往復式 (25)

Fターム[3B116AB03]に分類される特許

1 - 20 / 52



【課題】使用者の誤使用や装置の誤動作に伴う非正常事象を回避することができるプラズマ発生装置及びこれを用いた洗浄浄化装置を提供する。
【解決手段】洗浄浄化装置40は、プラズマ発生装置1の使用時に発生する非正常事象を検知し、その検知結果に基づいてプラズマ放電を制御する。 (もっと読む)


【課題】容器を確実に洗浄することが可能な洗浄装置を提供すること。
【解決手段】洗浄装置100は、容器Cの洗浄に関連した第1の処理(本洗浄処理)を実行するために開閉自在に設けられた開口122、124を有する密閉可能な本洗浄室120と、本洗浄室120から隔離して配置され、容器Cの洗浄に関連した第2の処理(乾燥処理)を実行するために開閉自在に設けられた開口132を有する密閉可能な第乾燥室130(130A、130B、130C)と、各処理室の開口132を介して、本洗浄室120の内部に搬入された容器Cを乾燥室130の内部に移送するロボット150と、を具備する。 (もっと読む)


【課題】 現実の整備サービス現場における作業実態に合うダスト捕集体の清掃装置を開発しようとするものである。
【解決手段】 本発明のダスト捕集体の清掃装置Cは、内部を処理室20bとした筒状のドラム本体20と、処理室20b内空気を吸引する吸引装置3と、吹出ノズル装置5とを具え、処理室20b内にダスト捕集体(f)を受け入れた状態で粉塵(D)を除去し、ドラム本体20から排出する装置であって、前記ドラム本体20は、傾斜状態に設けられるとともに、処理室20b内にはドラム内壁に沿うように軸方向を配置した少なくとも一対のサポートローラ24と、処理室20b底部寄りに前記サポートローラ24とほぼ直交する方向であって、底部のほぼ中心を通る線上に設けられるセンターローラ25を具え、これらサポートローラ24と、センターローラ25とは、いずれか一方または双方が駆動可能状態であることを特徴として成るものである。 (もっと読む)


【課題】薄片状の洗浄媒体を用いて被洗浄体の汚れを除去する洗浄装置において、被洗浄体に付着性の強い汚れが付いていたとしても、洗浄媒体の滞留を低減して移動させることができ、洗浄品質を向上させることができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】気流を前記洗浄媒体および前記被洗浄体に吹きつける洗浄ノズルが非定常的な気流を発生させることにより、気流の向きや強さを変化させることができ、被洗浄体に貼り付いた洗浄媒体に対して様々な方向から気流を作用させることができるようにした。 (もっと読む)


【課題】リードフレームに搭載されたLED素子を傷付けることなく、プラズマ洗浄するプラズマ洗浄装置を提供すること。
【解決手段】収納装置2内の3つの収納ブロック10の各収納溝13内に複数枚のリードフレーム3が収納されて開閉扉が閉じた状態で、プラズマ洗浄装置1において真空状態にされたチャンバー1A内にプラズマ反応性ガスを供給すると共に、一対の電極のうちの一方に高周波電源により高周波を印加して前記反応性ガスをプラズマ化して前記リードフレーム3を洗浄する。このとき、収納装置2の各収納溝13内に収納された状態の各リードフレーム3は各マグネット14の磁力により下方に引かれて垂直状態に自立するので、傾いて各リードフレーム3は上端部が互いに近くなったり、逆に遠くなったりしないようにすることができる。 (もっと読む)


【課題】多量の部品の表面に残存している処理液を能率よく拭き取ることができるようにする。
【解決手段】多数の部品Wと拭取り材11とを処理容器7に収容し、処理容器7を回転駆動することにより処理容器7内で部品Wを回転攪拌し、これにより部品W表面の処理液に拭取り材11を接触させることで当該部品Wの表面から処理液を拭き取る。 (もっと読む)


【課題】
炊飯釜等の容器洗浄装置において、容器洗浄面の最短距離まで洗浄ノズルを挿入し、洗浄面を死角なく効率的に洗浄することを可能ならしめると共に装置の小型化を達成する。
【解決手段】
容器3の取手部3aが挿入される凹状部4を有する反転回動可能な容器支持体2と、ノズルアーム7a先端に取り付けられ、容器支持体2が反転したとき、該容器支持体に取り付けられた容器3内部を洗浄する回転式洗浄ノズル7を設けて、回転式洗浄ノズル7を容器支持体2の反転に伴って容器3内に移行して挿入し、回転しながら下向き姿勢の容器3内部を全面にわたり洗浄し得る如く構成した。なお、支持体2内への容器3の挿入、洗浄後の支持体内からの取り出しはガイドローラーを使用し、バッチ式としてもよく、搬送コンベアを用いて連続式又は往復式としてもよい。 (もっと読む)


【課題】処理基板の中心部と周辺部のエッチング速度が異なるローディング効果を抑制することの出来るエッチング装置を提供する。
【解決手段】処理基板11が載置されるステージ7が配置された陰極側電極3と、該電極に対向する陽極側電極との間に、前記陽極側電極側から前記陰極側電極側に貫通して、開口状態が調整可能な複数の開口部100を有する障害物9を、処理基板11の近傍に該基板の全面を覆うように配設することによって、前記基板の面内中心部のプラズマ密度を低減させて前記基板の中心部と外周部のプラズマ密度の偏りを抑制する。 (もっと読む)


【課題】成膜材料等に影響を与えることなく、大型の成膜用マスクに対して均一なクリーニングを高速且つ効率良く行うことができる技術を提供する。
【解決手段】クリーニングガス供給部8から供給されたクリーニングガスを放電させ、クリーニングガスのラジカルをマスク6に向って放出するためのラジカル放出器10を真空槽内に備える。ラジカル放出器10は、面状のシャワープレート15と、面状のメッシュ状部材16を有する。シャワープレート15とメッシュ状部材16とが電気的に絶縁されるとともに、シャワープレート15に高周波電力を印加することにより、シャワープレート15とメッシュ状部材16の間のプラズマ形成室18においてクリーニングガスのプラズマを生成し、メッシュ状部材16からマスク6に向ってクリーニングガスのラジカルを放出する。 (もっと読む)


【課題】基板表面に形成されたパターンへのダメージを抑制しながら基板表面を良好に洗浄処理することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】 基板保持手段11に保持され、洗浄液としてのDIWの液膜が形成された基板Wの表面Wfに対し、媒介液供給機構55から媒介液としてのトルエンを供給し、DIWの液膜の上にトルエンの液膜を更に形成する。その後、超音波付与機構51によりトルエンを介してDIWに超音波を付与しながら、凝固手段31から基板表面Wfに凍結用の窒素ガスを吐出し、DIWを凝固させる。これにより、結晶サイズの小さいDIWの凝固体を形成し、その後のリンス工程で短時間に解凍することを可能とし、リンス液中に遊離するDIWの結晶を減少し、パターンへのダメージを防止する。 (もっと読む)


【課題】凹凸のある歯車のようなワークであっても、切屑、切粉等の異物および油分をきれいに除去することができ、また空圧源だけでも作動させることができる、装備および設置が容易な洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄液を貯留するタンク10と、洗浄室40内に回転軸を支持することにより回転自在に設けられたワーク保持具46と、回転軸に設けられたフィン48に対し圧縮空気を噴射することによりワーク保持具を回転動させる。ワークWに相対するように洗浄室内に設けた対物ノズルと、洗浄液を吸引して対物ノズルに圧送する空圧作動式給液ポンプ20と、圧縮空気を供給する空圧源とからなり、回転動用ノズルから圧縮空気を所定時間噴射することによりワークを回転させると同時に、空圧作動式給液ポンプを作動させて対物ノズルから洗浄液を所定時間噴射し、その後は対物ノズルの流入路が空圧源に切換えられて圧縮空気が所定時間噴射される。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ドライ洗浄方法において、スループット向上し処理枚数を増やすことができるマスクドライ洗浄装置または洗浄方法を提供すること、あるいは上記マスクドライ洗浄装置を蒸着装置に隣接して設けることで短時間に洗浄できる稼働率の高い製造装置を提供することである。
【解決手段】本発明はレーザ光源から出射されるレーザ光をマスクに付着した付着蒸着材料に照射し該マスクを洗浄する際に、前記レーザ光を円形状から楕円形状に変更し、該楕円形状のレーザ光を前記マスクの前記付着蒸着材料に照射し洗浄することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】洗浄槽内の液体の加温時の温度ムラをなくして、その後の減圧時に洗浄槽内の液体を均一に沸騰させ、これによりムラのない確実な洗浄または濯ぎを図る。
【解決手段】被洗浄物2が浸漬された洗浄槽3内の液体を設定温度まで加温後、洗浄槽3内を減圧して液体を沸騰させる動作を含んで、被洗浄物2の洗浄または濯ぎを図る装置である。洗浄槽3内の液体を加温中に液体を流動させる液体流動手段を備える。液体流動手段は、洗浄槽3内の液体への外気導入手段(液相給気手段)9とされる。 (もっと読む)


【課題】簡略且つ小型の構成で洗い残しや洗浄ムラの発生を防止する。
【解決手段】底部フレーム1上に洗浄室6を有する洗浄用ケース100の底面2に回転軸11が貫通して下部を駆動装置により駆動し、上端に回転軸の直径方向に延びる回転板12を固定した回転駆動機構9を設け、下面に備えた自在車輪16で走行可能な台フレーム17上に介護用機器を収容可能な篭体18を備えたケージ台車200の下部に突出され、ケージ台車が洗浄室に進入する際に回転板の長手方向両側面に係合するガイド板と、ケージ台車の中心が回転軸の軸線上に到達すると回転板の前後端に係合してケージ台車の移動を拘束する係止部材と、係止部材の係合を解除する係合解除フレームとを有する係脱機構を設け、洗浄室内に備えて回転軸の軸線Sに向かい且つ洗浄室内の上下をカバーするようカーテン状に洗浄液を噴射する噴射ノズル34を設ける。 (もっと読む)


【課題】磁気ディスクの表面を傷つけることなく、磁気ディスク上のパーティクルを効果的に除去する方法を提供すること。
【解決手段】磁気ディスクよりも大きな表面エネルギーを有するクリーニング部材を接触し、そのまま放置した後に引き離すことで、磁気ディスク上のパーティクルを除去する。
特に好ましい接触方法は、磁気ディスクとクリーニング部材を筺体内に挿入し、筺体を真空装置で排気し、該筺体の一部が磁気ディスクとクリーニング部材を押圧する方法である。 (もっと読む)


【課題】単純な装置構成で清掃工具を溶接用ノズルの径方向へ変位させることが可能で、溶接用ノズルの径寸法に合わせて容易に設計変更できるとともに、ノズル内に消耗電極や電極チップ等が存在する場合でも、そのまま溶接用ノズルの付着物を除去できるようにする。
【解決手段】回転台座34を回転軸心Sの軸方向へ移動させることなく、エアシリンダ64によってストッパピン44を下降させるだけで、回動部材40、42に設けられた清掃爪54をノズル14の径方向へ移動させて内周面に押圧することができるため、装置が簡単且つ安価に構成されるとともに、ノズル14の径寸法が異なる場合でも、回動部材40、42の形状等を変更するだけで対応できる。また、清掃工具として清掃爪54が設けられているため、ノズル14内の電極チップ16や電極ワイヤ18と干渉することなく清掃爪54を挿入して付着物22の除去処理を行なうことができる。 (もっと読む)


【課題】洗浄によって高温となったワークに直接触れることなく、ワーク保持治具からワークを取り出す等の作業を行う。
【解決手段】洗浄ステーション14に組み込まれたワーク搬送装置18は、ワークとしてのシリンダヘッド12のバスケット10(ワーク保持治具)までの搬送、バスケット10に収容されたシリンダヘッド12の洗浄装置16への投入、洗浄が終了したシリンダヘッド12の洗浄装置16からの導出、シリンダヘッド12のバスケット10からの取り出しを行うためのものである。シリンダヘッド12をバスケット10から取り出すための払出コンベア28には、取出機構を構成する払出レバー152、引出レバー156等が設けられ、シリンダヘッド12は、これらが変位する際、バスケット10の内部に設けられた案内用ローラ84に案内される。 (もっと読む)


【課題】複数のガラスを同時に液体に浸漬しつつ、ガラスへの傷の発生を低減し、且つガラス表面への液体の供給及び排出を速やかにできる浸漬用部材、保持部材及び保持部材ユニットを提供する。
【解決手段】浸漬用部材1aは、複数のガラスGの液体への浸漬に用いられ、ガラスGを互いに非接触状態に維持しつつ載置する複数の載置部11と、前記載置部11に液体を流入し且つ前記載置部11から液体を流出する流路12と、を備える。保持部材は、この浸漬用部材1と、主表面の設けられた側から載置部の少なくとも一部を覆う蓋体と、を備える。また、保持部材ユニットは、保持部材が収納容器に収納されてなる。 (もっと読む)


【課題】基板の処理品質を向上させつつ基板の処理コストを十分に低減できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】処理槽4から引き上げられる基板Wに気体供給ダクト62から気体が供給され、基板Wの乾燥処理が行われる。気体供給ダクト62は、主管141および2つの分岐配管142a,142bからなる配管140を介してドライエア発生装置110およびファンユニット120と接続されている。ドライエア発生装置110は分岐配管142aを通して気体供給ダクト62にドライエアを供給し、ファンユニット120は分岐配管142bを通して気体供給ダクト62に大気を供給する。各分岐配管142a,142bには、制御バルブ130a,130bが介挿されている。制御バルブ130a,130bの開閉状態に応じてドライエアおよび大気のいずれか一方が気体供給ダクト62に供給され、基板Wの乾燥処理が行われる。 (もっと読む)


1 - 20 / 52