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Fターム[3B116AB34]の内容

清浄化一般 (18,637) | 被清浄物の取扱い (3,089) | 被清浄物を搬入する (2,045) | 被清浄物に運動 (411) | 回転運動 (276) | 垂直軸 (102)

Fターム[3B116AB34]に分類される特許

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【課題】 脱水カゴの回転駆動装置が不要になり、構造をコンパクトにさせると共に取り扱いを簡単にさせながら脱水カゴを万遍なく均一にきれいに水洗でき、かつ水洗に伴う水の飛散を防止して良好な作業環境下で水洗作業を行うことができるようにした脱水カゴの水洗技術の提供。
【解決手段】 上面が開口し、周壁10及び底壁11に多数の水切小孔12が形成された円形の脱水カゴ1を水洗対象とし、洗浄空間Sに回転自在に設けた水平テーブル5上に伏せ状態にセットした脱水カゴの外周面に対して水を噴射して水洗させる周面向き噴射ノズル60と、底外面に対して水を噴射させて水洗させる底面向き噴射ノズル61を備え、周面向き噴射ノズル及び/又は底面向き噴射ノズルからの噴射水の勢いにより脱水カゴを回転させながら水洗させる。 (もっと読む)


【課題】 低コストで確実にフレキシブルコンテナバッグの外周面を洗浄する。
【解決手段】 内部にフレキシブルコンテナバッグ12を収容する本体2内に設けられたフック8が、コンテナバッグ12を、その上下方向に通る軸αの回りに回転自在に吊り下げている。本体2に設けられた回転用送風管22が、膨らませた状態のフレキシブルコンテナバッグ12が、軸αの回りに回転するように、フレキシブルコンテナバッグ12の外周に回転用気体を噴出する。本体2内に設けられたブラシ24が、回転しているフレキシブルコンテナバッグ12の外周面に付着している付着物を除去する。 (もっと読む)


【課題】ガラス壜をスターホイールによって円形軌道に沿って搬送している間にガラス壜を自転させ、この自転中にガラス壜の底部から底部のやや上方の壜胴下部までの検査エリアにエアを吹き付けることにより、ガラス壜の検査エリアに付着した水滴を確実に除去することができるガラス壜の水滴除去装置を提供する。
【解決手段】液体が充填された複数のガラス壜1を複数のポケット3aで支持して円形軌道に沿って搬送するスターホイール3と、スターホイール3により支持されたガラス壜1に接触しながら走行してガラス壜を自転させるベルト16と、スターホイール3により円形軌道に沿って搬送されるガラス壜1の側方に配置され、ガラス壜1に向けて空気を吹き付けるエアブローユニット20とを備え、エアブローユニット20の前面20fは円形軌道に沿うように配置され、エアブローユニット20の前面20fには空気を噴出する複数のノズル20nが設けられている。 (もっと読む)


【課題】基板の表面の洗浄エリアに基板の回転速度とロール洗浄部材の回転速度の相対速度がゼロとなる点(領域)が存在しても、基板の表面をその全域に亘ってより均一に洗浄できるようにする。
【解決手段】基板Wの直径方向に沿って延びるロール洗浄部材16を基板Wの表面に接触させつつ、ロール洗浄部材16と基板Wを共に回転させて基板Wの表面をスクラブ洗浄する基板洗浄方法において、ロール洗浄部材16及び基板Wの少なくとも一方の回転速度または基板の回転方向をスクラブ洗浄処理中に変更する。 (もっと読む)


【課題】ロール洗浄部材の形状の最適化を図り、基板表面を高い洗浄度で効率的に洗浄して、基板表面に残存するディフェクト数を低減できるようにする。
【解決手段】表面に多数のノジュールを有し基板の直径のほぼ全長に亘って直線状に延びて基板表面との間に洗浄エリアを形成するロール洗浄部材と基板とを共に一方向に回転させつつ、ノジュールと基板表面とを互いに接触させて該表面をスクラブ洗浄する基板洗浄方法において、洗浄エリア(長さL)上のロール洗浄部材16と基板Wの相対回転速度が相対的に低い順方向洗浄エリア(長さL)では、洗浄エリア上のロール洗浄部材と基板の相対回転速度が相対的に高い逆方向洗浄エリア(長さL)よりも少ない面積でノジュール16aと基板Wの表面とを互いに接触させる。 (もっと読む)


【課題】 マスクブランク用基板の洗浄時に、ガラス基板内部に潜傷が発生することを抑制でき、しかも基板主表面に存在するパーティクルを確実に排除できるマスクブランク用基板等の基板の洗浄方法を提供する。
【解決手段】 液体中に配置された基板の少なくとも一つの表面に向かって、気泡又は洗浄用粒子を含む加圧した洗浄液体を噴射ノズルから噴射し、前記基板の少なくとも一つの表面を洗浄することを含むことを特徴とする、基板の洗浄方法である。 (もっと読む)


【課題】洗浄後の欠陥の発生が極めて少ないフォトマスク関連基板を得られる洗浄方法及び洗浄装置提供することを目的とする。
【解決手段】フォトマスク関連基板の洗浄方法において、少なくとも、前記フォトマスク関連基板の表面の異物をあらかじめ除去する前処理工程と、該前処理工程の後に前記フォトマスク関連基板にUV光を照射するUV照射工程と、該UV照射工程の後に前記フォトマスク関連基板を湿式で洗浄する湿式洗浄工程とを行うことを特徴とするフォトマスク関連基板の洗浄方法。 (もっと読む)


【課題】 パターン部材上に固形物が残存することのない塵の除去を可能とするパターン部材洗浄方法及び洗浄装置を提供すること。
【解決手段】 基板上にパターンが形成されたパターン部材に付着した塵を除去するパターン部材洗浄方法であって、前記パターン部材のパターン形成面に、冷却により固化可能な液状塵除去材料を付与する工程、前記液状塵除去材料を冷却し、固体又はゲル状の塵除去層を形成する工程、及び前記塵除去層を、前記パターン部材に付着した塵とともに除去する工程を具備することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】基板の処理に使用される処理液の消費量を低減すること。
【解決手段】基板処理装置は、処理液を吸収可能で弾性変形可能なスポンジ41と、スポンジ41に処理液を供給する貯留槽40と、基板Wを保持する基板搬送ロボット21とを含む。基板搬送ロボット21は、スポンジ41と基板Wとを相対移動させてスポンジ41と基板Wの下面とを接触させることにより、スポンジ41に吸収されている処理液を基板Wの下面に供給させる。 (もっと読む)


【課題】実用性の高いレーザクリーニング方法,装置および、その方法,装置によってクリーニングされた部材を用いて電磁弁を製造する方法,装置を提供する。
【解決手段】電磁弁を構成する部材28の外周面をレーザ光によってクリーニングする装置において、(a)その部材を保持するとともに、その部材をそれの軸線回りに回転させる回転機構102と、(b)その回転機構によって保持されている部材の軸線の延びる方向のいずれかの側に配設された吹出ノズル110を有し、その吹出ノズルからその部材に向かって、外周面全体を覆うようにシールドガスを吹き付けるシールドガス吹付装置108と、(c)回転機構によって保持された部材の外周面にレーザ光を照射するレーザ光照射装置106とを備えるように構成する。このように構成することで、外周面全体の酸化等を防ぎつつ、外周面の全周にわたってレーザクリーニングすることが可能となる。 (もっと読む)


【課題】移動の際に洗浄液が飛散しにくく設置スペースが狭いノズル洗浄装置、および当該ノズル洗浄装置を備える電子部品実装機を提供することを課題とする。
【解決手段】ノズル洗浄装置5は、洗浄液Lが貯留される洗浄槽600を有しノズル8の被洗浄部82を洗浄する洗浄部60と、洗浄部60の上方に配置され洗浄後の被洗浄部82に気体Gを吹き付けることにより、被洗浄部82を乾燥させる乾燥部61と、洗浄部60と乾燥部61との間に配置され、洗浄部60と乾燥部61とを連通、遮断可能に仕切るシャッター620を有するシャッター部62と、を有する装置本体6を備える。洗浄モードにおいてはシャッター620を開け被洗浄部82を洗浄し、乾燥モードにおいてはシャッター620を閉じ被洗浄部82を乾燥させる。 (もっと読む)


【課題】基板表面に形成されたパターンへのダメージを抑制しながら基板表面を良好に洗浄処理することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】 基板保持手段11に保持され、洗浄液としてのDIWの液膜が形成された基板Wの表面Wfに対し、媒介液供給機構55から媒介液としてのトルエンを供給し、DIWの液膜の上にトルエンの液膜を更に形成する。その後、超音波付与機構51によりトルエンを介してDIWに超音波を付与しながら、凝固手段31から基板表面Wfに凍結用の窒素ガスを吐出し、DIWを凝固させる。これにより、結晶サイズの小さいDIWの凝固体を形成し、その後のリンス工程で短時間に解凍することを可能とし、リンス液中に遊離するDIWの結晶を減少し、パターンへのダメージを防止する。 (もっと読む)


【課題】凹凸のある歯車のようなワークであっても、切屑、切粉等の異物および油分をきれいに除去することができ、また空圧源だけでも作動させることができる、装備および設置が容易な洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄液を貯留するタンク10と、洗浄室40内に回転軸を支持することにより回転自在に設けられたワーク保持具46と、回転軸に設けられたフィン48に対し圧縮空気を噴射することによりワーク保持具を回転動させる。ワークWに相対するように洗浄室内に設けた対物ノズルと、洗浄液を吸引して対物ノズルに圧送する空圧作動式給液ポンプ20と、圧縮空気を供給する空圧源とからなり、回転動用ノズルから圧縮空気を所定時間噴射することによりワークを回転させると同時に、空圧作動式給液ポンプを作動させて対物ノズルから洗浄液を所定時間噴射し、その後は対物ノズルの流入路が空圧源に切換えられて圧縮空気が所定時間噴射される。 (もっと読む)


【課題】基板の厚みにかかわらず、その少なくとも一方表面の周縁領域および周端面を良好に洗浄することができる、基板処理装置および基板処理方法を提供することである。
【解決手段】ブラシ16は、略円板状の胴部27と、先端側に向けて拡がる略円錐台状の第1周端面当接部28と、先端側に向けて拡がる略円錐台状の第2周端面当接部72とを備えている。胴部27の先端側の端面における第1周端面当接部28の周囲の円環帯状の部分が、基板の一方表面の周縁領域に当接する第1洗浄面29Aとなっている。第1周端面当接部28の側面が、基板の周端面に当接する第2洗浄面29Bとなっている。第1周端面当接部28の大径側端面における第2周端面当接部72の周囲の円環帯状の部分が、基板の一方表面の周縁領域に当接する第3洗浄面74Aとなっている。第2周端面当接部72の側面が、基板の周端面に当接する第4洗浄面74Bとなっている。 (もっと読む)


【課題】フォトマスクの大型化に伴う撓みによる洗浄ムラを解消した、とくにフォトマスクの中心部付近と外周部において均一な洗浄効果が得られる洗浄ブラシを用いた回転式フォトマスク洗浄装置の提供。
【解決手段】フォトマスクを洗浄する装置であって、少なくともフォトマスク保持部と、フォトマスクを保持しつつ回転させる回転機構と、回転機構制御部と、アームに取り付けられた回転ブラシ部と、回転ブラシ位置制御部を具備していることを特徴とするフォトマスク洗浄装置。 (もっと読む)


【課題】 基板の周端部の傾斜部を含めて確実に洗浄や研磨の処理を実施することができるばかりか支持手段も複雑でなく自身の耐久性にも優れた処理手段を有する基板処理装置を提供する。
【解決手段】 基板を支持する基板支持手段と、所定の径を有するとともに先端に形成した中心に凹部を形成する平面を処理部としたPVAスポンジからなる処理手段と、基板支持手段に支持させた基板の軸線に対してその処理手段をその軸線が直角になるように処理部を基板の周縁部に向けて所定位置に支持する処理手段の支持手段と、処理手段の支持手段に付設されて処理手段の回転手段とを有する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、鋼管などの管状体の内部に存在する異物を除去するための異物除去装置を提供する。
【解決手段】支持体3の先端に取り付けられたノズル本体2は、支持体3内の流体供給路4を介して供給された洗浄流体Fの流れの向きを変え、供給方向とは逆方向の噴射流体fを噴射する。ノズル本体が管状体1の一方の開口部から挿入された後に、噴射流体が管状体の内部に放射される。異物は、管状体の内壁面から掻き落とされ、ノズル本体を挿入した開口部に向けて排出又は押し出される。 (もっと読む)


【課題】大面積極薄ウェハを洗浄するのに適したスクラブ洗浄装置を提供すること。
【解決手段】このスクラブ洗浄装置は、極薄ウェハ7の外周縁部が保持されてウェハを水平の状態で回転可能に支持する支持部材8と、支持部材を所定の回転数で回転させる駆動部と、ウェハ表面上に配置されかつウェハ表面に対して平行な回転軸を有するロールブラシ9と、ウェハ表面へ洗浄液10を供給する供給部を備え、ウェハ裏面側へ向け水流等の液体を噴射してウェハ表面の平面状態を維持させるウェハ平面維持手段としてのノズル11が設けられていることを特徴とする。そして、この装置によれば、ウェハ中心部に洗浄液が溜まり易いスクラブ洗浄中においても、ウェハ平面維持手段の作用によりウェハ表面の平面状態が維持されるため良好なスクラブ洗浄を安定して行うことができる。 (もっと読む)


【課題】基板の処理品質を向上させつつ基板の処理コストを十分に低減できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】処理槽4から引き上げられる基板Wに気体供給ダクト62から気体が供給され、基板Wの乾燥処理が行われる。気体供給ダクト62は、主管141および2つの分岐配管142a,142bからなる配管140を介してドライエア発生装置110およびファンユニット120と接続されている。ドライエア発生装置110は分岐配管142aを通して気体供給ダクト62にドライエアを供給し、ファンユニット120は分岐配管142bを通して気体供給ダクト62に大気を供給する。各分岐配管142a,142bには、制御バルブ130a,130bが介挿されている。制御バルブ130a,130bの開閉状態に応じてドライエアおよび大気のいずれか一方が気体供給ダクト62に供給され、基板Wの乾燥処理が行われる。 (もっと読む)


【課題】金属屑から分離した異物が金属屑に再付着することを抑制することができる金属屑の洗浄装置を得る。
【解決手段】異物5が付着した金属屑6が内側に入れられ、洗浄水1を貯留する洗浄槽2と、金属屑6を攪拌する攪拌機7と、洗浄槽2に貯留された洗浄水1に気泡3を供給し、気泡3を異物5に吸着させ、異物5を金属屑6から分離させ、気泡3が洗浄水1の水面に向かって浮上するのに伴って異物5を浮上させる気泡生成器4と、洗浄水1を洗浄槽2からオーバーフローさせて、異物5を洗浄槽2の外側へ排出する異物排出手段11とを備えている。 (もっと読む)


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