【課題】処理対象基板とランプとの間に空気が流入することが抑制され、従って、処理対象基板に対して高い効率で光を照射することができる光照射装置を提供する。
【解決手段】基板搬送路に沿って搬送される処理対象基板の一面に向けて光を照射するエキシマランプが内蔵されたランプハウスと、前記処理対象基板と前記エキシマランプとの間に不活性ガスを供給するガス供給手段とを備えてなり、前記基板搬送路における前記ランプハウスの上流側に当該ランプハウスに隣接して圧力緩衝空間が形成された光照射装置であって、基板搬送路における圧力緩衝空間の上流側には、処理対象基板における光が照射される一面に沿って流れる空気を排出する空気排出手段が設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】プラズマ発生領域の体積を大きくしたプラズマ発生装置の提供。
【解決手段】大気圧プラズマ発生装置１００であって、長手方向に伸び、プラズマを発生する柱状のプラズマ化領域Ｐを内包する絶縁体から成る筐体１０と、プラズマ化領域Ｐにプラズマ発生ガスを前記長手方向に対して垂直な方向から長手方向に一様に供給するガス導入部１２と、プラズマ化領域Ｐにおいて、前記長手方向に離間して配置された１対の電極２ａ，２ｂと、プラズマ化領域Ｐに接続され、そのプラズマ化領域Ｐで生成された前記プラズマを排出し、プラズマ化領域Ｐの長手方向に沿って配列され、前記プラズマ発生ガスの流れる方向に長く伸びた多数の孔から成る排出部２４とを有する。 （もっと読む）

【課題】大掛かりな装置を必要とせず、被処理物のそれぞれについて水蒸気プラズマ処理の完了を個別検知することが可能なインキ組成物及びそれを用いたインジケーターを提供する。
【解決手段】１）アントラキノン系色素、アゾ系色素及びメチン系色素の少なくとも１種並びに２）バインダー樹脂、カチオン系界面活性剤及び増量剤の少なくとも１種を含有する水蒸気プラズマ処理検知用インキ組成物。 （もっと読む）

【課題】 プラズマ放電部を複数並べて任意の大きさの試料に対応できるように放電面積を拡大する場合であっても、単位あたりの電力コストを増加することなく、均一なプラズマ生成が可能なプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】 高周波信号回路１３及び高周波電力回路１１を有する高周波電源と筐体２１と放電電極２とを備えたプラズマ処理装置において、筐体２１内に設置された放電電極２と高周波電力回路１１とでプラズマモジュールを構成し、複数個並列接続されたプラズマモジュールに高周波信号回路１３からの周波数信号を入力する。 （もっと読む）

【課題】構造が簡単で安価にタッチパネル式機器の表示画面をクリーニングする。
【解決手段】表示画面（２１）上に設けられ接触の位置と接触の有無を検出するタッチパネル式機器（２０）のクリーニング装置（１０）であって、長辺又は短辺に前記タッチパネル式機器を挿入する挿入口（１１ｃ）を有するケース（１１）と、前記ケースの挿入口付近に設けられ、前記タッチパネル式機器の挿入動作で前記表示画面を清掃する清掃部材（１２）と、前記ケース内に設けられ、挿入された前記タッチパネル式機器の表示画面に殺菌光を照射する殺菌灯（１３）とを備える。 （もっと読む）

【課題】位相欠陥と表面異物とを識別できるＥＵＶマスク検査装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るＥＵＶマスク検査装置は、ＥＵＶ光を出射するＥＵＶ光源１００ａと、ＥＵＶ光を伝播する第１多層膜楕円面鏡１０３ａ、第２多層膜楕円面鏡１０３ｂ、落とし込みＥＵＶミラー１０５を含む光学系と、ＥＵＶ光の光軸と同軸に導入され、光学系で伝播される紫外光を出射するＡｒＦエキシマレーザ１００ｄとを備える。紫外光は、ＥＵＶ光の光軸上に挿入された振り込みミラー１１３により反射され、ＥＵＶ光と同軸に導入される。 （もっと読む）

【課題】ガラス板の表面に固着したカレットを除去する。
【解決手段】フッ化水素及び水蒸気を含む反応ガスを大気圧近傍下でガラス板９０に接触させて、ガラス板９０の表面部分９１ｅ，９２ｅを構成するＳｉＯ_２のエッチング反応を起こさせる。エッチング反応の度合いを、カレット９３，９４の表面部分９３ｅ，９４ｅがエッチングされるとともに表面部分９３ｅ，９４ｅより内側の部分９３ａ，９４ａが残留する程度に調節する。その後、ガラス板９０を洗浄流体４３にて洗浄する。 （もっと読む）

【課題】小型かつ高効率のプラズマを発生できる大気圧プラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】大気圧プラズマ発生装置１は、管軸方向に放電ガスが流れ高周波電源２１からの高周波電力が供給されることによりプラズマを発生する放電管２６と、放電管２６に高周波電力を伝達するアンテナ２５と、高周波電源２１とアンテナ２５との間に配置された整合回路とを備え、当該整合回路は、高周波電源２１の一端とアンテナ２５の一端との間に接続されたインダクタ２３、高周波電源２１の他方の一端とアンテナ２５の他方の一端との間に接続された可変コンデンサ２４を備え、アンテナ２５は、上記整合回路と連続した配線であって放電管２６の近傍に配置され実際に電流の流れる第１のアンテナ部２５１と、放電管２６と接触する部分を有する第２のアンテナ部２５２とで構成される。 （もっと読む）

【課題】 しつこい汚れに対しても、生地を傷めることなく比較的短時間でクリーニングできるようにする。
【解決手段】 ベッド１のある場所において、そのスプリングマットレス２の表面を作業者ｈが持ち運び可能な吸引装置で吸引して塵・埃を除去し、その塵・埃が除去されたスプリングマットレス２の表面に洗浄剤を散布し、その洗浄剤が散布されたスプリングマットレス２の表面に作業者ｈが持ち運び可能なスチーム洗浄機５でスチーム５ａを噴射し、そのスチーム５ａが噴射されたスプリングマットレス２の表面にハンドポリシャー６で振動を繰り返し加えて汚れを分解し、その汚れが分解されたスプリングマットレス２の表面を作業者ｈが持ち運び可能な汚水吸引装置で吸引して汚水を除去し、その汚水が除去されたスプリングマットレス２の表面を作業者ｈが持ち運び可能な乾燥装置で赤外線を照射して乾燥する。 （もっと読む）

【課題】プラズマによる劣化を回避しつつ点火機構を簡略化する。
【解決手段】一方の端部が閉塞板１１ｂで閉塞され、かつ他方の端部が開放端に形成された筒状の筐体１１と、閉塞板１１ｂの内面に筐体１１の筒長方向に沿って延出するように立設されると共に入力した高周波信号Ｓ１を放射する棒状の放射器１４とを備え、閉塞板１１ｂ側から開放端側に向かう気流を筐体１１内に発生させるように筐体１１内にガス供給部４によって放電用ガスＧが供給され、かつ放射器１４が高周波信号Ｓ１を放射している状態において、放射器１４の先端近傍から気流に乗って筐体１１の外方へ伸びるプラズマＰを発生させるプラズマ処理装置１であって、放射器１４との間で放電Ｄを発生させてプラズマＰを点火する点火導体５ａを有する点火機構５を備え、放電電極としての点火導体５ａの先端は、放射器１４の先端よりも気流の上流側に配設されている。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理装置を構成する電極の交換時期を判定することができる交換時期判定装置、交換時期判定方法及びプラズマ処理システムを提供する。
【解決手段】電極に高周波電力を供給し、処理容器に導入したガスから発生させたプラズマにより、該処理容器内の基板上における薄膜をプラズマ処理するプラズマ処理装置を構成する前記電極の交換時期を判定する交換時期判定装置において、前記薄膜をプラズマ処理した処理条件に係る値を積算する積算手段と、プラズマ処理の処理条件に係る値に関して電極の交換時期と対応する積算値が記録された記録手段と、前記積算手段が積算した積算値及び前記記録手段に記録された積算値に基づいて、前記電極の交換時期を判定する判定手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】物品に付着しているよごれなどの有機物を大気中に飛散させることなく分解または除去でき、かつ物品の損傷が抑えられる表面処理方法、物品の損傷を抑えながら、物品表面をエッチングする表面処理方法、および表面を高度に洗浄し、損傷がほとんどない物品や表面をエッチングしながら、損傷のない物品を提供する。
【解決手段】水を含む液体中の水蒸気気泡内に発生したプラズマを、該液体中において、水に対する接触角が９０度以下である材料に付着している有機物に接触させて、該有機物を材料から除去する表面処理方法；水を含む液体中の水蒸気気泡内に発生したプラズマを、前記液体中において、水に対する接触角が９０度以下である材料に接触させて、該材料を破壊せずに、該材料の表面をエッチングするエッチング方法。 （もっと読む）

【課題】紫外線ランプを収容するケーシング内のガスの置換効率を向上させることにより、ガスの置換時間を短縮するとともに、当該置換におけるガスの使用量を低減する。
【解決手段】ワークＷに紫外線を照射する紫外線ランプ２と、紫外線ランプ２を収容し、ワークＷに対向して開口する開口部３１を有するケーシング３と、ケーシング３内にガスを供給するガス供給機構４とを備え、ケーシング３の内面又は内部空間に、ガス供給機構４により供給されたガスを紫外線ランプ２の周囲を一方向に循環させるための循環案内面３ｘが設けられている。 （もっと読む）

【課題】使用者の誤使用や装置の誤動作に伴う非正常事象を回避することができるプラズマ発生装置及びこれを用いた洗浄浄化装置を提供する。
【解決手段】洗浄浄化装置４０は、プラズマ発生装置１の使用時に発生する非正常事象を検知し、その検知結果に基づいてプラズマ放電を制御する。 （もっと読む）

【課題】放電により生じた寿命の短いラジカルを減衰を受ける前に被処理体に向けて噴出できるようにし、エネルギ効率の高い表面処理を実現する。
【解決手段】貫通微細孔１５を有する導電性電極６と誘電体被覆１２で被覆された高圧導電体１１との間で放電を生じ、その高圧導電体１１を貫通微細孔１５近傍のガス流速方向上流側に偏って配置することで、放電領域４０を高圧導電体１１の位置に対応して貫通微細孔１５近傍のガス流速方向上流側に限定し、放電により生じた活性粒子を減衰を受ける前にガス流に乗せて効率よく抽出し、貫通微細孔１５の出口から、当該出口に対向して置かれた被処理体（図示せず）に向けて噴射して、被処理体の表面処理を行う。 （もっと読む）

【課題】本発明は、バリや切削くずなどの不要変形部が発生する被処理材料に対して、プラズマ処理、放電処理および衝撃波処理の少なくとも１つを施すことにより、被処理材料の表面を洗浄して、被処理材料表面に対する加工油のぬれ性を向上させ、加工油を薄く均一に塗布して、剪断加工または曲げ加工による金型および被処理材料の摩耗を抑制することができたり、加工後に生じたバリや切削くずなどを除去して、不要変形部の無い高品質な製品を得ることを可能とする加工方法および加工装置を提供することを目的とする。
【解決手段】不要変形部が発生する被処理材料に対して加工を施す加工方法において、前記被処理材料にプラズマ処理、放電処理および衝撃波処理の少なくとも１つを施すことを特徴とする加工方法。 （もっと読む）

【課題】洗浄後の欠陥の発生が極めて少ないフォトマスク関連基板を得られる洗浄方法及び洗浄装置提供することを目的とする。
【解決手段】フォトマスク関連基板の洗浄方法において、少なくとも、前記フォトマスク関連基板の表面の異物をあらかじめ除去する前処理工程と、該前処理工程の後に前記フォトマスク関連基板にＵＶ光を照射するＵＶ照射工程と、該ＵＶ照射工程の後に前記フォトマスク関連基板を湿式で洗浄する湿式洗浄工程とを行うことを特徴とするフォトマスク関連基板の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】被処理物に形成された酸化膜に対して、酸化膜中に含まれる酸素原子を分離させるために必要な量以上の水素ラジカルを照射して酸化膜を高速に除去するとともに、前記水素ラジカルを含むプラズマの温度を調整して被処理物等へダメージフリーな酸化膜除去方法を提供することを目的とする。
【解決手段】被処理物の表面の原子が酸素原子、窒素原子または硫黄原子のうち少なくとも１種類と結合することにより形成された被膜に対して、プラズマ生成用ガスに電圧を印加することにより発生したプラズマを照射して前記被膜中の前記酸素原子、窒素原子または硫黄原子を除去する。 （もっと読む）

【課題】リードフレームに搭載されたＬＥＤ素子を傷付けることなく、プラズマ洗浄するプラズマ洗浄装置を提供すること。
【解決手段】収納装置２内の３つの収納ブロック１０の各収納溝１３内に複数枚のリードフレーム３が収納されて開閉扉が閉じた状態で、プラズマ洗浄装置１において真空状態にされたチャンバー１Ａ内にプラズマ反応性ガスを供給すると共に、一対の電極のうちの一方に高周波電源により高周波を印加して前記反応性ガスをプラズマ化して前記リードフレーム３を洗浄する。このとき、収納装置２の各収納溝１３内に収納された状態の各リードフレーム３は各マグネット１４の磁力により下方に引かれて垂直状態に自立するので、傾いて各リードフレーム３は上端部が互いに近くなったり、逆に遠くなったりしないようにすることができる。 （もっと読む）