【課題】電解質の希薄水溶液を被電解水とする電解にて生成される電解生成アルカリ性水を洗浄水として被洗浄物を洗浄する洗浄方法において、洗浄時の、被洗浄物の表面に対する油分等の切れ等を良好にする。
【解決手段】電解質の希薄水溶液を被電解水とする電解にて生成される電解生成アルカリ性水を洗浄水とする被洗浄物を洗浄する洗浄方法であり、洗浄水として、−１℃〜１５℃の温度範囲にある電解生成アルカリ性水を採用して、乳化物を洗浄水中で凝縮して集合させ、乳化物の被洗浄物に対する再度の付着を抑制する。 （もっと読む）

【課題】基板に向けてノズルから流動性材料を連続的に吐出して塗布する塗布装置のノズルの目詰まりを確実に防止する。
【解決手段】塗布装置のノズルの洗浄では、界面活性剤を含む洗浄液にノズルが浸漬されて洗浄液に対して超音波振動が付与されることにより、ノズル表面から異物が除去される。続いて、ノズルが純水に浸漬されて純水に超音波振動が付与されることにより、ノズル表面から界面活性剤が除去される。次に、ノズルがアルコールに浸漬されてアルコールに超音波振動が付与されることにより、ノズル表面の純水がアルコールに置換される。そして、流動性材料の主溶媒を主成分とする洗浄液にノズルが浸漬され、洗浄液に超音波振動が付与されることにより、ノズル表面のアルコールが流動性材料の主溶媒に置換される。その結果、ノズルを使用して行う流動性材料の塗布において、ノズルの目詰まりを確実に防止することができる。 （もっと読む）

【課題】Ｌｏｗ−ｋ材等の基板材料を腐食させずに、埋め込み材を選択的に除去することができる基板洗浄液を提供する。
【解決手段】フッ化物塩および水を含有する基板洗浄液であって、このフッ化物塩の含有量を、基板洗浄液全体を１００質量％として、１０質量％以上５０質量％以下とする。 （もっと読む）

【課題】 硫酸を用いた洗浄システムにおいて、高度に清浄な表面が要求されるシリコンウエハ、液晶用ガラス基板、フォトマスク基板などの電子材料基板を効率的かつ確実に洗浄する。
【解決手段】 硫酸溶液３を洗浄液として被洗浄材（半導体基板３０）を洗浄する洗浄部（洗浄槽１）と、該洗浄部で洗浄に供した洗浄液を貯留する貯留部（貯留槽１０）と、電解反応により溶液に含まれる硫酸イオンから過硫酸イオンを生成して過硫酸溶液を製造する電解反応装置（電解反応槽２０、直流電源２２）と、貯留部と電解反応装置との間で溶液を循環させる循環ライン（送り管１４ａ、戻り管１４ｂ）を備える。好適には洗浄部において硫酸濃度８Ｍ〜１８Ｍ、温度１３０〜２００℃の濃硫酸溶液とし、貯留部において温度８０〜１３０℃未満の溶液とする。 （もっと読む）

【課題】 従来の小型卓上超音波洗浄機では、真空超音波洗浄機に構成するには、構成を大きく変更しなければならないいう問題がある。
【解決手段】 ハウジング１に洗浄タンク２の上部周囲が固着され、洗浄タンク２の底部に圧電体振動子３が装着され、ハウジング１の底部に装着された発振器４から発振出力が圧電体振動子３に印加され、又、洗浄タンク２の底部に洗浄液を排出する排出器５が装着され、さらに、ハウジング１の上部に蓋部材６がパッキン７によって密閉され、この蓋部材６の中央部分に形成された装着部６ａに真空ポンプ８が内蔵され、真空ポンプ８に接続された空気抜き８ａが蓋部材６の下部に突出し、真空ポンプ８と発振器５は電源９に接続されている。 （もっと読む）

【課題】硫酸を用いた洗浄システムにおいて、高度に清浄な表面が要求されるシリコンウエハ、液晶用ガラス基板、フォトマスク基板などの電子材料基板を効率的かつ確実に洗浄する。
【解決手段】被洗浄材（半導体基板３０）を収容して、加熱された硫酸溶液４で前記被洗浄材の洗浄を行う洗浄装置（洗浄槽１０）を備える。好適には前記洗浄槽１で被洗浄材から剥離した汚染物を含む硫酸溶液４をそのまま又は分解槽２０に送液して過酸化水素水供給装置（過酸化水素水供給管３または２２）によって過酸化水素水を添加する。加熱硫酸溶液で被洗浄材を洗浄することで被洗浄材に付着した主には有機物を確実に剥離除去でき、被洗浄材から剥離して硫酸溶液に移行した汚染物は過酸化水素水の添加によって確実に分解できる。 （もっと読む）

【課題】 磁気ディスク用ガラス基板を製造し磁気ディスクを製造するときに、所期の性能が得られ、磁気ヘッドのグライドハイトを十分に狭隘化することができ、また、磁性層に良好な磁気異方性が付与された磁気ディスクの製造を可能とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供し、また、良好な特性を有する磁気ディスクを製造することができる磁気ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】 研磨工程後の乾燥処理において、水よりも沸点の低い水溶性溶剤を主成分とする液体（ＩＰＡ）の蒸気と磁気ディスク用ガラス基板とを接触させる脱水処理を含み、水溶性溶剤を主成分とする液体に含まれる水分量を、１．０重量％以下とする。 （もっと読む）

【課題】 無数の気泡を被洗浄物に供給して洗浄する洗浄方法において、洗浄液中への浸漬もしくはシャワー洗浄などよりもさらに高い洗浄度を実現する。ポンプ, 回転系など複雑な機構を必要としない洗浄方法および洗浄装置を実現する。
【解決手段】 従来の洗浄は洗浄液中に被処理物を浸漬させて、マイクロバブルを作用させていた。本発明の気泡洗浄においては、浮上気泡によって形成される起泡部と気体との境界部付近で被洗浄物を洗浄する。これにより気泡の破泡効果を利用することができ、洗浄度が向上する。 （もっと読む）

【課題】洗浄能力向上と被洗浄基板の腐食や削れの防止を同時に実現する。
【解決手段】本発明の例に関わる基板洗浄方法は、パターン面を有する被洗浄基板を作製する工程と、パターン面に対してプラズマ処理を施す工程と、プラズマ処理を施した後に被洗浄基板の洗浄を行う工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】蛍光体ペースト汚れを効果的に洗浄をすることができる洗浄剤、ワイピングテープの洗浄方法、更にはワイピングテープのリサイクル使用方法を提供する。
【解決手段】洗浄剤は、テルペン類を１〜５０重量％、蛍光体ペーストの溶解作用を有する非水溶性溶剤を１０重量％以上、蛍光体ペーストの溶解作用を有する水溶性溶剤を２０重量％超、３０〜９０℃の曇点を有する非イオン系界面活性剤を５〜３０重量％、有機酸を１〜２０重量％含有する。該洗浄剤を用いて蛍光体ペースト汚れが付着したワイピングテープを洗浄する。該洗浄方法で洗浄後、再び、該ワイピングテープをスクリーン印刷版の清拭工程に使用する。 （もっと読む）

少なくとも部分的に半田レジストマスクによって覆われ、かつ、銅構造体上にトップ層を備えられたプリント回路基板上のイオン性汚染物を減少するために、少なくとも一つのエタノールアミン化合物及び／またはその塩、少なくとも一つのアルコール性溶媒、及び、必要に応じて少なくとも一つのグアニジン化合物及び／またはその塩を含む水性洗浄液が用いられる。 （もっと読む）

【課題】 有機溶剤を使用せず、金属から成る被洗浄物にも適用可能な、環境への負荷が少ない洗浄装置及び洗浄方法を提供すること。
【解決手段】 被洗浄物の油汚れを落とすための洗浄装置は、処理液としてメタケイ酸塩を含むアルカリイオン水を収容し、気泡発生手段を有する少なくとも１つの処理槽と、前記処理液を加熱する手段を具備する。被洗浄物の油汚れを落とすための洗浄方法は、気泡が生じている、加熱された、メタケイ酸塩を含むアルカリイオン水中に被洗浄物を浸漬することを含む。 （もっと読む）

【課題】 電子デバイスをはじめとする基体から、ポリマー物質を除去するため
に有用な組成物および方法を提供する。該組成物および方法は、下地金属表面の腐蝕を低減し、電子デバイス基板からのポリマー残留物の除去に特に適する。
【解決手段】 基体からポリマー物質を除去するための組成物であって、他価アルコール、グリコールエーテル溶媒およびＮ−メチルピロリドンを含む組成物。 （もっと読む）

本発明は、電気毛髪切断器の毛髪切断部を洗浄する洗浄装置に係る。当該洗浄装置は、中央受入れ範囲において電気毛髪切断器の毛髪切断部を受け入れる洗浄液容器を有し、毛髪切断部が洗浄液において少なくとも部分的に浸漬されるようにする。電気毛髪切断器は、容器の中央範囲の周囲における容器内で回転軸の周りを旋回する渦を形成する洗浄液流を生成することによって、洗浄される。液体流は、毛髪切断部から離れて残屑を効果的に取り込む。
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【課題】超音波振動子を配設した洗浄槽を備えたバリ処理装置において、十分なバリの除去能力を有する一方で、被処理物にダメージを与えないバリ処理装置を提供する。
【解決手段】超音波振動子を駆動させる駆動信号は、第１の周波数の矩形波パルス信号からなる第１の信号に、第１の周波数よりも高周波数とした第２の周波数から第１の周波数にスイープさせた第２の信号を重ねた信号とする。特に、第２の信号は、第１の信号の２分の１の周期の間で、第２の周波数から第１の周波数にスイープさせる。また、洗浄槽に供給する洗浄水は循環配管を介して循環させるとともに、この循環配管には活性水生成手段を介設し、洗浄槽には活性水を貯留させる。洗浄槽には超音波振動子の複数の発振素子を千鳥状に配置する。 （もっと読む）

【課題】 少量のシート状材料を洗浄する場合であっても、均一に効率よく洗浄できるシート状材料の洗浄治具およびその洗浄治具を用いた洗浄方法を提供すること。
【解決手段】 洗浄治具１は、シート状材料６の上辺部をクランプしてシート状材料６を吊下げるハンガー３と、このハンガー３により吊下げられるシート状材料６に隣合い、シート状材料６の水平方向の移動を制限するとともに液体が流通する開口部４ａを有するセパレータ４とをラック２に組み込んで構成されている。この洗浄治具１を、洗浄液を充填した洗浄槽に浸漬してシート状材料６を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】 樹脂や紙により袋状に成形された包装材であっても内部に付着した食品等を有効に洗浄することができる新規な包装材洗浄処理装置を提供する。
【解決手段】 複数の回転羽根８１・・・８４の少なくとも何れか一つの回転羽根と上記処理槽３１の内側には、複数の凹部９１ｂ・・・９４ｂが並列してなる串状体９１・・・９４と、この串状体９１・・・９４に形成された凹部９１ｂ・・・９４ｂに対応して形成された切断刃１１３ａ・・・１１９ａ，１１３ｂ・・・１１９ｂとが相対的に配置されてなる。 （もっと読む）

【課題】 表示パネルの端子部をスチーム洗浄するにあたって、噴射する蒸気の帯電量を減らして、端子部に対する帯電量を削減する。
【解決手段】 蒸気発生手段１０と、ホース２０を介して蒸気発生手段１０に接続されるノズル３０とを含み、ノズル３０より表示パネル１の端子部２に向けて蒸気を吹き付け、端子部２に形成されているリード端子を洗浄する表示パネルの端子洗浄装置において、ホース２０およびノズル３０を含む蒸気供給経路の少なくとも一部分に、接地された導電性部材を蒸気供給経路内の蒸気と接触可能に設ける。 （もっと読む）

【課題】融通性が高く、設計から組み立てまでの時間を短縮でき、さらに改造も容易な処理液供給装置を提供する。
【解決手段】この薬液キャビネットは、電気部品ブロック１と、ガス配管部品ブロック２と、薬液循環ブロック３と、薬液調合ブロック４とを備えている。これらのブロック１〜４は、それぞれの構成部品群を固定した筐体１１，１２，１３，１４をそれぞれ備えている。これらの筐体１１〜１４が互いに結合されることによって、ブロック１〜４が一体化されて薬液キャビネットが形成されるようになっている。電気部品ブロック１は、基板処理装置の複数の仕様に共通に適用可能である。薬液循環ブロック３は、基板処理装置の仕様に応じて、構成および個数の変更を要する。薬液調合ブロック４は、採用される薬液調合方式に応じて異なる構成をとる。また、薬液調合ブロック４が不必要な場合もある。 （もっと読む）

【課題】洗浄液を良好に発泡させることができ、しかも取扱性に優れた洗浄液噴射装置を提供する。
【解決手段】発泡性の洗浄液を貯留する容器１と、圧縮空気を一定方向に流通させ、その圧縮空気の負圧で前記容器１内の洗浄液を吸引する吸引管２と、該吸引管で吸引された洗浄液を圧縮空気とともに噴射口１７から噴射するノズル３とを具備し、前記ノズル３は、吸引管側から噴射口側に向かって、吸引管よりも内径が大きい大径部１８ａ、吸引管の断面中心と噴射口の断面中心とを結ぶ直線１９から内壁面までの距離が噴射口側ほど小さいテーパ部１８ｂが順に形成され、該テーパ部内に多孔質な発泡促進部材２０が装入されている構成とする。 （もっと読む）