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Fターム[3B201AB01]の内容

液体又は蒸気による洗浄 (28,239) | 被清浄物の取扱い (3,618) | 被清浄物を搬入する (3,073)

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【課題】洗浄水の不快な臭いを抑えることができる洗浄装置および洗浄水の消臭方法を提供する。
【解決手段】電解水生成手段2が、電解質溶液を電気分解して強酸性水と強アルカリ性水とを生成する。酸性容器3が生成された強酸性水を貯水し、アルカリ容器4が生成された強アルカリ性水を貯水する。ミスト容器5がアルカリ容器4に接続され、アルカリ容器4内の強アルカリ性水の一部を受けて消臭用ミストを生成する。吐出口6aが、酸性容器3、アルカリ容器4または水道管8に選択的に接続されて、強酸性水、強アルカリ性水または水道水を吐出可能に設けられている。ミスト排出部7が、吐出口6aから吐出される強酸性水または水道水の周囲に、強酸性水または水道水を包囲するようミスト容器5内の強アルカリ性水の消臭用ミストを噴霧可能に設けられている。 (もっと読む)


【課題】
【解決手段】基板の表面からパーティクル汚染物質を洗浄するための装置及び方法は、粘弾性材料の層を表面上に塗布することを含む。粘弾性材料は、薄い膜として塗布され、実質的な液体様特性を示す。粘弾性材料を塗布された表面の第1のエリアには、粘弾性材料を塗布された表面の第2のエリアがその加えられる力を実質的に受けないように、外力が加えられる。外力は、粘弾性材料の固体様特性にアクセスするために、粘弾性材料の固有時間よりも短い持続時間にわたって加えられる。固体様特性を示す粘弾性材料は、表面上に存在するパーティクル汚染物質の少なくとも一部と少なくとも部分的に相互作用する。粘弾性材料は、固体様特性を示している間、パーティクル汚染物質の少なくとも一部と併せて表面の第1のエリアの領域から除去される。 (もっと読む)


【課題】半導体素子を検査する検査治具のプローブ端子を損傷することなく、低接触抵抗値を維持し、信頼性の高いプローブカードの洗浄方法を得る。
【解決手段】ウエハ一括コンタクトボード60を構成するニッケル(Ni)からなる半球状のバンプ(プローブ端子)22を備えたバンプ付きメンブレンリング10を、フッ素濃度が1wt%未満の酸性フッ化アンモン水溶液に浸漬する。これにより、半導体素子を検査した時にアルミニウムパッドから剥がれてバンプ22に付着したアルミニウムや酸化アルミニウムを、バンプ22を損傷することなく除去することが可能である。また、バンプ22を構成するニッケル(Ni)を溶解すること無く、バンプの表面に形成されたニッケル酸化物(NiO)を除去することができる。 (もっと読む)


【課題】磁気ディスク用ガラス基板を収納するディスクケースを再利用しても磁気ディスク用ガラス基板に影響が及ばないようにディスクケースの再利用回数を適確に管理することができるディスクケースの使用方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、複数の磁気ディスク用ガラス基板を収納して搬送する際に用いられるディスクケースの使用方法であって、前記ディスクケースに複数の磁気ディスク用ガラス基板を収納し、前記磁気ディスク用ガラス基板を搬送した後に、前記ディスクケースから前記磁気ディスク用ガラス基板を取り出し、その後、前記ディスクケースを洗浄・乾燥する全工程を1サイクルとし、前記磁気ディスク用ガラス基板のパーティクル発生率と前記ディスクケースのサイクル数との間の関係に基づき、前記パーティクル発生率が急激に上昇するサイクル回数未満のサイクル数で前記ディスクケースの再利用回数を管理することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ペットボトルの洗浄破砕に伴って生じる汚水を処理し、不都合なく再度洗浄に利用できるペットボトルの洗浄破砕装置への循環型給水装置を提供する。
【解決手段】ペットボトルが洗浄水とともに供給され水と混在して破砕されるバッチ式の洗浄破砕装置に、破砕されたペットボトルチップが水とともに流送されて水が排除されてから遠心分離機に掛けられる脱水装置と、こうしてペットボトルチップから分離された汚水が送られ振動により水中のゴミが除去される振動分離装置と、さらに送られた汚水が濾過される活性炭吸着塔と、ここでの活性炭での処理水が送られるとともに、途中で消失した不足分の清水が補充される濾過水貯水タンクと、濾過水貯水タンクで補充水と混和された洗浄水を洗浄破砕装置に供給する濾過水移送ポンプとを循環して配置してなり、脱水装置では、脱水されたペットボトルチップを搬出側の袋詰め装置に圧送パイプで送る風圧送り装置が具備されている。 (もっと読む)


【課題】給水することで掃除具を清掃できる掃除具の収納装置を提供する。
【解決手段】駆動手段6と、駆動手段6をON,OFFするスイッチ手段9を備えた掃除具5を収納し得る収納装置1は、収納装置1内に水を溜めることのできる給水手段2,2aと、収納装置1内の水を抜くことのできる排水手段3,3aを備えているとともに、収納装置1内に水が溜まった状態でスイッチ手段9をONして、掃除具5を駆動させて自己洗浄させることができ、水が抜かれた状態でスイッチ手段9をOFFとして、掃除具5の駆動を停止させることのできるスイッチ切替手段4を備えている。 (もっと読む)


【課題】 半導体基体、液晶基体、磁性基体または超伝導基体製造プロセスにおけるウェット洗浄の洗浄水においてより高い洗浄効果を得るために、気体添加を目的とした気体透過性の膜を介して、適量の気体成分を洗浄水に添加することにより洗浄水のpHと酸化還元電位(ORP)をより簡便かつ精密に制御できる水溶液のpH及び酸化還元電位の制御方法及びその装置を提供する。
【解決手段】 気体添加を目的とした気体透過性の膜を介して、気体成分を水溶液に添加することにより水溶液のpHと酸化還元電位を制御するものであって、半導体基体、液晶基体、磁性基体または超伝導基体製造プロセスにおけるウェット洗浄の洗浄水として水素添加水を用い、前記水素添加水に添加する前記気体成分としてアンモニアガスを使用する。 (もっと読む)


【課題】処理を行う基板に対して歩留りが低下するのを防止できる基板処理装置、基板処理方法、及び表示装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明にかかる基板処理装置100は、基板101に処理液を供給してスピン処理を行う基板処理装置100であって、基板101を保持して回転させる吸着ステージ102と、吸着ステージ102上に載置された基板101を支持する支持ピン103と、支持ピン103が複数設けられたリング104と、リング104を上下に移動させるベローズバルブ105と、を備えるものである。 (もっと読む)


本発明は、特に自動の家庭用又は業務用器物洗浄機において、カチオン性澱粉を含有する洗剤組成物を用いて、器物を洗浄する方法を開示する。これはすすぎ工程における界面活性剤の必要性を排除する。カチオン性澱粉は、すすぎ剤成分を添加することなく、水性すすぎ剤工程においてシート上に広がる作用を与えるように器物上にカチオン性澱粉の層を提供する。 (もっと読む)


【課題】超音波洗浄器または超音波振動子を用意せずに、電子機器で超音波洗浄を行うことができる洗浄可能な電子機器およびその洗浄方法を提供する。
【解決手段】電子機器が、防水機能を有する筺体と、筺体内部に設けられている機能デバイス6と、超音波発生デバイス7と、筺体の枠の超音波発生デバイス7と隣接する位置に設けられている超音波放出口4とを有している。 (もっと読む)


【課題】被洗浄物の腐食を抑制しつつ、酸性付着物を効果的に除去できる酸性付着物除去剤および酸性付着物の除去方法を提供する。
【解決手段】アルカリ金属の炭酸水素塩とアルカリ金属の炭酸塩とを含み、アルカリ金属の炭酸水素塩とアルカリ金属の炭酸塩との合計(100質量%)のうち、アルカリ金属の炭酸水素塩の割合が98〜70質量%であり、アルカリ金属の炭酸塩の割合が2〜30質量%である酸性付着物除去剤;および水と本発明の酸性付着物除去剤とを含む洗浄液を、硫黄化合物を含む酸性付着物が付着した被洗浄物に噴霧する酸性付着物の除去方法。 (もっと読む)


【課題】自動車部品用等のパーツボックスの洗浄において、洗浄性、油水分離性、仕上がり性、貯蔵安定性、低泡性に優れたコンテナ用洗浄剤組成物および洗浄方法を提供する。
【解決手段】(A)アルカリ剤を0.5〜18質量%、(B)両性界面活性剤を0.2〜20質量%、(C)水を残質量%含み、且つ(A)成分と(B)成分との重量比が、(A)成分/(B)成分=10/1〜1/40の範囲であることを特徴とするパーツボックス用洗浄剤組成物を用いる。更に、(D)高分子ポリマーを0.4〜9質量%含有することを特徴とする、パーツボックス用洗浄剤組成物を用いる。 (もっと読む)


【課題】インクジェット方式の機能液滴吐出ヘッドの内部流路に介設したシールゴムに付着した機能液やその他の異物を効率的に除去することのできるシールゴムの洗浄方法等を提供する。
【解決手段】インクジェット方式の機能液滴吐出ヘッド1を分解して取り出したシールゴム4を、付着した機能液が乾燥する前に機能液の溶媒に浸漬する浸漬工程S1と、浸漬工程S1の後、シールゴム4を洗浄液で超音波洗浄する洗浄工程S2と、洗浄工程S2の後、シールゴム4をアルコールで洗浄するアルコール洗浄工程S3と、アルコール洗浄工程S3の後、シールゴム4を自然乾燥させる乾燥工程S4と、乾燥工程S4の後、シールゴム4の外観を顕微鏡で検査する検査工程S5と、から成り、洗浄工程S2では、洗浄液を循環させ且つフィルタリングしながら超音波洗浄を行う。 (もっと読む)


(a)洗浄すべき対象物を、変動圧力耐性容器内に設置する工程、
(b)前記対象物に対して、少なくとも1種の発泡剤と少なくとも1種の酵素と溶存ガスとを含む泡状組成物を適用する工程、
(c)前記容器に対して変動圧力を加え、前記対象物を前記泡状組成物で洗浄する工程、及び
(d)前記対象物をリンスする工程
を含む、対象物の洗浄方法。
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【課題】 微細な箇所の汚染に対しても優れた洗浄効果を発揮できる洗浄装置を提供する。
【解決手段】 本発明の洗浄装置は、気泡混合液を通過させて噴出させることにより、気泡混合液中に微細気泡を発生させる環状スリットを備える微細気泡発生装置Aと、前記微細気泡発生装置Aで生じた微細気泡混合液を被洗浄機器又は装置Bに供給するための供給手段Cとで構成される。微細気泡発生装置Aにおける環状スリットは、内径側から外径側に向かって間隙最小部から拡大するように設けられた流路拡大部を備えているのが好ましい。 (もっと読む)


洗浄工程で、現場生成されたフッ化水素(HF)を使用するシステム及び装置を開示する。例示的なシステムは、液相又は気相のハロゲン化供給材料と水素ガスとの現場反応を促進してHFを形成するために十分な温度で動作する洗浄レトルトを含む。このシステムは、洗浄レトルトの外部に配置された、液相又は気相のハロゲン化供給材料源と水素ガス源とを含み、それらは、反応すると洗浄レトルト内でHFを生成する。洗浄レトルト内に配置されるHFスクラバーは、現場反応によって形成された残留HFガスを実質的に除去する。例示的な装置は、洗浄レトルトを含み、洗浄レトルトは、洗浄の必要がある部品を保持できる第1の領域と、HFスクラバーとして動作する第2の領域とを備える。
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【課題】被洗浄基板、例えばフォトマスク用透明基板、フォトマスクブランク、フォトマスクブランク製造中間体、フォトマスク等を洗浄した場合に、異物の発生を極めて少なくすることができる洗浄方法、および洗浄装置に洗浄液を供給する洗浄液供給装置を提供する。
【解決手段】洗浄液を洗浄装置に供給して被洗浄基板を洗浄する洗浄方法であって、洗浄液を異物を除去するための濾過フィルタで濾過し、濾過した洗浄液を供給管を通して洗浄装置に供給して被洗浄基板を洗浄するとき、少なくとも、濾過した洗浄液の洗浄装置への供給に先立ち、濾過した洗浄液を排出管を通して系外へ排出し、その後、濾過した洗浄液を供給管を通して洗浄装置に供給する洗浄方法。 (もっと読む)


【課題】発振器本体の内部の調整又は発振器本体を交換することなく、同一周波数の振動子又は異なる周波数の振動子に交換できる超音波振動装置用部品を提供する。
【解決手段】本発明に係る超音波振動装置用部品は、被洗浄物を洗浄する洗浄液に超音波振動を与える際に用いられ、超音波振動用信号を発振させる発振器本体24に接続するための接続ユニット25と、前記接続ユニットに接続される振動子26と、を具備し、前記接続ユニットは、前記超音波振動用信号の出力を調整するための出力トランス33と、前記出力トランスに電気的に接続されたコイル・コンデンサ34と、前記コイル・コンデンサに電気的に接続された電流検出器35と、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【解決手段】基板の表面上に形成された金属ゲート構造の周囲からポストエッチング洗浄工程中にポリマ残渣を除去するためのシステム及び方法は、金属ゲート構造に及び除去されるべきポリマ残渣に関連する複数のプロセスパラメータを決定することを含む。1又は複数の製造層が、金属ゲート構造を画定し、プロセスパラメータは、これらの製造層の及びポリマ残渣の特性を定める。第1及び第2の洗浄化学剤が特定され、プロセスパラメータに基づいて、第1及び第2の洗浄化学剤に関連する複数の適用パラメータが定められる。ゲート構造の構造的完全性を維持しつつポリマ残渣を実質的に除去するために、第1及び第2の適用化学剤は、適用パラメータを使用して制御方式で順次適用される。 (もっと読む)


【課題】被処理物に付着する油分を確実に洗浄除去することができ、被処理物の洗浄処理に使用される溶剤を再生処理して洗浄力の回復及び維持を図ることができる被処理物洗浄方法及び被処理物洗浄装置の提供を目的とする。
【解決手段】被処理物Aに付着する油分Dを炭化水素系溶剤Bに溶解させて分離した後、被処理物Aに残着する炭化水素系溶剤Bをフッ素系溶剤Cに溶解させて分離する。油分Dが溶解した炭化水素系溶剤Bと再生処理済みのフッ素系溶剤Cとの混合溶剤BCをフッ素系溶剤Cの沸点より低い温度で該沸点に近い温度に加温する。炭化水素系溶剤Bに対してフッ素系溶剤Cを溶解させ、フッ素系溶剤Cに対して溶解性がない油分Dを分離する。油分Dが分離された混合溶剤BCを沸点より低い温度に冷却して、炭化水素系溶剤Bとフッ素系溶剤Cとに分離及び再生するとともに、被処理物Aの洗浄処理に繰り返し使用する。 (もっと読む)


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