【課題】被洗浄物がたとえ複雑形状を有する場合であっても、被洗浄物表面上の汚染物質を十分に除去できる洗浄方法および洗浄装置を提供する。
【解決手段】純水にオゾンを溶解させたオゾン水に紫外線を照射して洗浄液を得るための紫外線照射処理槽６、紫外線照射処理槽６内で得られた洗浄液を供給する管路１５および洗浄液を被洗浄物に接触させるための手段７を備え、オゾン水に紫外線を照射して洗浄液を得た直後に、当該洗浄液を被洗浄物に接触させる。 （もっと読む）

【課題】環境汚染を引き起こすことなく、しかも細部まで確実に洗浄し得る洗浄装置および洗浄方法を提供する。
【解決手段】液体と窒素とを混合およびせん断して窒素マイクロバブル含有水を作製する第１気体せん断部２１と、窒素マイクロバブル含有水を更にせん断して窒素ナノバブル含有水を作製する第２気体せん断部２２と、窒素ナノバブル含有水に対して磁場をかける第１活性化手段２８と、磁場がかけられた後の窒素ナノバブル含有水を更にせん断する第３気体せん断部４と、第３気体せん断部によって更にせん断された窒素ナノバブル含有水が吐出される槽１と、を有する洗浄装置によって洗浄対象３を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】処理槽に温度制御部を必要としない薬液処理槽及びそれを用いた薬液処理装置を提供することにある。
【解決手段】断熱材１２で覆われた処理槽１０の内部において、被処理物１９を単品又はバッチで処理を行う処理部６０と、所定の温度に設定された液３３を貯える貯液部１４−１とを有し、処理槽１０の内部及び被処理物１９を、貯液部１４−１に蓄えられた液の熱伝導又は熱放射により加熱又は冷却して、所定の温度に維持する。 （もっと読む）

【課題】低分子有機ＥＬ装置の蒸着マスクに付着した有機物を容易に除去することが可能な、洗浄方法および洗浄装置の提供を目的とする。
【解決手段】低分子有機ＥＬ装置の蒸着マスクに付着した有機物の洗浄装置１であって、蒸着マスク１４０をピロリドンの誘導体で処理する第１ステージ１０と、蒸着マスク１４０を水リンス処理する第２ステージ２０と、蒸着マスク１４０を流水リンス処理する第３ステージ３０と、蒸着マスク１４０をエタノールで処理する第４ステージ４０と、蒸着マスク１４０を乾燥させる第５ステージ５０と、各ステージに対して蒸着マスク１４０を順次搬送する搬送手段５とを有する。ピロリドンの誘導体として、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを採用することが望ましい。 （もっと読む）

本発明は、スプレーガン（Ｓ）、詳細には、洗浄液用の送り装置（２）に接続された少なくとも１つの洗浄ノズル（１）と、スプレーガン（Ｓ）またはその部品を手動洗浄するための摩擦洗浄器具（３）とを有する、塗装スプレーガン（Ｓ）を洗浄するための洗浄装置に関する。かかるタイプの周知の洗浄装置は、塗料噴霧流路を十分に洗浄することができない。外側表面と塗料噴霧流路の両方の部分を効率的かつ環境的でしっかりと洗浄できる洗浄装置を提供するという目的は、洗浄ノズル（１）を摩擦洗浄器具（３）の近くの上方に配設することで達成される。その結果、洗浄ノズル（１）によって洗浄液をスプレーガン（Ｓ）の中かつ／またはその上に噴霧でき、スプレーガン（Ｓ）、詳細にはスプレーガンノズルを、摩擦洗浄器具（３）を使用した摩擦によって同時に手動洗浄することができる。
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【課題】洗浄性に優れ、被洗浄物の持込による洗浄液の劣化が少なく、さらに引火点がなく、人体や環境への影響が少ないウエハ又は板状物の洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】次の成分（ａ）〜（ｅ）を含有することを特徴とするウエハ又は板状物の洗浄剤組成物である。
（ａ）下記一般式（１）で示されるアルキルポリグルコシド ５〜４０重量％
Ｒ−Ｏ−（Ｇ）ｎ−Ｈ ……（１）
（式中Ｒは炭素数１〜２２の直鎖又は分岐のアルキル基であり、Ｇは炭素数５〜６の還元糖を示し、ｎは１〜５である。）
（ｂ）金属イオン封鎖剤（キレート剤） １〜２０重量％
（ｃ）アルカリ剤 １〜３０重量％
（ｄ）エーテル型非イオン界面活性剤 １〜３０重量％
（ｅ）水 残部 （もっと読む）

【課題】既存の機能を極力利用し、機器内のカビを防止できるオゾン水応用機器を提供する。
【解決手段】洗浄対象物ｘを洗浄するための洗浄槽２と、圧力変動吸着式の酸素濃縮器３と、その酸素濃縮器３からの高濃度酸素でオゾンを生成するオゾン発生器４と、洗浄槽２に給水する給水ライン１７と、洗浄槽２を通した水とオゾン発生器４からのオゾンとを混合してオゾン水を製造するオゾン水製造ライン１８とを備え、洗浄槽２内にオゾン水を供給して洗浄対象物ｘをオゾン洗浄し、オゾン水を排水して洗浄槽２から洗浄対象物ｘを取り出した後、洗浄槽２を洗浄するためのオゾン水応用機器１において、洗浄槽２の残留物を水リンスで排除するための洗浄手段と、洗浄槽２をオゾン水で殺菌する殺菌手段と、洗浄槽２を乾燥させる乾燥手段とを備えたものである。 （もっと読む）

【課題】ＣＶＤ−ＳｉＣ成形体の加工面の傷や加工時に生じる不純物などを効果的に除去する洗浄方法を提供すること。
【解決手段】ＣＶＤ法により作製したＳｉＣ成形体を所望の形状に加工した後、酸洗浄し、次いで、（１）該ＣＶＤ−ＳｉＣ成形体を陽極として２．０Ｖ以上の正電位を印加して表面に二酸化ケイ素の膜を形成する電解研磨処理、（２）引き続き、フッ化水素酸系の酸により二酸化ケイ素膜の溶解除去処理、を施した後、純水で洗浄し、乾燥することを特徴とするＣＶＤ−ＳｉＣ成形体の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】簡略化された構造的形成及び／又は改良された処理作用を特徴とする噴射管を開示すること
【解決手段】液状噴射媒体或いは洗浄媒体を供給する分配管（１０）を備えて、分配管（１０）の内部と接続して第一制御開口（３２）を形成する少なくとも一つの第一ノズル通路（１８）を有する分配管（１０）に保持されたノズル要素（１７）及び全ノズル或いは一グループの複数のノズルのために共通のノズル軸（２４）から成る分配管（１０）に設けられた複数の噴射ノズル（２８）を備えて、洗浄機械、特に瓶或いは容器洗浄機械の噴射ステーションに使用する噴射管である。
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【課題】 使用する洗浄液の量が少なく、装置の小型化が可能であり、連続的に、均一かつ高効率に粒子の洗浄を行うことができる粒子の洗浄方法およびそれを用いる粒子洗浄装置を提供することである。
【解決手段】
分散液供給工程において粒子分散液を加圧して連続的に混合空間に供給し、洗浄液を加圧して連続的に混合空間に供給することにより粒子を洗浄するようにする。 （もっと読む）

本発明は、洗浄組成物、及び多様な基材の洗浄のために該洗浄組成物を使用する方法、及びこのような洗浄組成物を製造する方法に関する。 （もっと読む）

【課題】柔軟に、速く作業を行えることができるティートカップの洗浄及び／消毒作用を有する装置を提供する。
【解決手段】バルブ（４）で開閉可能な排出口（３）を有する１つ以上のティートカップに接続することができる加熱室（２）と、前記加熱室（２）に洗浄液（１１）を供給する充填装置（２０）と、前記加熱室（２）内の内容物を加熱する加熱手段とを備え、前記排出口（３）と貯蔵コンテナとの間に連結ライン（１７）とを設ける。前記バルブ（４）で前記加熱室（２）が閉じられた際は、前記加熱室（２）が前記充填装置（２０）から供給された前記洗浄液（１１）で満たされ、前記洗浄液（１１）が、大気圧における前記洗浄液（１１）の沸点Ｔｋよりも高い温度Ｔまで加熱された際には、前記バルブ（４）が開放され、前記加熱室（２）の内部に液体状態の前記洗浄液（１１）が残存するようにした。 （もっと読む）

【課題】 ニードル２に付着した洗浄液を接触物質等を用いることなく吹き飛ばして乾燥を促進させることができ、次工程における吸入時に洗浄液が試液内に混入してしまうことを防止することができるニードル洗浄装置を提供する。
【解決手段】 洗浄装置に、ニードル洗浄後の付着洗浄液を飛散し、または乾燥せしめるエアー噴出手段４を組として設けると共に、該エアー噴出手段４を、ニードル２の挿通部４１３が形成されたカバー部材４１と、該挿通部４１３の内周面域に挿入されたニードル２に向けてエアーを噴出するよう設けられた噴出口４１４とで構成する。 （もっと読む）

【課題】被洗浄面に気泡を含んでいる噴流水を噴射することで、その面を洗浄する気泡式洗浄装置において、高圧ノズルから噴射される噴流水中の気泡が、そのノズルから被洗浄面までの間に弾けるのを防止し、洗浄効果を高める。
【解決手段】噴流水ＨＷを噴射する高圧水ノズル１８と、高圧水ノズル１８を囲むように設けた洗剤ノズル１９，２０を備え、噴流水ＨＷを、洗剤ノズル１９，２９から噴射する洗剤噴流水ＬＷで覆う。 （もっと読む）

【課題】細片を医療用器具から除去するための、効率的かつ安価なデバイス、システムおよび方法を提供すること。
【解決手段】細片収集システム１００であって、細長本体１１０であって、第一の端部、第二の端部、および該細長本体を通って延びる穴１２７を有し、該細長本体の第一の端部は、密閉状態で閉じられ、そして該細長本体の第二の端部は開口部１１３を有する、細長本体；該細長本体に固定されるキャップ１２０であって、該キャップを通って延びる穴を有する、キャップ；ならびに該細長本体に流体を導入するためのポートであって、該キャップに取り付けられる、ポート、を備える、細片収集システム。 （もっと読む）

洗浄された電極が表面汚染仕様を満たし、かつ製造の歩留まりが向上するように、容量結合プラズマ反応器の電極を洗浄し表面粗さを減少させるための、体系化された効率的な方法。洗浄工程で使用される工具の予備洗浄が、洗浄される電極の汚染を防止するのに役立つ。
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【課題】基板に与えるダメージを低減可能な処理液を簡易かつ正確に選定する方法を提供する。
【解決手段】はじめに、処理液の分子密度と、処理液を基板表面に物理的に作用させることによって基板に対する処理を実行した際に前記基板に発生するダメージとの関係を示す分子密度相関グラフを準備する。続いて、分子密度相関グラフに基づいて分子密度閾値を特定する。より具体的には、分子密度相関グラフに近似する自然対数曲線Ｌを特定し、自然対数曲線Ｌにおいて、ダメージ値が所定の上限ダメージ値の１／ｅ倍（ｅは自然対数の底）となる分子密度を算出し、当該算出された分子密度の値Ｍ１を、分子密度閾値として取得する。続いて、分子密度が分子密度閾値以下の選定処理液を基板に対する処理を実行可能な処理液として選定する。 （もっと読む）

【課題】基板表面の研磨残渣を除去し、清浄な基板表面を得る基板洗浄方法を提供する。
【解決手段】炭化珪素（ＳｉＣ）研磨材などで研磨されたアルミナ基板を、５００〜８００℃に加熱された炭酸ナトリウムと炭酸リチウムとを混合した溶融塩中へ含浸することにより、アルミナ基板表面に存在する無機研磨材の残渣を除去する。その後、無機研磨材の残渣が除去されたアルミナ基板表面に、白金又は白金合金による薄膜電極及び白金又は白金合金によるヒータを形成する。 （もっと読む）

本発明は、リソグラフィ装置のエレメント上の堆積物除去のためのクリーニングプロセスを提供する。かかる方法は、アルカリ洗浄液を用いてエレメントを処理すること（ex situ）を含む。このようにして、Ｓｎを汚染物質バリアまたは集光ミラーから除去できる。クリーニングされるエレメントへの電圧の印加および／または洗浄液中のＳｎの溶解を改善するための錯化剤を使用することが特に有益である。 （もっと読む）

【課題】 炭酸アルキレンを含有する有機被膜の剥離液をオゾン処理したときに剥離液中に生成する酸化性物質濃度を低減する技術を提供する。
【解決手段】 炭酸アルキレンを含有する剥離液を使用して基体表面上の有機被膜を除去する工程１、上記工程１において生成した有機被膜に由来する成分を含有する剥離液にオゾン含有ガスを接触させる工程２、および上記工程２において生成したオゾン含有ガスに接触した剥離液に活性エネルギー線を照射する工程３を含む基体表面上の有機被膜の除去方法。 （もっと読む）