【課題】脈理発生を抑制可能とする、ガラス型の洗浄方法、および、この洗浄方法を採用したプラスチックレンズの製造方法を提供する。
【手段】本発明のガラス型の洗浄方法は、ガラス型をアルカリ洗浄剤に接触させた後、ガラス型をすすぐ工程を含み、ガラス型をアルカリ洗浄剤に接触させる前に第１の酸の水溶液に接触させる第１酸処理、および、ガラス型をアルカリ洗浄剤に接触させた後ガラス型のすすぎが終了する前にガラス型を第２の酸の水溶液に接触させる第２酸処理、のうちの少なくとも一方の酸処理を行い、第１の酸の水溶液の酸濃度および第２の酸の水溶液の酸濃度は、０．１重量％〜９８重量％であり、アルカリ洗浄剤は、水溶性アルカリ化合物を１重量％〜３０重量％含有する。 （もっと読む）

【課題】金属線または間隔のクリティカルディメンションを実質上変化させることなく、所望量の金属を除去するエッチング工程が必要とされている。
【解決手段】エッチングレジストとエッチング後の金属残渣を単一工程で除去する、光学ディスプレーデバイスの製造方法が提供される。これらの方法はＬＣＤの製造に特に有用である。 （もっと読む）

【課題】不純物による洗浄液の汚染を防いでリード端子部を洗浄することのできる洗浄装置を提供する。
【解決手段】ノズル１は、外筒部２と、外筒部２の内部に配設された内筒部３と、外筒部２を貫通して内筒部３に接続し、内筒部３を外筒部２の長手方向に沿ってピストン駆動するエアシリンダ４とを備える。外筒部２は、内筒部３の周囲に設けられた２つのラビリンスシール９，１０によって、内部を３つの部屋に分けられている。第１の部屋１１には、配管８に接続する第１の開口部５が設けられている。内筒部３は、第１の部屋１１に設けられた第４の開口部１４と、第２の部屋１２に設けられた第５の開口部１５とを有する。第５の開口部１５には水蒸気１７を噴射する噴射部１６が接続していて、噴射部１６は第２の部屋１２から外筒部２を貫通して外部に突出している。 （もっと読む）

第１の態様において、オリフィスを有する半導体製造チャンバーのコンポーネントを洗浄するための方法が提供される。この方法は、（Ａ）洗浄溶液を有する槽にコンポーネントを入れるステップと、（Ｂ）洗浄溶液でコンポーネントを洗浄する間に、オリフィスに流体を流し込んで、オリフィスの少なくとも第１部分を、洗浄溶液がない状態に維持するステップと、（Ｃ）オリフィスから流体を回収し、洗浄溶液がオリフィスの第１部分に入り込んでオリフィスの第１部分を洗浄するようにするステップとを備えている。多数の他の態様も提供される。 （もっと読む）

【課題】リン含有化合物をおよび揮発性有機溶媒を含まず、現在使用されている一般的な市販のプラスチック用酸性洗浄剤よりも汚染の少ない、低発泡性工業用洗浄組成物を提供する。
【解決手段】水と、少なくとも１種のカルボン酸、１種以上の芳香族水溶性または水分散性非イオン界面活性剤、ならびに所望により、カルボン酸の塩、ヒドロトロープ材料、ｐＨ調整剤、多価アルコールおよび保存剤を含む低発泡性工業用洗浄組成物を得た。 （もっと読む）

【課題】水没した精密電子機器を分解することなく、電子回路素子に悪影響を及ぼすことを抑え、内部に入り込んだ水分、水分に含まれる異物を除去する。
【解決手段】水没した精密電子機器Ａを気密容器８に配置し、超純水タンク１１から超純水を入れて電気抵抗センサー１４からの信号で流入、排出バルブ１２，１３の制御をおこない、複数の超音波振動子Ｂを切り替えながら超音波発信機１６で洗浄し、超純水を排出した後、気密容器８内部を気圧センサー４で検出することにより、排気ポンプ１と外気導入コントロール電磁バルブ３及び排出コントロール電磁バルブ２を制御して、外気流入制御をおこない、気密容器内を最適気圧に保つ。 （もっと読む）

【課題】 ランジュバン型振動子は洗浄槽の下面の振動板に装着するだけであるので、ランジュバン型振動子を装着する数が少なく、ランジュバン型振動子から照射される超音波のパワーが制限され洗浄槽の中心に集中されないという問題があった。
【解決手段】 洗浄槽１は球体の一部で構成され、又、洗浄槽１の端部にフランジ２が形成され、このフランジ２に固定するためのボルト孔３が形成され、又、洗浄槽２の側面及び下面に多数のランジュバン型振動子４が固着され、このランジュバン型振動子４の球状体の洗浄槽１との接触面は球状体の一部になるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】 酸化膜にダメージを与えることなく、砒素がドープされたレジストが除去可能であり、酸化剤を含有しないレジスト除去用組成物を提供する。
【解決手段】 硫酸及びポリリン酸を含む組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】優れた洗浄性能を有する洗浄水を製造する装置及び洗浄水を製造する方法を提供することを課題とする。
【解決手段】アルカリ酸化水Ａに酸素含有ガスのマイクロバブルを供給する気泡供給手段１２によって、アルカリ酸化水Ａに酸素含有ガスのマイクロバブルを供給し、これによって、洗浄水としての酸素含有アルカリ酸化水を得るようにする。この得られた酸素含有アルカリ酸化水は、アルカリ酸化水や、酸素以外の気体を含有するアルカリ酸化水に比して、優れた洗浄性能を有する。 （もっと読む）

【課題】 酸化膜にダメージを与えることなく、砒素がドープされたレジストを除去可能であり、酸化剤を含有しないレジスト除去用組成物を提供する。
【解決手段】 基板工程において砒素がドープされたレジストを除去する際にエチレンジアミンを含む組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】有機被膜の剥離性が低下することを抑止して、効率的に基体上の有機被膜を除去する方法を提供する。
【解決手段】基体に付着した有機被膜を、有機溶剤からなり、かつ、オゾン処理による再生処理を施した剥離液と接触させて除去するに際して、該剥離液中のカルボン酸成分及びそのエステル成分の合計を３０質量％以下に維持しつつ有機被膜を剥離液と接触させる。
剥離液として、炭酸エチレン、炭酸プロピレン等の炭酸アルキレンを用いる。 （もっと読む）

【課題】アルミニウムまたは銀を含む金属層の形成された基板に対して腐食を発生せず、かつ効果的にフォトレジスト膜を除去することが可能なフォトレジスト用剥離液を提供すること。
【解決手段】（Ａ）界面活性剤を１質量％以上３０質量％以下、（Ｂ）防食剤を０．０５質量％以上１０質量％以下、（Ｃ）水を５質量％以上６０質量％以下、および（Ｄ）水溶性有機溶剤を３０質量％以上９５質量％以下含有するフォトレジスト用剥離液である。 （もっと読む）

【課題】シリコンウエハなどの電子材料基板上に付着した有機汚染物などを洗浄液で効果的に除去でき、かつ洗浄液の品質寿命を長く維持できる洗浄システムを提供する。
【解決手段】硫酸溶液を含む洗浄液１６によって被洗浄材を洗浄する洗浄槽１と、過硫酸溶液を生成する過硫酸溶液生成手段２０と、過硫酸溶液を前記洗浄液に添加する過硫酸添加手段（開閉弁１４、過硫酸添加ライン１５）とを備える。過硫酸溶液生成手段２０は、好適には過硫酸塩溶液を用いた電気透析装置により構成し、洗浄液の液温は８０〜２００℃に調整し、硫酸濃度を８〜１７Ｍに維持するのが望ましい。洗浄液である硫酸に過硫酸溶液を添加することで高度な洗浄が可能になり、洗浄プロセスのスループットを向上できる。さらに洗浄液ライフも長くできる。 （もっと読む）

【課題】間接照射方式の超音波洗浄装置において、洗浄槽内の音圧を安定させやすく、洗浄力を安定させることのできる超音波洗浄装置の提供にある。
【解決手段】底面に超音波振動板１３が取り付けられ、内部に超音波振動を伝達する間接水１４を貯留する外槽１２と、該外槽１２の内部に配置され底面１１ａが超音波振動板１３から所定の間隔Ｌを有し、内部に洗浄液１５を入れて浸漬させた被洗浄物を間接水１４を介して伝搬する超音波振動により洗浄する洗浄槽１１とを備え、かつ間接水１４の液温を調整する調温ユニット１７を有し、前記所定の間隔Ｌを、Ｌ＝（λ／２）×ｎ＋λ／４、ｎは０≦ｎ≦３０の整数、λは間接水中での超音波の波長で示されるように構成した。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の塗布膜を選択的に溶解除去した端部にレジスト残りを発生させないガラス基板端部のレジスト除去方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板４０の端部の塗布膜２を選択的に溶解除去する処理ヘッド部１０を使用した端面処理方法において、１）ガラス基板の端部を処理液貯留部５１に位置させる際の、処理ヘッド部内のガラス基板の経路５６の上下に設けられた洗浄用純水の吐出口に２流体ノズル２０Ａ、２０Ｂを設けて、２）ガラス基板の端部の塗布膜を選択的に溶解除去した後に、２流体ノズルを用い純水とクリーンエアーでガラス基板の端部を２流体洗浄すること。 （もっと読む）

本発明は、ジーメンス法からのポリシリコンを、細断工具およびスクリーン装置を含む装置により細断し、分級し、こうして得られたポリシリコン断片を清浄化浴により清浄化することにより、高純度の分級されたポリシリコン断片を製造する方法であって、
細断工具およびスクリーン装置が、引続き意図的に清浄化浴によって除去されるような異質粒子でポリシリコン断片だけを汚染する材料からなる、ポリシリコンと接触する表面を例外なく有することを特徴とする、高純度の分級されたポリシリコン断片を製造する方法に関する。
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本発明によって物品洗浄用洗剤組成物が提供される。物品洗浄用洗剤組成物は洗浄剤、アルカリ源、及び腐食防止剤を含む。洗浄剤は洗浄力のある量の界面活性剤を含む。アルカリ源は、約５以上のｐＨを有する使用組成物を提供するのに有効な量で提供される。腐食防止剤は、アルミニウムイオン源及びカルシウムイオン源又はマグネシウムイオン源の少なくとも１種を含む。カルシウムイオン又はマグネシウムイオンの量は、希釈の水の硬度に応じて選択できる。物品洗浄用洗剤組成物に使用法が提供される。 （もっと読む）

【課題】 酸化膜にダメージを与えることなく、砒素がドープされたレジストが除去可能であり、酸化剤を含有しないレジスト除去用組成物を提供する。
【解決手段】 硫酸及び可溶性ケイ素化合物を含んでなる組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】洗浄液の使用量を少なくしながら、被洗浄物の微細な隙間から窪みまで綺麗に洗浄する。
【解決手段】洗浄方法は、洗浄液Ｗを超音波振動させてミストＭとし、このミストＭを被洗浄物Ｈの表面に供給して被洗浄物Ｈを洗浄する。
洗浄装置は、洗浄液Ｗを超音波振動させてミストＭに霧化する超音波霧化機１と、この超音波霧化機１で霧化されたミストＭを被洗浄物Ｈの表面に供給する供給部５とを備える。超音波霧化機１は、洗浄液Ｗを入れる超音波霧化室４と、この超音波霧化室４の洗浄液Ｗを超音波振動させてミストＭに霧化する超音波振動子２と、超音波振動子２に高周波電力を供給する超音波電源３とを備える。洗浄装置は、超音波霧化機１で霧化されたミストＭを供給部５から被洗浄物Ｈの表面に供給して、被洗浄物Ｈを洗浄する。 （もっと読む）

【課題】被処理基板から均一にパーティクルを高い除去効率で除去することができる基板洗浄方法を提供する。
【解決手段】基板洗浄方法は、洗浄槽内に貯留される洗浄液内に被処理基板を浸漬する工程と、前記洗浄槽内の洗浄液に超音波を発生させる工程と、を備えている。超音波を発生させる工程の少なくとも一期間、洗浄槽内に洗浄液が供給される。前記洗浄槽内に洗浄液を供給しながら洗浄槽内の洗浄液に超音波を発生させている間、洗浄槽内における洗浄液が供給される垂直方向位置は変化する。 （もっと読む）