【課題】従来のような二流体ノズルや高圧ジェットを用いた場合、たとえば、パターン等が形成された基板を洗浄する場合、洗浄液の供給される力によって、基板上に形成されたパターンに損傷が生じる場合があり、一方、損傷を防止するために供給する力を抑制すれば、洗浄を十分に行えないという問題があった。
【解決手段】微細気泡を含む洗浄液を用いて基板の洗浄を行う。洗浄液を供給するノズルの先端を、基板上に形成された液膜の液面より低い位置に配置し、ノズルの先端部分付近（微細気泡発生領域）を洗浄液が通過する際に、洗浄液中に微細気泡が発生するように構成する。 （もっと読む）

【解決手段】 複数の金属部品Ｗを収容した洗浄カゴＢを洗浄液１３内に浸漬させた状態において、対向位置の壁面３Ａ、３Ｂの噴射ノズル２１から同時に洗浄液１３を噴射させると、相互に対向する位置の噴射ノズル２１から噴射された洗浄液１３が洗浄槽３内で衝突し、その衝突位置Ｘに洗浄液１３による乱流が生じる。この状態において、調整手段２２が壁面３Ａの各噴射ノズル２１の噴射圧力を徐々に大きくするとともに、壁面３Ｂの各噴射ノズル２１の噴射圧力を徐々に小さくする。これにより、上記洗浄液１３の衝突位置Ｘが洗浄槽３内で右方へ移動して、洗浄槽３内の洗浄液１３が攪拌される。
【効果】 洗浄カゴＢ内の金属部品Ｗを満遍なく洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】液切処理にかかる時間を短縮できる液切処理装置、液処理装置及び液切処理方法を提供する。
【解決手段】液処理装置１は、キャリア２に液処理を施す液処理部１０と、液処理後のキャリア２が搬送される搬送部２０とを有する。搬送部２０は、搬送レール２１と、液切処理部２２とを有する。液切処理部２２は、回転テーブル２４と、回転テーブル２４上に固定され、搬送レール２１から搬送されるキャリア２を水平状態に保持する回転レール２３と、回転テーブル２４を回転駆動し、回転レール２３に保持されたキャリアを高速回転させる駆動モータとを有する。 （もっと読む）

【課題】蒸着マスクに強固に付着した付着物を、蒸着マスクにダメージを与えるおそれを低減しつつ、効率よく除去する蒸着マスク洗浄装置、蒸着マスク洗浄システムおよび蒸着マスク洗浄方法を提供する。
【解決手段】有機ＥＬデバイスの製造工程に用いられる蒸着マスク１６を洗浄するための蒸着マスク洗浄装置としての電解洗浄装置１３は、蒸着マスク１６を収容する洗浄槽としての電解槽２０と、電解槽２０にアルカリ性の電解液を供給するポンプ２１および貯留槽２２からなる電解液供給部と、洗浄槽内に設けられている陽極電極２３および陰極電極２４の電極と、陽極電極２３および陰極電極２４の電極間に通電する通電部２６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】中心部が非円筒形状となるように巻回された拭き取りシートを、円筒状の巻芯に巻き付け直すことなく容易に収容できるようにした付着物除去装置を提供する。
【解決手段】付着物Ｐの拭き取りに使用された後で巻回された拭き取りシートＳは、収容ユニット２０に収容される。巻回された拭き取りシートＳの中心部には、軸部材２５が挿通されており、拭き取りシートＳが引き出されて回転すると、巻回された拭き取りシートＳの中心部内を軸部材２５が相対的に摺動しながら移動する。 （もっと読む）

【課題】装置の大型化を抑制し基板上の薬液が累積することなく液切りが良好に行える薬液処理装置を提供する。
【解決手段】帯状の基板(1)を長手方向(DR1)に搬送する基板搬送部(51)を備え基板(1)を搬送しつつその上表面(1u)に付着した薬液(LQ)の液切りを行う。基板搬送部(51)は、基板(1)を上下から対向挟持して搬送させる上ローラと下ローラとからなるローラ組を、第１〜第３のローラ組(R3〜R5)として長手方向(AR1)に沿ってその順に有する。上ローラと下ローラとによって基板(1)を挟む挟持位置について、第２のローラ組(R4)の挟持位置(KP4)が第１及び第３のローラ組の挟持位置(KP3,KP5)よりも低い位置にある。 （もっと読む）

【課題】確実な洗浄効果で洗浄時間を短縮、安定させ、撹拌洗浄で発生する泡を抑制し、次工程への取り出しの自動化、節水を図る。
【解決手段】被洗浄物を水の中で撹拌させて洗浄を行う洗浄装置であって、水平な回転軸７を中心とする半円筒面で小さな排水穴１７があけられた底面とする断面がＵ字形状の洗浄槽１には、投入口２、シャッター１５で開閉できる排出口１５と取出口３が設けられている。
回転軸には撹拌板８が、螺旋状に配列させて取り付けられている、洗浄水位の保持に堰の形態のオーバーフロー１３と、洗浄完了後の取り出し時の被洗浄物の排出を補助する放水管１２を備えている。 （もっと読む）

【課題】洗浄効率の向上を図ることにより環境負荷となる洗浄水自体の使用量を低減し、洗浄後の洗浄水の処理に要するコストを低減する。
【解決手段】洗浄水が自由に流入出可能な構造を有すると共に複数の被洗浄体を収容する洗浄用籠、上記洗浄用籠を設置する洗浄槽、上記洗浄用籠を回転させる回転装置、上記洗浄用籠内の上記被洗浄体が集合する受噴射籠面に向けて洗浄水と気体との気液混合物を噴射する少なくとも２個の互いに分散設置されたインゼクター、上記洗浄槽の上方から流出する洗浄済み水を回収すると共に重量差を利用して上記洗浄済み水を汚れ成分と洗浄水とに分離する回収分離槽、上記回収分離槽において分離された上記洗浄水を上記各インゼクターに再供給する洗浄水再供給装置を備え、上記各インゼクターは、洗浄時間の後半では噴射を停止、あるいは弱めるように構成した。 （もっと読む）

【課題】従来の定置洗浄方法を改良して、好適に連続洗濯機内の全体を自動洗浄することができる連続洗濯機の定置洗浄方法を提供する。
【解決手段】各浴槽６に配設され通常の洗濯時の水位よりも高水位に設定されたオーバーフロー管７と、オーバーフロー管から溢れ出た水を貯留する貯水タンク８と、貯水タンクの水を圧送するポンプ１１と、ポンプからの水を噴射すべく外側ハウジング２の内側に配設された噴射ノズル１０とを備え、浴槽内に洗浄液を入れて内側ハウジングを回動若しくは連続して回転することにより浴槽内を洗浄するとともに、噴射ノズルから洗浄液を外側ハウジング内に噴射して浴槽内の自動洗浄を行う。 （もっと読む）

【課題】 基板の表裏両面を均一に処理することが可能な基板処理装置および基板処理方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 処理槽１１にエッチング液を貯留するエッチング液供給工程と、ガラス基板１００を搬送ローラ２１により搬送してエッチング液が貯留された処理槽１１内に進入させる基板搬入工程と、ガラス基板１００の下面からエッチング液を吐出することによりガラス基板１００を搬送ローラ２１より上方で、かつ、処理槽１１に貯留されたエッチング液の液面より下方の位置まで浮上させるエッチング液吐出工程と、エッチング液の吐出を停止してガラス基板１００を搬送ローラ２１と当接する位置まで下降させる基板下降工程と、処理槽２１に貯留されたエッチング液を排出するエッチング液排出工程と、ガラス基板１００を搬送ローラ２１により搬送して処理槽１１より退出させる基板搬出工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】洗浄後の欠陥の発生が極めて少ないフォトマスク関連基板を得られる洗浄方法及び洗浄装置提供することを目的とする。
【解決手段】フォトマスク関連基板の洗浄方法において、少なくとも、前記フォトマスク関連基板の表面の異物をあらかじめ除去する前処理工程と、該前処理工程の後に前記フォトマスク関連基板にＵＶ光を照射するＵＶ照射工程と、該ＵＶ照射工程の後に前記フォトマスク関連基板を湿式で洗浄する湿式洗浄工程とを行うことを特徴とするフォトマスク関連基板の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】洗浄水の使用量を削減及び調整する。
【解決手段】基板洗浄装置Ａは、プリント基板Ｐを収容する洗浄槽１と、圧縮空気を吐出するコンプレッサ１０と、洗浄槽１内に設けら、コンプレッサ１０から吐出された圧縮空気を噴射する予備洗浄ノズル６と、洗浄水を貯留する洗浄水タンクと洗浄槽１内に設けられた噴霧管とを有し、噴霧管の一方の先端が予備洗浄ノズル６の先端に近接するとともに、他方の先端が洗浄水に浸かっている霧発生機構７とを具備し、洗浄水が噴霧管の一方の先端からプリント基板Ｐに噴霧され、予備洗浄ノズル６の先端と、噴霧管の一方の先端との距離及び角度が可変であり、予備洗浄ノズル６から圧縮空気が噴射されると、噴霧管の他方の先端から洗浄水が吸い上げられ、噴霧管の一方の先端から洗浄水がプリント基板Ｐに噴霧される。 （もっと読む）

【課題】複数の部材で構成される複合トレイを洗浄する複合トレイ洗浄装置を低コストで実現する複合トレイ分解／組立ユニットを提供する。
【解決手段】本発明は、載置面を有するトレイ部材６１と仕切部材６２とを少なくとも含む複合トレイ６０を分解洗浄するための複合トレイ洗浄装置１に用いられる複合トレイ分解／組立ユニットに関する。複合トレイ分解／組立ユニットは、搬送面１１に載置された複合トレイ６０を所定の搬送方向Ａに搬送するコンベア１０によって搬送される複合トレイ６０を、トレイ部材６１と仕切部材６２とに分解する分解装置２０と、分解装置２０によって分解されたトレイ部材６１および仕切部材６２を洗浄する洗浄装置３０によって洗浄された仕切部材６２を、トレイ部材６１の載置面側に取り付けて、複合トレイ６０を組み立てる組立装置とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】洗浄液中に溶解しきらずに洗浄液面に浮上した浮遊物による線条材の汚染を低減する。
【解決手段】線条材に付着する付着物を洗浄液によって除去する洗浄ユニットと、該洗浄ユニットの後段に配置され前記線条材に付着した前記洗浄液を除去する乾燥ユニットとを備えた線条材の洗浄乾燥装置であって、前記洗浄ユニットは、前記洗浄液を貯留する洗浄槽と、前記洗浄槽内の洗浄液面を、前記線条材が大気中から前記洗浄液に進入する際に洗浄液面と交差する箇所を含む進入領域と、前記線条材が前記洗浄液から前記大気中に出る際に前記洗浄液面と交差する箇所を含む進出領域とに分離して、前記線条材から除去されて前記進入領域の前記洗浄液面に浮遊する前記付着物が前記進出領域に流れ込むのを阻止する分離阻止体とを備えている。 （もっと読む）

【課題】基板を洗浄する回転ブラシに、汚染粒子が静電吸着されることを防止することができる基板洗浄装置、基板洗浄方法、表示装置の製造装置及び表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板洗浄装置１は、基板９を搬送する搬送機構２と、基板９との摩擦によりマイナスに帯電する材料で形成され、基板９に接触して回転することにより基板９に付着している汚染粒子を除去する回転ブラシ３と、マイナスに帯電している微小気泡を含む洗浄液を回転ブラシ３に向けて供給する第１洗浄液供給部６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ワーク表面にシミやムラ等を形成させずに、ワーク表面の処理液をきれいに洗い落とす。
【解決手段】ワーク１の表面を処理する処理液が蓄えられる処理槽１０と、表面に処理液が付いているワーク１を洗浄する洗浄液が蓄えられる洗浄槽２０と、ワーク１を吊り下げ、処理槽１０の上方と洗浄槽２０の上方との間で移動すると共に、上下方向に移動するクレーン３５を有している移動機構３０と、クレーン３５に設けられ、クレーン３５から吊り下げられているワーク１に対して、洗浄液を噴射するノズル５１と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】飲食物容器が水路の下方に沈下することで搬送が滞ってしまうことがない飲食物容器回収装置を提供すること。
【解決手段】飲食物容器３を水流２２で搬送する水路１４，１５，１６を有する飲食物容器回収装置１３であって、水路１４，１５，１６の水中の上方に向けて流体を噴出する噴出手段２３，２５を有し、水流２２で搬送される飲食物容器３が、水路１４，１５，１６の底方に沈下したような場合に、噴出手段２３，２５から水路１４，１５，１６の水中の上方に向けて流体が噴出されるので、この流体が飲食物容器３に当たることで、飲食物容器３が上方に浮き上がり、水流２２で搬送される飲食物容器３が、水路１４，１５，１６の底方に沈下して搬送が滞ることがあるのを防ぐ。 （もっと読む）

【課題】廃プラスチック類に付着した有機物を、分解し脱臭処理すること。
【解決手段】スラリー槽１０に破砕された廃プラスチック類を入れ、過酸化水素１２と硫酸第１鉄１３と循環水１４を加え、かつ酸性に調整して攪拌する。フェントン洗浄タンク２０は、上下方向に多数の層２０ａ、２０ｂ、２０ｃに分割され、各層を貫いた回転軸２２が攪拌羽根２３ａ、２３ｂ、２３ｃを回転させる。層を隔てる仕切り板２４ａ、２４ｂには連通孔４８が設けられている。フェントン洗浄タンク３０も同様な構成であり、夫々の最下層同士が配管４０で接続されている。配管１８からフェントン洗浄タンク２０の最上層に攪拌された廃プラスチック類が投入され、フェントン洗浄タンク３０の最上層から廃プラスチック類をオーバーフローさせる。 （もっと読む）

【課題】従来よりも省スペース化、省電力化及び低価格を実現する。
【解決手段】基板洗浄乾燥装置Ａは、上部が開口６ａであり、垂直姿勢のプリント基板Ｐを当該開口６ａから収容かつ排出する乾燥槽６と、当該乾燥槽６内のプリント基板Ｐに両面から圧縮空気を噴射する圧縮空気噴射ノズル７と、圧縮空気を発生するコンプレッサ８と、コンプレッサ８から導入された圧縮空気を圧縮空気噴射ノズル７に導入する分岐部１０と、コンプレッサ８と後段の分岐部１０との接続を開閉する開閉弁９と、乾燥槽６内のプリント基板６を両面から加温するヒータ１１と、ヒータ１１に電力を供給する電源１２と、コンプレッサ８、開閉弁９、ヒータ１１及び電源１２を制御する制御部１３とを具備し、圧縮空気噴射ノズル７は、プリント基板Ｐの乾燥槽６への進入方向においてヒータ１１よりも手前に設けられている （もっと読む）