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Fターム[3B201AB14]の内容

Fターム[3B201AB14]に分類される特許

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【課題】カスケード方式の洗浄装置における菌体の繁殖を簡易な手段で防止することができ、被洗浄物の洗浄効率を向上させることができる洗浄装置及び方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板1がローラー2で搬送され、ジェット洗浄ノズル3及び最終リンスノズル4で洗浄される。最終リンスノズル4に純水が供給される。最終リンスノズル4からの洗浄排水がタンク7に流入し、ポンプ9からノズル3に供給される。タンク7内の菌体数が増加した場合、タンク7内の水をオゾン水供給装置12に循環通水し、タンク7内にオゾン水を供給し、殺菌する。 (もっと読む)


【課題】最適の噴射液塗布(洗浄)性能が発揮できるようにする。
【解決手段】互いに離隔配列される二つの支持体と、ボトムシャフト両端部に結合される二つのボトム移送ローラーの外周面に放射状に2以上の整数個のワイヤ両端部が連結されるボトム連結部材とを有する複数のボトム回転移送体と、トップシャフトの両端部に結合されるトップ移送ローラーとを含む複数のトップ回転移送体と、ボトム及びトップ回転移送体のボトム及びトップシャフトを回転させボトム及びトップ回転移送体の間に移送対象体を移送させる駆動手段と、中継シャフト両端部にそれぞれ結合される二つの中継移送ローラーの外周面に放射状に2以上の整数個のワイヤ両端部が連結される中継連結部材とを含む複数の中継回転移送体の中継シャフトを回転させるために駆動手段の動力を中継シャフトに伝達する連動手段とからなる。 (もっと読む)


【課題】 基板の搬送速度を変更した場合においても、基板を均一に処理することが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】 ガラス基板100を水平方向に搬送する搬送ローラ9と、処理液吐出口21が形成され、この処理液吐出口21とガラス基板100の表面との間が処理液の液膜により液密状態となる位置に配置された処理液吐出ノズル2と、処理液保持面31を備え、処理液吐出口21と処理液保持面31との間に処理液の液溜まりを形成可能となる位置に配置された液溜まり保持部材3と、ガラス基板100の表面に供給された処理液がガラス基板100の搬送方向に対して上流側に流出することを防止するためのエアナイフ5と、ガラス基板100の裏面に洗浄液を供給する一対の裏面洗浄部4とを備える。 (もっと読む)


【課題】平流しの基板搬送路上で被処理基板に供給した第1の処理液を分別回収して第2の処理液に置き換える動作を効率よくスムーズに行い、現像斑の発生を抑制する。
【解決手段】被処理基板Gに第1の処理液Dを供給する第1の処理液供給手段9と、前記第1の処理液が液盛りされた前記被処理基板の基板面に対し、所定のガス流を吹き付ける気体供給手段21と、前記被処理基板の基板面に対し前記第2の処理液Sを吐出する第2のリンス手段23と、前記気体供給手段と前記第2のリンス手段との間に設けられ、前記気体供給手段によりガス流が吹き付けられた前記被処理基板の基板面に対し、所定の流速で前記第2の処理液を吐出する第1のリンス手段22と、前記基板搬送路上において、前記第1のリンス手段により供給された第2の処理液によって、基板幅方向に延びる液溜まり部を形成する液溜まり形成手段27とを備える。 (もっと読む)


【課題】 端縁に段差を有する基板を処理する場合であっても、端縁を十分清浄に洗浄処理し、乾燥させることが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】 電子ペーパ製造用基板10は、最初にレジストの剥離処理がなされる。次に、電子ペーパ製造用基板10は、洗浄液噴出ノズル51からその長辺S1に洗浄液が噴出され、その長辺S1を洗浄処理されるとともに、表面および裏面に洗浄液を供給されて洗浄処理され、さらに、洗浄液噴出ノズル52からその短辺S2に洗浄液が噴出され、その短辺S2を洗浄処理される。そして、電子ペーパ製造用基板10はエアナイフ80によりその両面の洗浄液を除去された後、ヒータ部90によりその長辺S1および短辺S2を乾燥処理される。 (もっと読む)


【課題】着脱性やメンテナンス性に優れ、梁型のノズル保持機構が無くても撓まない長尺型の処理液吐出ノズルを提供すること。
【解決手段】この処理液吐出ノズル64に取り付けられるたわみ補正機構74は、ノズルヘッダ管68の第1および第2の中間点PM1,PM2で補強面68aに突出して設けられる第1および第2の中間ジョイント部78,80と、ノズルヘッダ管68の第1および第2の中間ジョイント部78,80の間たとえば長手方向の中心点PCで補強面68aに突出して設けられる中心ジョイント部76と、中心ジョイント部74と第1の中間ジョイント部との間に架け渡される第1の連結棒80と、中心ジョイント部78と第2の中間ジョイント部80との間に架け渡される第2の連結棒84とを有している。 (もっと読む)


【課題】フィルタの濾材内部まで効果的に洗浄し、濾材内部に捕集された異物を押し出す高性能でコンパクトなフィルタ洗浄装置及びフィルタ洗浄方法を提供する。
【解決手段】フィルタ洗浄装置1は、フィルタ2を移送するコンベア3と、コンベア3上においてフィルタ2に洗浄液を噴射する複数の洗浄液噴射ノズル24からなる洗浄液噴射ノズル群4と、コンベア3上において洗浄液噴射ノズル群4の下流側でフィルタ2に高圧ガスのみを噴射する複数の高圧ガス噴射ノズル25からなる高圧ガス噴射ノズル群5と、を備え、フィルタ洗浄方法は、フィルタ2をコンベア3に搭載するステップと、フィルタ2を搬送しながらフィルタ2に洗浄液を噴射するステップと、フィルタ2を搬送しながらフィルタ2に高圧ガスのみを噴射するステップと、を備える。 (もっと読む)


【課題】排気効率およびスペース効率を改善し、液切り乾燥直後の乾いた基板にミストが付着するのを十全に防止する。
【解決手段】上部および下部エアナイフ122U,122Lがそれらの間を通過する基板Gに対してナイフ状の鋭利な高圧エア流を吹き付けることにより、両エアナイフ122U,122Lの上流側の空間に多量のミストが発生する。基板Gの上で発生したミストの大部分は、下流側のFFU136から隙間Kを通って廻ってくる空気および入口118から入ってくる空気と一緒に上部排気口124に吸い込まれる。基板Gの下で発生したミストは、その全部がFFU136から廻ってくる空気および入口118から入ってくる空気と一緒に下部排気口126,128に吸い込まれる。 (もっと読む)


【課題】海水に浸かった瓦礫を再利用可能な品質まで洗浄することができる洗浄装置を提供すること。
【解決手段】周面30をスクリーンで構成し、一端側31の開口を瓦礫投入口3Aとし、他端側32の開口を瓦礫排出口3Bとした筒状の回転筒体3を、回転駆動手段35によって回転可能に、かつ、回転筒体3の一端側31から他端側32に向けて下り傾斜となるように設置し、回転筒体3の他端側32の内部に洗浄水供給源Pから供給される洗浄水を供給する第1洗浄水供給手段33と、回転筒体の他端側の下方に回転筒体3から排出された洗浄水を回収する第1排水槽T1と、回転筒体の一端側の内部に第1排水槽T1から供給される洗浄水を供給する第2洗浄水供給手段34と、回転筒体3の一端側31の下方に回転筒体3から排出された洗浄水を回収する第2排水槽T2とを配設する。 (もっと読む)


【課題】 端縁に段差を有する基板を処理する場合であっても、端縁を十分清浄に洗浄処理することが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】 電子ペーパ製造用基板10は、第1、第2の剥離部35、36に搬送され、レジストの剥離処理がなされる。次に、電子ペーパ製造用基板10は、洗浄液噴出ノズル51からその長辺に洗浄液が噴出され、その長辺を洗浄処理されるとともに、第1洗浄部37において表面および裏面に洗浄液を供給されて洗浄処理される。次に、電子ペーパ製造用基板10は、第1洗浄部37から第2洗浄部38、第3洗浄部39および第4洗浄部40に順次搬送され、それらの洗浄部において表面および裏面に洗浄液を供給されて洗浄処理される。このとき、第2洗浄部38においては、洗浄液噴出ノズル52からその短辺に洗浄液が噴出され、その短辺を洗浄処理される。 (もっと読む)


【課題】 多量の処理液を消費することなく基板の表面全域に有効に処理液を供給することが可能であり、さらに、処理液を回収して再利用することが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】 各塗布ユニット1a、1bは、複数の搬送ローラ9により搬送されるガラス基板100の表面に処理液を供給するための第1処理液吐出ノズル2と、この第1処理液吐出ノズル2との間に処理液の液溜まりを形成するとともに、複数の搬送ローラ9により搬送されるガラス基板100の裏面に処理液を供給するための第2処理液吐出ノズル4とを備える。搬送ローラ9により搬送されるガラス基板100に対し、このような構成を有する2個の塗布ユニット1a、1bの作用により、その表面および裏面への処理液の塗布が、繰り返し実行される。 (もっと読む)


【課題】インゴットをスライスして形成されるウエハを1枚ずつ分離して、ウエハの表裏面を容易かつ均一に洗浄可能にするウエハの分離装置の提供。
【解決手段】支持台Cに接着剤により貼着されたインゴットが支持台Cの一部まで含めて短冊状にスライスされて形成されたウエハWを、当該ウエハWが支持台Cにぶら下げられた状態で保持するホルダ20と、ウエハWを1枚ずつ吸着して、支持台Cの部分で分離するための分離ハンド22とを含む分離装置2である。 (もっと読む)


【課題】ディスク駆動装置の清浄度を向上し、磁気ヘッドがトレースするときの磁気ヘッドと記録ディスクとの隙間を小さくした場合にTA障害の発生率を低く保つことのできる技術を提供する。
【解決手段】ディスク駆動装置の製造方法において、組立工程では、クリーンルーム内で固定体に軸受ユニットと軸受ユニットによって固定体に対して回転自在に支持される回転体とを組み付けてサブアセンブリを組み立てる。洗浄工程では、サブアセンブリの固定体と回転体の少なくとも一方に洗浄液と第1気体との混合物を吹付けて洗浄する。密封工程では、サブアセンブリを密封部材により密封する。 (もっと読む)


【課題】ハニカム構造体封口用マスクを良好に洗浄することが可能な洗浄方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る洗浄方法は、上面1aから下面1bにかけて厚さ方向D1に貫通している複数の貫通孔5を有するマスク1の洗浄方法であって、マスク1がホイールコンベア7により厚さ方向D1に挟持された状態で、厚さ方向D1に直交する搬送方向D2にマスク1をホイールコンベア7により搬送する搬送工程と、搬送されるマスク1の上面1a又は下面1bの少なくとも一方に対し洗浄液又は風を供給する洗浄工程と、を備え、ホイールコンベア7が、マスク1の搬送方向D2に沿って千鳥状に配列された複数の一対のホイール7a,7bを有している。 (もっと読む)


【課題】ハニカム構造体封口用マスクを良好に洗浄することが可能な洗浄方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る洗浄方法は、上面1aから下面1bにかけて厚さ方向D1に貫通している複数の貫通孔5を有するマスク1の洗浄方法であって、マスク1を厚さ方向D1に直交する搬送方向D2に搬送する工程と、搬送されるマスク1の上面1a及び下面1bに対し、厚さ方向D1に対して搬送方向D2の上流側に傾斜する方向D6に洗浄液34を供給する洗浄工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】ハニカム構造体封口用マスクを良好に洗浄することが可能な洗浄方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る洗浄方法は、上面1aから下面1bにかけて厚さ方向D1に貫通している複数の貫通孔5を有するマスク1の洗浄方法であって、マスク1を厚さ方向D1に直交する搬送方向D2に搬送する工程と、搬送されるマスク1の洗浄面3(上面1a及び下面1b)に洗浄液14が供給された状態で、洗浄面3と平行かつ搬送方向D2と交差する方向D3に延びる軸回りに回転するローラブラシ12a,12bのブラシ12cを洗浄面3に接触させる洗浄工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】乾式洗浄と湿式洗浄とを選択的に実施できる基板処理設備及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】本発明による基板処理設備は、基板が載せられた容器が置かれるポート1100及びインデックスロボット1200を有するインデックス部1000と、基板処理を遂行する処理部200と、処理部200とインデックス部1000との間に配置されてこれらの間に搬送される基板が一時的に留まるバッファユニット4000と、を含み、処理部200は、基板を搬送するための移送路に沿って配置されるグルー除去用処理モジュール、基板冷却処理モジュール、加熱処理モジュール、及び機能水処理モジュールを含む。 (もっと読む)


【課題】ジェット洗浄だけを行う洗浄モードと浸漬洗浄とジェット洗浄の双方を行う洗浄モードとを切り換え可能にする。
【解決手段】搬送コンベヤ18によって被洗浄物Fを搬送する搬送経路に浸漬洗浄部8と噴射洗浄部10が設けられている。浸漬洗浄部8には被洗浄物Fを浸漬する浸漬槽24とサブタンク26が配置されている。浸漬槽24内の洗浄液とサブタンク26内の洗浄液は互いに移送可能になっており、浸漬洗浄を行う洗浄モード時には、サブタンク26内の洗浄液を浸漬槽24に移送して、搬送コンベヤ18上の被洗浄物Fが洗浄液中を通過するように浸漬槽24の水位を高くし、浸漬洗浄をしない洗浄モードでは、浸漬槽24内の洗浄液をサブタンク26に移して、浸漬槽24の水位を低くし、搬送コンベヤ18により搬送される被洗浄物Fが洗浄液中を通らないようにする。 (もっと読む)


【課題】薬液の消費量を抑えながら、基板の処理を均一に行う。
【解決手段】基板1を移動しながら、薬液2が入った薬液タンク23から、可変出力ポンプ25及び制御弁80が設けられた配管24を介して、薬液ノズル21へ薬液2を供給し、薬液ノズル21から基板1へ薬液2を吐出する。薬液ノズル21から基板1へ吐出した薬液2を回収して薬液タンク23へ戻し、薬液タンク23から薬液ノズル21へ供給する薬液2の濃度を検出し、薬液2の濃度の検出結果に応じ、可変出力ポンプ25を制御し又は制御弁80を作動させて、薬液タンク23から配管24を介して薬液ノズル21へ供給する薬液2の量を変更する。 (もっと読む)


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