【課題】切削加工後のワークを傷付けずに、ワーク表面の付着物を効果的に除去して、洗浄品質を向上させる。
【解決手段】ノズル４１に接続した給水管４５には、純水中にマイクロナノバブルＢを発生させるマイクロナノバブル発生器４９が接続され、ノズル４１の先端はワークＷの被洗浄部近傍に配置されている。ノズル４１の吐出口部には圧力維持バルブ５１が設けられ、マイクロナノバブル発生器４９で生成した加圧過飽和状態のマイクロナノバブルＢを含む洗浄水Ｃが、洗浄中にノズル４１から吐出して、ワークＷの被洗浄部に至近距離から供給する。 （もっと読む）

【課題】カスケード方式の洗浄装置における菌体の繁殖を簡易な手段で防止することができ、被洗浄物の洗浄効率を向上させることができる洗浄装置及び方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板１がローラー２で搬送され、ジェット洗浄ノズル３及び最終リンスノズル４で洗浄される。最終リンスノズル４に純水が供給される。最終リンスノズル４からの洗浄排水がタンク７に流入し、ポンプ９からノズル３に供給される。タンク７内の菌体数が増加した場合、タンク７内の水をオゾン水供給装置１２に循環通水し、タンク７内にオゾン水を供給し、殺菌する。 （もっと読む）

【課題】 脱水カゴの回転駆動装置が不要になり、構造をコンパクトにさせると共に取り扱いを簡単にさせながら脱水カゴを万遍なく均一にきれいに水洗でき、かつ水洗に伴う水の飛散を防止して良好な作業環境下で水洗作業を行うことができるようにした脱水カゴの水洗技術の提供。
【解決手段】 上面が開口し、周壁１０及び底壁１１に多数の水切小孔１２が形成された円形の脱水カゴ１を水洗対象とし、洗浄空間Ｓに回転自在に設けた水平テーブル５上に伏せ状態にセットした脱水カゴの外周面に対して水を噴射して水洗させる周面向き噴射ノズル６０と、底外面に対して水を噴射させて水洗させる底面向き噴射ノズル６１を備え、周面向き噴射ノズル及び／又は底面向き噴射ノズルからの噴射水の勢いにより脱水カゴを回転させながら水洗させる。 （もっと読む）

【課題】精密工作機械の切削加工による加工部品に付着した切り粉及び切削油を水中洗浄ならびに空中洗浄で除去する切削加工部品洗浄装置を提供する。
【解決手段】精密工作機械の切削加工により加工部品に付着した切り粉及び切削油を水中洗浄ならびに空中洗浄で除去する切削加工部品洗浄装置１０であって、前記被洗浄物にエアーブローを施す空圧除去領域部３０と、前記被洗浄物を水中で洗浄する水中洗浄領域部と、前記空圧除去領域部と前記水中洗浄領域部４０の間を上下に移動する昇降領域部５０と、該昇降領域部及び前記空圧除去領域部３０を制御する制御領域部７０とを、其々本体領域部に配設した構成から成る手段を採る。 （もっと読む）

【課題】 基板の搬送速度を変更した場合においても、基板を均一に処理することが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】 ガラス基板１００を水平方向に搬送する搬送ローラ９と、処理液吐出口２１が形成され、この処理液吐出口２１とガラス基板１００の表面との間が処理液の液膜により液密状態となる位置に配置された処理液吐出ノズル２と、処理液保持面３１を備え、処理液吐出口２１と処理液保持面３１との間に処理液の液溜まりを形成可能となる位置に配置された液溜まり保持部材３と、ガラス基板１００の表面に供給された処理液がガラス基板１００の搬送方向に対して上流側に流出することを防止するためのエアナイフ５と、ガラス基板１００の裏面に洗浄液を供給する一対の裏面洗浄部４とを備える。 （もっと読む）

【課題】エレメント繊維の劣化・損耗を抑制しつつ電磁フィルタに付着した鉄酸化物を取り除くことができ、且つ、洗浄処理に要する期間を短縮できる洗浄方法及び洗浄装置、並びにそれに用いる洗浄液を提供することを目的とする。
【解決手段】金属製フィルタの洗浄方法は、鉄酸化物に対して還元性を有し、且つ、鉄と錯体形成が可能な１種以上の化合物を主成分とする、ｐＨが５．０以上８．０以下に調整された除錆剤と、還元剤と、腐食防止剤とを、化合物が３質量％以上１０質量％以下、還元剤が化合物に対して５質量％以上１５質量％以下、腐食防止剤が化合物に対して５質量％以上１５質量％以下、となるよう水に溶解させて洗浄液１６を調製する準備工程と、洗浄液１６に、被洗浄対象物を浸漬させて洗浄処理する洗浄工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】洗浄用流体が塗装ガン及びロボットアーム等に飛び散ることなく、洗浄することができる塗装ガンの洗浄技術を提供することを課題とする。
【解決手段】閉塞手段５１は、環状の弾性部材であり、開口部４８に設けられ開口部４８の中心に向かって延びる閉塞本体部５２と、この閉塞本体部５２の中央に設けられ塗装ガン２０が挿入できる塗装ガン挿入口５３と、閉塞本体部５２の下面５４に設けられ塗装ガン挿入口５３から洗浄容器４１の壁４２に向かって下方に傾斜する傾斜面５５と、閉塞本体部５２の上面５６に設けられ湾曲溝状にえぐられている湾曲溝５７と、閉塞本体部５２の外径側に設けられ段を為すこどとで開口部４８に嵌る取付部５８と、からなる。
【効果】洗浄用流体が塗装ガン及びロボットアーム等に飛び散ることなく、塗装ガンを洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】蒸気タービンやガスタービン本体あるいはガスタービン圧縮機のロータを分解せずに洗浄することにより、ロータの表面に付着した錆スケール、動翼にできた孔食や微小き裂内の錆、腐食性物質を取り除く。
【解決手段】タービンロータ１、３０の超音波洗浄方法において、ロータ植込部２ａに動翼３を植設した状態のタービンロータ１、３０を洗浄槽４Ａ，４Ｂ内で一部または全体を洗浄溶液５に浸け、タービンロータ１、３０を回転駆動モータ１０により連続回転駆動または間欠回転駆動させ、洗浄槽４Ａ、４Ｂ内の超音波振動子装置６に外部に設置した超音波発信器９から電力を供給して超音波振動させ、洗浄溶液にキャビテーションを発生させる。 （もっと読む）

【課題】洗浄装置において、被洗浄物の表面に洗浄液を噴射して洗浄を行う場合に、被洗浄物の表面からの飛散物が種々の方向に飛散する場合でも再付着を防止することができるようにする。
【解決手段】洗浄装置１は、レンズ１５を保持して回転させる回転保持部２と、回転保持部２に保持されたレンズ１５上のスポット状の洗浄領域に洗浄液Ｌを噴射する洗浄液噴射部７と、洗浄領域の周囲を、回転中心に対する洗浄領域の相対移動方向における後方側から覆うように凸レンズ面１５ａに入射する層状気流１７を形成する圧縮空気噴射部８と、回転保持部２および洗浄液噴射部７の少なくとも一方を移動させて、洗浄領域をレンズ１５の回転中心から外周側に向かって相対移動させるとともに層状気流１７の入射位置を洗浄領域の相対移動に追従して相対移動させる昇降ステージ６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】設備コストおよびエネルギーコストの面で優れた、むらなく浸漬処理を施すことが可能な線材コイルの浸漬処理装置を提供する。
【解決手段】線材コイル２をつり下げるためのフック１と処理液４で満たされた処理槽３とで構成される線材コイルの浸漬処理装置であって、フック１が、線材コイル２をフック１から分離させる一つ以上の分離用部材５を有し、フック１を処理槽３内に下降させることにより線材コイル２を処理液４に浸漬する線材コイルの浸漬処理装置。 （もっと読む）

【課題】被洗浄基板へのダメージの発生を抑えることができ、また、エレクトロニクス産業等で使用される高精密度の基板等に対して高清浄度の洗浄を行うことが可能な超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法を提供すること。
【解決手段】被洗浄物を超音波振動子の振動面から延びた垂線の液面までの成す領域（超音波照射領域）外の洗浄液の液面下の近傍に位置するように保持して、超音波によって洗浄液の表面に表面張力波を励起させ、被洗浄物に超音波を直接照射することなしに、表面張力波による音圧によって被洗浄物の微粒子汚染物を剥離するようにして、被洗浄基板へのダメージの発生を抑える。 （もっと読む）

【課題】基板の主面への処理液の飛散を抑制しつつ基板の端面を局所的に処理できる技術を提供する。
【解決手段】基板処理装置１００は、硬脆性基板の一種であるガラス基板（基板９０）の側端面９１Ｓをエッチングする。基板処理装置１００は、その外周面が基板９０の側端面９１に当接される当接面を形成するスポンジ体２１３（当接部材）と、スポンジ体２１３を回転させるスポンジ体回転駆動部２４０（回転駆動部）と、スポンジ体２１３に処理液を供給する処理液供給管２５１（処理液供給部）とを備える。搬送ローラー３１により＋ｙ方向に搬送される基板９０の側端面９１Ｓに対して、ｚ軸回りに回転するスポンジ体２１３の外周面が押し当てられることにより、基板９０の側端面９１Ｓのエッチングが行われる。 （もっと読む）

【課題】液処理の工程に応じて基板の上方における気流の状態を最適化可能な液処理装置、および液処理方法を提供すること。
【解決手段】基板Ｗを液処理する液処理装置１において、基板Ｗを水平に支持し、回転可能な支持部材１０と、支持部材１０の外周部１３との間に環状間隙ＧＰを形成する間隙形成部材２０と、基板Ｗに上方から処理液を供給する液供給部材３０と、環状間隙ＧＰを取り囲み、環状間隙ＧＰを介して、回転する基板Ｗから振り切られる処理液を回収するカップ４０と、間隙形成部材２０を昇降させる昇降機構１２２とを有する。 （もっと読む）

【課題】 マスクブランク用基板の洗浄時に、ガラス基板内部に潜傷が発生することを抑制でき、しかも基板主表面に存在するパーティクルを確実に排除できるマスクブランク用基板等の基板の洗浄方法を提供する。
【解決手段】 液体中に配置された基板の少なくとも一つの表面に向かって、気泡又は洗浄用粒子を含む加圧した洗浄液体を噴射ノズルから噴射し、前記基板の少なくとも一つの表面を洗浄することを含むことを特徴とする、基板の洗浄方法である。 （もっと読む）

【課題】洗浄処理において、基板への不必要なダメージや回路パターン倒れを防ぎつつ、特定箇所の異物を除去できる洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】洗浄処理に用いるための処理流体を基板５に噴出する処理流体ノズル７と、基板５から処理流体を回収する回収装置８とを具備している。基板５を処理流体ノズル７からの処理流体により局所的に洗浄処理することができるため、基板５に対して不必要なダメージ、回路パターン倒れを防ぎつつ、特定箇所の異物を除去できる。 （もっと読む）

【課題】微小気泡の安定供給を実現する。
【解決手段】送液装置１は、微小気泡を含む液体が流れる配管３と、その配管３の途中に設けられ、配管３内を流れる液体に旋回運動を与えて配管３内に旋回流を発生させる旋回流発生部８とを備える。これにより、前述の旋回流が配管３内に発生するため、液体中の微小気泡が配管３の内周面に付着することが抑止されるので、微小気泡の安定供給を実現することができる。 （もっと読む）

【課題】金属膜が形成された基板においてパターンの倒壊を抑制すること。
【解決手段】水を含むリンス液が、金属膜が形成された基板に供給される（Ｓ２）。その後、水酸基を含まない第１溶剤が、基板に供給されることにより、基板に保持されている液体が第１溶剤に置換される（Ｓ４、Ｓ５）。その後、水酸基を含まない第２溶剤を含み金属を疎水化する疎水化剤が、基板に供給されることにより、基板に保持されている液体が疎水化剤に置換される（Ｓ６）。 （もっと読む）

【課題】洗浄水の使用量を削減及び調整する。
【解決手段】基板洗浄装置Ａは、プリント基板Ｐを収容する洗浄槽１と、圧縮空気を吐出するコンプレッサ１０と、洗浄槽１内に設けら、コンプレッサ１０から吐出された圧縮空気を噴射する予備洗浄ノズル６と、洗浄水を貯留する洗浄水タンクと洗浄槽１内に設けられた噴霧管とを有し、噴霧管の一方の先端が予備洗浄ノズル６の先端に近接するとともに、他方の先端が洗浄水に浸かっている霧発生機構７とを具備し、洗浄水が噴霧管の一方の先端からプリント基板Ｐに噴霧され、予備洗浄ノズル６の先端と、噴霧管の一方の先端との距離及び角度が可変であり、予備洗浄ノズル６から圧縮空気が噴射されると、噴霧管の他方の先端から洗浄水が吸い上げられ、噴霧管の一方の先端から洗浄水がプリント基板Ｐに噴霧される。 （もっと読む）