【課題】装置の大型化を招くことなくパーティクルやミストの再付着を抑制するフォトマスクの洗浄装置を提供する。
【解決手段】処理槽１２の内側において、壁部２１の周方向に複数の第一案内翼２４を設ける。この第一案内翼２４は、その上端と下端とを周方向にずらしつつ、中央部を周方向に湾曲した曲面状に形成する。これにより、フォトマスク１９の洗浄時に供給され、フォトマスク１９の回転により壁部２１方向に移動したクリーンエアおよび処理液を、第一案内翼２４により下方に導く。また、第一案内翼２４の下方において、壁部２１の周方向に複数の第二案内翼２５を設ける。第二案内翼２５は、第一案内翼２４により導かれたクリーンエアを、処理槽１２の底部２２に接続さている排出管部１５に導く。これにより、パーティクルやミストなどを含むクリーンエアを処理槽１２から排出する。 （もっと読む）

【課題】複数個の伸線用のダイスをダイス保持部の回転部材の外周部分の複数個の保持部に環状に配列保持し、回転部材の傾斜回転及び割出回転により複数個のダイスを順次、超音波ホーンに対向して超音波洗浄することができ、超音波ホーンによりダイスの表面や極細孔径のダイス孔の内面に付着している伸線加工により生じた粉状屑等の汚染物質を良好に洗浄することができる。
【解決手段】ダイス保持部１は外周部分に複数個のダイスＤを環状に配列可能な複数個の保持部４ａをもつ回転部材４、回転部材の外周部分に配列された複数個のダイスが洗浄液Ｍ中に没入又は洗浄液中から露出するように回転部材を傾斜位置で傾斜回転自在に支持する支持機構５及び回転部材を割出回転可能な割出回転機構６からなる。 （もっと読む）

【課題】基板に付着するリンス液に起因する基板の処理不良を防止することができる基板洗浄方法および基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗが回転するとともに、気液供給ノズル４５３の液体ノズル４５３ａが回転する基板Ｗの中心部ＷＣの上方の位置まで移動する。この状態で、液体ノズル４５３ａから回転する基板Ｗにリンス液が吐出される。気液供給ノズル４５３が基板Ｗの外方位置に向かって移動する。ガスノズル４５３ｂが回転する基板Ｗの中心部ＷＣの上方位置に到達することにより、気液供給ノズル４５３が一時的に停止する。気液供給ノズル４５３が停止した状態で、回転する基板Ｗ上の中心部ＷＣに一定時間不活性ガスが吐出される。その後、気液供給ノズル４５３が再び基板Ｗの外方位置に向かって移動する。 （もっと読む）

【課題】基板表面に形成されたパターンへのダメージを抑制しながら基板表面を良好に洗浄処理することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】 基板保持手段１１に保持され、洗浄液としてのＤＩＷの液膜が形成された基板Ｗの表面Ｗｆに対し、媒介液供給機構５５から媒介液としてのトルエンを供給し、ＤＩＷの液膜の上にトルエンの液膜を更に形成する。その後、超音波付与機構５１によりトルエンを介してＤＩＷに超音波を付与しながら、凝固手段３１から基板表面Ｗｆに凍結用の窒素ガスを吐出し、ＤＩＷを凝固させる。これにより、結晶サイズの小さいＤＩＷの凝固体を形成し、その後のリンス工程で短時間に解凍することを可能とし、リンス液中に遊離するＤＩＷの結晶を減少し、パターンへのダメージを防止する。 （もっと読む）

【課題】洗浄対象となる基板近傍にて光触媒反応を利用してＯＨラジカルを潤沢に発生させることによって、基板上に付着した有機物等のパーティクルを効果的に除去することのできる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】処理対象である基板Ｗ上の被処理面Ｗ１を洗浄する第１のノズル１１と、被処理面Ｗ１上に液を供給する第２のノズル１２と、を備え、第１のノズル１１は、被処理面Ｗ１に対向し液に接触する光触媒１１ａと、光触媒１１ａを保持する保持部材１１ｂと、保持部材１１ｂを透過して光触媒１１ａに光を照射する光源１１ｃとを備える。 （もっと読む）

【課題】水分濃度が低い有機溶媒を処理部又は被処理体に供給して処理を行うことにより、被処理体や処理部の腐食を抑えること。
【解決手段】イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）の供給源３０からＩＰＡを貯留タンク３に供給し、貯留タンク３内のＩＰＡを、水分除去フィルタ４及び濃度測定部５を備えた循環路３２を介して循環供給する。ＩＰＡは、循環路３２内を循環させることにより、水分除去フィルタ４により徐々に水分が除去される。そして、濃度測定部５により測定された水分濃度が０．０１重量％以下であるときには、中間タンク６にＩＰＡを送液する。中間タンク６からは、処理チャンバ１１に水分濃度が０．０１重量％以下のＩＰＡが供給され、処理チャンバ１１では、当該ＩＰＡを高温、高圧状態として、ウエハＷの処理が行われる。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物を超音波洗浄した後の洗浄ムラの発生を抑制できる超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法を提供する。
【解決手段】本発明の一態様は、洗浄液２３が入れられる洗浄槽２１と、前記洗浄槽内の洗浄液に浸漬された被洗浄物２２に超音波振動を与える第１及び第２の超音波振動子３４ａ，３４ｂと、前記第１の超音波振動子に高周波出力を印加する第１の超音波発振器３６と、前記第２の超音波振動子に高周波出力を印加する第２の超音波発振器３７と、前記第１及び第２の超音波発振器の少なくとも一方の出力を変動させて制御するコントローラ３８と、を具備し、前記第１の超音波振動子から発振された第１の超音波を、前記第２の超音波振動子から発振された第２の超音波に干渉させることを特徴とする超音波洗浄装置である。 （もっと読む）

【課題】省スペース化を図ることができ、以って作業者単独によるワーク搬入出作業を軽減することの可能な洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄槽と、洗浄前のワークを収容するワーク搬送治具を略垂直姿勢で滞留させる入口バッファと、洗浄後のワークを収容するワーク搬送治具を略垂直姿勢で滞留させる出口バッファと、前記ワーク搬送治具を略垂直姿勢で入口バッファから洗浄槽へ搬送し、洗浄後に洗浄槽から出口バッファへ搬送する搬送装置とを具備する洗浄装置を提供する。 （もっと読む）

本発明は、圧電素子の中心部で音圧が集中することなく広い面積に渡って均一な音圧が発生するようにし、被洗浄物に損傷を与えずに洗浄効率を高めることができる超音波精密洗浄装置に関する。本発明の超音波精密洗浄装置は、被洗浄物に洗浄液を供給する洗浄液供給装置と、セラミック体およびセラミック体の上部および下部にそれぞれ蒸着した上部電極、下部電極を備えて超音波を発生させる圧電素子と、圧電素子の端部に結合して被洗浄物と対向するように備えられ、圧電素子で発生する超音波を被洗浄物に伝達する超音波伝達体と、ハウジングと、電源線と、を含む超音波洗浄装置であって、圧電素子または超音波伝達体の中心には垂直ホールが形成される。
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【課題】ワークの下面をスプレー洗浄する際のワークの浮き上がりを防止することができる洗浄方法を提供する。
【解決手段】洗浄方法は、ワーク10の上側及び下側にそれぞれ配置された上スプレーノズル２及び下スプレーノズル４から上洗浄液３及び下洗浄液５をそれぞれ噴射した状態で、ワーク10を上下両ノズル2,4に対して相対的に水平方向に移動させることにより、ワーク10の上面10a及び外周面10bのうち少なくとも上面10aを上洗浄液３で洗浄するとともに、ワーク10の下面10cを下洗浄液５で洗浄する洗浄工程を含む。洗浄工程では、上ノズル２及び下ノズル４からそれぞれ上洗浄液３及び下洗浄液５を、下洗浄液５がワーク10の下面10cに当たるときは上洗浄液３が必ずワーク10の上面10a及び外周面10cからなる領域の少なくとも一部に当たるように噴射する。 （もっと読む）

【課題】洗浄用保持冶具及び洗浄方法において、被洗浄体に傷がつくのを抑えると共に洗浄用保持冶具内の液残りを防ぐ。
【解決手段】洗浄用保持冶具は、被洗浄体（１００）の少なくとも一部を収容する収容部１１と、この収容部１１に開口する流路（１２）と、を備え、収容部１１は、この収容部１１の周方向に亘って被洗浄体（１００）に線接触又は面接触により接触し、流路（１２）は、収容部１１の被洗浄体（１００）との接触部分を挟んだ２つの空間Ｓ１，Ｓ２を連結する。 （もっと読む）

【課題】 外装体と洗浄治具本体の間に水晶素板が入り込み、水晶素板が破損してしまうことを低減し、洗浄での歩留まりを向上させることができる洗浄治具を提供する。
【解決手段】 本発明の洗浄装置は、洗浄治具を搬送するための搬送手段と、洗浄ノズル手段の内部流路と接続する複数の洗浄ノズル部と、洗浄ノズル手段が接続された噴出手段と、純水が蓄えられている純水槽と、純水槽から前記噴出手段へ純水を送る高圧ポンプ手段と、を備え、洗浄ノズル手段が円筒形の洗浄ノズル部とこの洗浄ノズル部とつながる内部流路とを備え、洗浄ノズル部が、前記搬送手段と平行となる平行線に対して、３０度〜６０度の角度で傾斜して円筒形の洗浄ノズル部の円筒の中心線が設けられていることを特徴とすることを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】水量不足にならず、かつ無駄な水をなくすことを目的とする。
【解決手段】洗浄装置は、給水手段による給水時に、第１の水位計の測定結果に基づいて第１の洗浄水タンク内の水位が所定水位より低いと認識した場合に、第２の水位計に基づいて第２の洗浄水タンクが満杯になったと認識しても、第１の洗浄水タンクの水位が所定水位より高くなる所定水量をさらに給水手段に給水させる制御手段を具備する。 （もっと読む）

【課題】ロボットを含めた装置全体を防水室内に収める必要がなく、且つ、ロボット自体を高度の防塵防水仕様とする必要がないため、これら防水手段配備のための手間及びコストを削減できる機械部品のシャワー洗浄装置を提供することを課題する。
【解決手段】洗浄槽１が、互いに反対方向に移動してその上面開口を開閉する一対のシャッター７、８から成る飛散防止カバーを備え、前記飛散防止カバーは、洗浄するワークをクランプしたロボットハンド８１が洗浄槽１内に進入した際に、ロボットハンド８１を抱持するようにして閉じ、ロボットハンド８１が横方向に移動する際には、その閉じた状態においてシャッター７、８が一体となって、ロボットハンド８１の横方向の動きに追随して移動可能にされる。 （もっと読む）

【課題】基板上の不要物を良好に除去することができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】バキュームチャック１１の上方には、ほぼ円錐形状の遮断板１２が配置されている。遮断板１２の下面１２１には、それぞれエッチング液、純水および窒素ガスを吐出する開口１２２ａ，１２２ｂ，１２２ｃが形成されている。エッチング液、純水および窒素ガスは、ウエハＷの回転半径外方に向かうにつれてウエハＷに近づくように傾斜した方向に吐出されて、それぞれウエハＷの表面のエッチング液供給位置Ｐｅ、純水供給位置Ｐｄおよび窒素ガス供給位置Ｐｎに供給される。 （もっと読む）

【課題】洗浄槽の上部からの洗浄液の漏れを抑制あるいは防止する。
【解決手段】略垂直姿勢の基板Ｗを上方から洗浄槽１内に収容し、略水平方向に延在する管状部材２ａ1〜２ａ３，２ａ４〜２ａ６から基板Ｗの両面に洗浄液を噴射して洗浄する基板洗浄装置であって、前記管状部材２ａ1〜２ａ３，２ａ４〜２ａ６の端部側に形成される通気路に遮蔽板Ｄ３，Ｄ６を配設する。 （もっと読む）

【課題】壜を苛性溶液で洗浄した後の濯ぎ用の洗浄水の使用量を削減すると共に、濯ぎ洗浄工程を短縮する。
【解決手段】筐体３内を循環する無端チェン４に取り付けられ、複数の壜Ｂを保持して搬送するキャリア４ａと、筺体３内に設けられ、キャリアによって搬送される壜を浸漬させて洗浄する高温苛性浸漬槽７と、高温苛性浸漬槽の下流側で、高温苛性により洗浄された壜を予備濯ぎするとともに高温の壜を適宜の温度に冷却する温水浸漬槽８と、温水浸漬槽の下流側で、予備濯ぎされた壜を清水で濯ぎ洗浄する濯ぎ洗浄部９と、温水浸漬槽８内の槽水を中和するための酸供給装置３０と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】シャワー洗浄を行ってもフレームからメタルメッシュが剥れるのを防ぐことができるメタルマスク洗浄方法及び洗浄治具を提供する。
【解決手段】メタルメッシュと、メタルメッシュの外周部に接着剤で接着されたフレームとを有するメタルマスク１０を洗浄する際に、まず、メタルメッシュとフレームの接着部を上部カバー３６及び下部カバー３４で密閉し、上部カバー３６及び下部カバー３４を固定治具３８で挟んで固定する。次に、接着部が上部カバー３６及び下部カバー３４で密閉された状態で、接着剤を溶かす洗浄溶剤を用いてメタルマスクを浸漬洗浄又はシャワー洗浄する。 （もっと読む）

【課題】超音波洗浄で問題となっていた洗浄ムラを解消し、パーティクル除去を効果的に行うことのできる超音波洗浄方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、洗浄槽中の洗浄液に被洗浄物を浸漬し、超音波振動子から発生する超音波を伝播槽中の伝播水を介して前記洗浄液に伝播させて前記被洗浄物を洗浄する超音波洗浄方法であって、前記伝播水として、脱気した純水に、溶存ガスを飽和濃度に対して３５〜７０％の濃度で溶解させたものを用いることを特徴とする超音波洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】薄板部材を破損させることなく効率良く薄板部材を洗浄することを可能とする薄板部材洗浄装置を提供する。
【解決手段】薄板部材洗浄装置１０００は、蓋部材１１０１と、この蓋部材１１０１により一方端側に設けられた開口部が閉ざされ、内部に水道水１３００が蓄えられる細長い円筒形状容器１１０２とを含む洗浄容器１１００と、この洗浄容器１１００内に収容され、洗浄容器１１００内を移動することで水道水１３００によりその表面が洗浄されるメッシュ部材１６０を保持する薄板部材固定部材１２００とを備えている。 （もっと読む）