【課題】薄板部材を破損させることなく効率良く薄板部材を洗浄することを可能とする薄板部材洗浄装置を提供する。
【解決手段】薄板部材洗浄装置１０００は、蓋部材１１０１と、この蓋部材１１０１により一方端側に設けられた開口部が閉ざされ、内部に水道水１３００が蓄えられる細長い円筒形状容器１１０２とを含む洗浄容器１１００と、この洗浄容器１１００内に収容され、洗浄容器１１００内を移動することで水道水１３００によりその表面が洗浄されるメッシュ部材１６０を保持する薄板部材固定部材１２００とを備えている。 （もっと読む）

【課題】被処理体の全域を均一に超音波洗浄することができる超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】本発明による超音波洗浄装置１は、洗浄液を貯留する洗浄槽１０と、洗浄槽１０内に挿入可能に設けられ、被処理体Ｗを保持して洗浄液に浸漬させる被処理体保持装置２０と、洗浄槽１０の底部に設けられた振動子４０と、振動子４０に超音波振動を生じさせる超音波発振装置４２とを備えている。洗浄槽１０内には、被処理体Ｗを保持する側部保持部材５０が設けられている。また、被処理体保持装置２０は、駆動装置２６によって側方に移動するようになっている。制御装置４４は、被処理体Ｗを側部保持部材５０に保持させた後、被処理体保持装置２０を側方へ移動させるように駆動装置２６を制御すると共に、振動子４０に超音波振動を生じさせて振動子４０からの超音波振動を被処理体Ｗに伝播させるようになっている。 （もっと読む）

【課題】洗浄ムラの低減。
【解決手段】基板Ｐに対して相対的に近くに位置するノズル３を基板Ｐに対して相対的に遠くに位置するノズル３よりも速く回動する。 （もっと読む）

【課題】ドライ洗浄とウエット洗浄とを組み合わせてマスク部材をクリーニングする際に、その洗浄プロセスを円滑に運転させることができ、マスク部材を効率的にクリーニング処理を行えるようにする。
【解決手段】ロードステージ１０と、レーザ光を用いたドライ洗浄ステージ１１と、洗浄液にマスク部材４を浸漬させて行う第１のウエット洗浄ステージ１２と、マスク部材４に対してシャワー洗浄を行う第２のウエット洗浄ステージ１３と、マスク部材４に熱風を供給して行う乾燥ステージ１４と、アンロードステージ１５とから構成されるクリーニング装置において、ロードステージ１０からドライ洗浄ステージ１１にマスク部材４を搬送・移載する同期式マスク搬送手段２０Ｃと、ステージ１１〜１５間にマスク部材４を搬送・移載する非同期式マスク搬送手段２０Ａとが設けられている。 （もっと読む）

【課題】乾燥ガスが光透過部材から被処理基板上に滴下することを防止することにより、製品歩留まりの低下を防止することが可能な乾燥室、洗浄・乾燥処理装置、被処理基板を乾燥する乾燥処理方法、および記録媒体を提供する。
【解決手段】乾燥室１０は、被処理基板Ｗを収容する乾燥室本体１１と、乾燥室本体１１の内壁１１ａに設けられた光透過部材１２と、乾燥室本体１１の内壁１１ａと光透過部材１２との間に設けられた加熱用光源１３とを備えている。光透過部材１２の下方には、光透過部材１２側に向けて乾燥ガスを供給するガス供給部１４が設けられている。光透過部材１２の内面１２ａは、乾燥ガスがこの光透過部材１２の内面１２ａに液膜として付着するように表面処理が施されている。 （もっと読む）

【課題】被処理物の処理を悪影響がなく、オゾン気泡が容易に脱気しないことにより、充分な処理効果を得ることのできるオゾン水処理方法及びオゾン水処理装置を提供する。
【解決手段】添加物を含めない方法によって生成された超微細粒径のオゾン気泡を含有するオゾン水を用いて被処理物を処理するオゾン水処理方法及びオゾン水処理装置で、特に、超微細粒径のオゾン気泡を含有するオゾン水を加熱して被処理物の処理効率を向上させる。 （もっと読む）

【解決手段】 本発明の実施形態は、一般的には、チャンバ構成部品の外部位置洗浄のための方法及び装置に関する。一実施形態では、洗浄化学物質で構成部品を洗浄するためのシステムを提供する。システムは、洗浄プロセス中洗浄すべき１つ又はそれ以上の構成部品を保持するための洗浄槽組立体を含むウェットベンチ装置と、洗浄プロセス中１つ又はそれ以上の洗浄化学物質を洗浄槽組立体に供給するための、洗浄槽組立体と着脱可能に連結された着脱可能な洗浄カートを含む。 （もっと読む）

【課題】洗浄装置において、洗浄作業を効率よく行うことができるとともに、洗浄ムラを抑制することができるようにする。
【解決手段】 洗浄装置１は、洗浄液４を入れる洗浄槽２と、洗浄槽２に入れられた洗浄液４中に被洗浄物２０を浸漬させて保持する被洗浄物保持部３と、洗浄液４中に超音波Ｓを出射する超音波振動子５と、超音波出射領域５ａに対向して、超音波Ｓの出射方向に対して傾斜角をつけて配置された超音波反射板７Ａ、７Ｂ、７Ｃ、７Ｄと、を備える。 （もっと読む）

【課題】あらゆるタイプの汚れに対して、ＨＣＦＣ２２５に匹敵するような洗浄力を示すと共に低毒性で、引火性が低く、オゾン層破壊の恐れが全くない洗浄性に優れる高沸点溶剤を含有する洗浄剤を用いて、被洗浄物表面における汚れの再付着による洗浄性の低下を防止し、かつ、揮発性に優れるＨＦＣやＨＦＥによるリンス工程がなく省スペースを可能とする洗浄方法及び洗浄装置を提供することを課題とする。
【解決手段】蒸発速度の異なる２０℃における蒸気圧が１．３３×１０^３Ｐａ以上の非塩素系フッ素化合物（ａ）と２０℃における蒸気圧が１．３３×１０^３Ｐａ未満の成分（ｂ）とを一定の組成比で併用し、かつ、洗浄時の洗浄条件として、「洗浄槽温度」と「洗浄槽温度と蒸気ゾーン温度との温度差」とを規定することで、洗浄剤を加熱して得られる凝縮液によるリンス工程のない洗浄方法で洗浄する。 （もっと読む）

【課題】 高圧蒸気を微小領域に吹き付け、当該微小領域を拡大させることで被洗浄対象物の洗浄を行う洗浄装置を提供する。
【解決手段】 特定部に開口する槽形状の洗浄槽の開口部をエアカーテンにて閉鎖することとし、洗浄槽内に置かれた被洗浄物に対して高圧蒸気を吹き付けるノズルを、該エアカーテンを超えた洗浄槽内に配置することとする。 （もっと読む）

【課題】合成繊維の製造に用いられる紡糸口金の洗浄において、煩雑な設備を用いることなく、複数個の紡糸口金の洗浄を短時間に簡便かつ効率よく行い、しかも良好な洗浄状態を得ることのできる紡糸口金の洗浄設備を提供する。
【解決手段】洗浄液を循環させる手段を有する洗浄浴槽と、複数個の紡糸口金を固定し、かつ、回転するホルダーとを用いて、ホルダーに固定した紡糸口金に洗浄液を吹き付けてホルダーを回転させ、複数個の紡糸口金を同時に洗浄する。 （もっと読む）

【課題】適切にマスクを清浄する方法を提供する。
【解決手段】マスクを清浄するための方法および装置が、説明される。一実施形態において、本発明は、マスクを清浄する方法である。その方法は、マスクを清浄溶液の中に配置することを含む。また、この方法は、予め定められた攪拌レベルで予め定められた時間だけ清浄溶液を攪拌することを含む。 （もっと読む）

【課題】バッチ処理により複数枚のディスクを同時に短時間で乾燥することが可能で小型化な装置を実現できるディスク乾燥装置およびディスク乾燥方法を提供する。
【解決手段】一軸に沿って配置された複数枚のディスクを同時に外周でチャックすることにより複数枚のディスクの中心開口による空間が内部にでき、この空間に複数のノズルを配置することで、各ディスクの表裏の内周面側から温水を供給して各ディスクを温水で加熱し、複数枚のディスクを同時に回転させることで、温水をディスクの内周から外周へと移動させて遠心力で外周外側へと排出する。排出された温水は、水受けカバーの内壁面に設けられた谷溝を通ってディスクの下側へと流れて外部へ排出される。 （もっと読む）

【課題】基板洗浄用治具を用いて電子部品が搭載された基板を回転式洗浄する場合に、基板両面の洗浄を可能としつつ回転中心からの距離に関係なく良好な洗浄品質を確保する。
【解決手段】一端側が洗浄液の入口１１ａ、他端側が洗浄液の出口１１ｂとされている貫通した開口部１１を有するフレーム１０を備え、開口部１１の内面には、基板間に隙間を有しつつ基板の板面と直交する方向に沿って配列するように、複数個の基板２００を取り付け、この基板取り付け状態で、洗浄液を入口１１ａから導入し開口部１１内を流通させて出口１１ｂから導出することにより、複数個の基板２００を洗浄する基板洗浄用治具であって、開口部１１内のうち隣り合う基板２００間の隙間となる位置には、邪魔板２０が設けられており、基板取り付け状態で、開口部１１内にて、洗浄液を板材２０と基板２００との隙間にて流通させるようにした。 （もっと読む）

【課題】タクトタイムの増大による生産性の低下を生じることなく、被洗浄物の表面にシミのない清浄な乾燥状態を得る。
【解決手段】搬送治具１３ａに載置された被洗浄物１３をＩＰＡ蒸気雰囲気４に浸漬して蒸気乾燥を行うＩＰＡ蒸気乾燥槽２の後段に余熱乾燥槽６を設け、ＩＰＡ蒸気乾燥槽２で蒸気乾燥を終え、ＩＰＡ蒸気雰囲気４の潜熱によって所定の温度まで加熱された状態にある被洗浄物１３および搬送治具１３ａを、余熱乾燥槽６に搬入し、当該被洗浄物１３および搬送治具１３ａ自体が持つ余熱によって乾燥を加速させ、ＩＰＡ蒸気乾燥槽２におけるＩＰＡ蒸気雰囲気４への反復浸漬等の煩雑な操作を必要とすることなく、被洗浄物１３や搬送治具１３ａの表面における液滴の残留に起因する被洗浄物１３のシミ等の欠陥の発生を確実に防止する。 （もっと読む）

【課題】洗浄槽や洗浄キャリアの表面が侵食されることで発生するパーティクルがフォトマスク基板に付着することを防止しながら、超音波洗浄により基板表面のパーティクルを効率的に除去する。
【解決手段】フォトマスク基板を濾過循環させた洗浄液に浸漬し、洗浄槽や洗浄キャリアの表面からパーティクルが発生しないように、超音波のパワー密度をキャビテーションの発生する閾値以上の初期値とした後、当該洗浄槽での超音波洗浄を終了するまでの間に、超音波のパワー密度をこの初期値から段階的及び／又は連続的低減することを特徴とするフォトマスク基板の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】基板の表面に付着した塵埃などを効率良く除去すると共に、洗浄後にこれらが基板の表面に再付着することを防止した流水式洗浄方法及び流水式洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄槽２内で洗浄液Ｌを横方向に流し、この洗浄液Ｌに被洗浄物Ｗを浸漬させた状態で、洗浄液Ｌに超音波振動を印加しながら、被洗浄物Ｗの洗浄を行う流水式洗浄方法であって、洗浄槽２に洗浄液Ｌを供給する複数の供給口３と、洗浄槽２から洗浄液Ｌを排出する複数の排出口５とのうち、何れかの供給口３及び／又は排出口５を流れる洗浄液Ｌの流量を調整することによって、洗浄槽２内の洗浄液Ｌが層流の状態で流れるようにする。 （もっと読む）

【課題】メガソニック洗浄装置での基板洗浄において、超音波によるダメージに強く、基板保持位置の変位による基板の搬送トラブルを防止でき、良好な洗浄を実施できる基板保持治具を提供することを目的とする。
【解決手段】バッチ式のメガソニック洗浄装置において、洗浄時に洗浄槽内で基板を保持する基板保持治具であって、洗浄槽内に基板を保持するための対向する側板と、側板に両端が接続された２以上の石英製支持部材と、１つの保持溝を有し、石英製支持部材に複数取り付けられた樹脂製保持部材とを具備し、樹脂製保持部材が他の樹脂製保持部材と接触しないように石英製支持部材に取り付けられたものであり、樹脂製保持部材の保持溝に基板の周縁部を嵌めることで基板が保持されるものである基板保持治具。 （もっと読む）

【課題】 洗浄レーンの洗浄液回収口を通して洗浄液貯留槽内に回収される洗浄液に混入した磁性粉等を良好に取り除くことができる電着塗装用洗浄液循環装置を提供する。
【解決手段】金属製のカバー部材１を電着塗装する前に、予め、ボルト孔３の周囲に非塗装部６を設ける磁力式マスキング冶具１０をカバー部材１の一側面に吸着させる。この状態でカバー部材１をハンガー３２に吊り下げて洗浄レーン３０に移送しながら、洗浄液貯留槽６０から洗浄液を洗浄レーン３０内の洗浄ノズルパイプ３５に供給し、噴出口３６からカバー部材１に吹き付けて洗浄する一方、洗浄レーン３０の洗浄液回収口４１から洗浄液を回収して洗浄液貯留槽６０に戻す。洗浄液回収口４１と洗浄ノズルパイプ３５との間には、磁性粉除去フィルタ７１と異物を除去する異物除去フィルタ８０とが配設されている。 （もっと読む）

【課題】ディスク駆動装置の構成部品の清浄度を向上し、磁気ヘッドの浮上隙間を小さくした場合でもＴＡ障害発生の確率を低く保つことのできるディスク駆動装置の生産方法を提供する。
【解決手段】ディスク駆動装置の生産方法は、所定レベル以上のクリーンルーム内で洗浄工程１００と組立工程２００が連続して実施される。洗浄、組立対象であるディスク駆動装置のベース部材１２は、洗浄工程１００は、アルカリ洗浄工程１０４、第１純水洗浄工程１０６、第２純水洗浄工程１０８、スプレー洗浄工程１１０、水切工程１１２、乾燥工程１１４を含む。第１純水洗浄工程１０６は、第１純水洗浄槽１２６に満たされた純水１２８中で、４０ｋＨｚ、６８ｋＨｚ、１３２ｋＨｚの周波数による純水超音波洗浄を順に施す。洗浄されたベース部材１２は、洗浄工程１００と連続した組立工程２００で清浄度が所定値以上ｎ他の構成部品と共に組み立てられる。 （もっと読む）