【課題】洗浄装置において、リンス後の光学素子の水分を除去する際に、ＩＰＡや代替フロンなどを用いることなく、効率的に水分を除去することができるようにする。
【解決手段】被洗浄体であるレンズ２を洗浄治具１に保持して洗浄液５によって洗浄し、水を含むリンス液７でリンスするする洗浄リンス部１００Ａと、洗浄リンス部１００Ａでレンズ２に付着した水分を除去する水分除去部１００Ｂとを有する洗浄装置１００であって、水分除去部１００Ｂは、レンズ２を保持した洗浄治具１を収容して、洗浄治具１を回転させる回転枠１１と、回転枠１１に固定して設けられ、洗浄治具１を、洗浄治具１に保持されたレンズ２の厚さ方向が回転枠１１の回転円の径方向に略直交する方向に向くように保持する洗浄治具保持部１１ｅと、洗浄治具保持部１１ｅに向けて回転円の径方向にガスＧを噴射するガス噴射機構１３とを備える。 （もっと読む）

【課題】熱の再利用ができ、配管の破損が生じても問題が生じることがなく、その上、装置のコストアップを抑制することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】二重容器２７における熱交換により、排出される燐酸と供給される燐酸との間で熱の再利用ができる。また、熱交換が燐酸同士であるので、二重容器２７の内容器２９が破損したとしても問題が生じない。その上、別体の予備温調ユニットを設けることなく、供給する燐酸に加温することができるので、装置のコストアップを抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】温度測定手段が完全に破損する前に故障報知を行うことにより、温度測定手段の破損に起因する稼働率低下を防止することができる。
【解決手段】温度センサ４１及び温度制御部４３は、一般的に、故障の前にはある出力信号となる。しかも、故障モードによって出力信号が固有値を示すことが多い。そこで、故障モードごとに固有値を記憶部５９に予め記憶させておき、温度センサ４１及び温度制御部４３からの出力信号が一時的であっても実質的にその固有値と一致した場合には、報知部６１を介して故障報知を行う。完全に破損する前に故障報知を行うことで、完全に故障する前に修理準備を整えることができるので、温度センサ４１及び温度制御部４３の破損に起因する稼働率低下を防止できる。 （もっと読む）

【課題】処理槽内の洗浄液に浸漬された基板に対し超音波を照射して基板を洗浄する場合に、装置の構造を複雑化させることなく、基板の洗浄面全域に効果的に超音波を照射して洗浄効果の均一性を高めることができる装置を提供する。
【解決手段】洗浄液を貯留する処理槽１０の底部外面側に配設される超音波振動板２０と、複数の基板Ｗを保持部１６により支持して処理槽１０の内部に保持する基板保持具との間に、超音波透過性材料で形成された平板状をなす一対の超音波屈折部材２４を左右対称に配設し、支持手段により超音波屈折部材２４を鉛直面に沿った方向において揺動可能に支持し、揺動手段により超音波屈折部材２４を基板Ｗの洗浄処理中に揺動させて超音波屈折部材２４と超音波振動板２０とのなす角度を変化させる。 （もっと読む）

【課題】超音波洗浄における被洗浄物の洗浄ムラを抑制し、洗浄槽数を削減して装置のコストを低減することができ、パーティクル除去を効果的に行うことができる超音波洗浄装置および超音波洗浄方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、被洗浄物を浸漬して洗浄するための洗浄液を収容する洗浄槽と、該洗浄槽に超音波を伝搬するための伝搬水を収容する超音波伝搬槽と、前記超音波伝搬槽の下部に配置され振動子により超音波を前記伝搬水に重畳する振動板と、洗浄する被洗浄物を前記洗浄槽中に保持する保持治具とを具備し、前記被洗浄物が前記保持治具で保持されて前記洗浄槽内の洗浄液に浸漬され、前記洗浄槽が前記超音波伝搬槽内の伝搬水に浸され、前記振動板により重畳した超音波を伝搬水を介して洗浄槽に伝搬させて前記被洗浄物を超音波洗浄する超音波洗浄装置であって、前記超音波伝搬槽を水平面内で揺動させる伝搬槽揺動機構を具備する超音波洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】ワークの処理に影響を与えることなく、開閉蓋により処理溶液の気化を最大限抑制することができる浸漬処理装置を提供する。
【解決手段】ワークＷに表面処理を行うワーク処理槽５と、ワークＷを、徐給材部１５の第１直上位置およびワーク処理槽５の第２直上位置を経由して、給材位置と浸漬位置との間で移動させる浸漬移動機構１７と、ワーク処理槽５を開閉する開閉蓋１４と、開閉蓋１４を、閉塞位置と開放待機位置との間で略水平方向に移動させる蓋移動機構１８と、これら機構を制御する制御手段９と、を備え、制御手段９は、ワークＷを、第２直上位置から浸漬位置に移動させる直前に、開閉蓋１４を閉塞位置から開放位置に移動させ、浸漬位置から第２直上位置に移動させた直後に、開閉蓋１４を開放位置から閉塞位置に移動させる。 （もっと読む）

【課題】排気中の溶剤を回収することにより、排気中の溶剤濃度を低減して排気設備の負担を軽減できる。
【解決手段】処理槽１を囲うチャンバ１１内に溶剤ノズル１７を介して高濃度のイソプロピルアルコールの蒸気が供給される場合であっても、スタティックミキサ６３により排気が純水と混合される。したがって、気体にイソプロピルアルコールの蒸気が含まれていても、純水とともに気液分離部５３に送られるので、イソプロピルアルコールの蒸気は純水とともに排出される。その結果、気液分離部５３からの排気中のイソプロピルアルコールの濃度を低減できる。 （もっと読む）

【課題】洗浄槽に形成される開口部を塞ぐのに適した蓋部材を備える洗浄装置を提供すること。
【解決手段】洗浄装置は、被洗浄物を出し入れするための開口部が形成される洗浄槽３と、洗浄槽３に洗浄液を供給するための配管部材２２ａ１、２２ａ２、２２ｂ１、２２ｂ２と、開口部を塞ぐ蓋部材４０とを備え、開口部には、配管部材２２ａ１、２２ａ２、２２ｂ１、２２ｂ２の一部が配置されている。蓋部材４０は、一端が開口するとともにＹ方向に向かって配管部材２２ａ１、２２ａ２、２２ｂ１、２２ｂ２が通過可能な第１スリット４１ａが形成される第１蓋部材４１と、一端が開口するとともにＸ方向に向かって配管部材２２が通過可能な第２スリット４２ａが形成される第２蓋部材４２とを備えている。 （もっと読む）

【課題】水を含む高沸点、高蒸発潜熱の洗浄剤においても、再付着がなく、洗浄後の乾燥効率が高く、洗浄、乾燥時間を短縮でき、複雑な形状の被洗浄物でも乾燥シミを作ることなく乾燥させることができるベーパー洗浄を可能にする。
【解決手段】被洗浄物をベーパー洗浄するためのベーパー洗浄槽６と、ベーパー洗浄槽６内における下方部分に蓄えた洗浄剤１６と、ベーパー洗浄槽６に連通した乾燥槽５と、ベーパー洗浄槽６と乾燥槽５間を遮断又は開放可能とした遮断蓋１３と、被洗浄物を載置可能であるとともにベーパー洗浄槽６と乾燥槽５間を移動可能なキャリアと、を具備した装置本体２と、装置本体２に連結された、装置本体２の内部を加減圧する圧力調整手段３と、被洗浄物に付着した洗浄剤等を排液するための排液弁１７と、洗浄剤１６を加熱するための加熱システム１９と、を具備した。 （もっと読む）

【課題】配管内部での静電気の発生を抑制しつつ、組立作業を簡素化することが可能な洗浄装置を提供すること。
【解決手段】洗浄装置は、被洗浄物が浸漬される洗浄槽３と、洗浄槽３に洗浄液を供給する給液部８と、洗浄槽３から排出される洗浄液を給液部８まで循環させるための循環経路９とを備えている。循環経路９は、洗浄液が通過する配管９０を備え、配管９０の一部は、金属製の配管部材５７〜６０、６２と樹脂製の配管部材３５、３６、４０、４３、４４とが接続されて構成されている。 （もっと読む）

【解決手段】 洗浄システム１は、クランクケース２を支持したパレット３を洗浄位置Ｂまで搬送する搬送手段６と、クランクケース２を洗浄する洗浄手段７とを備えている。
パレット３には固定通路１２を設けてあり、その一端にフレキシブルチューブ１３の一端１３Ａが接続されている。フレキシブルチューブ１３の他端１３Ｂは、クランクケース２の油穴４の開口に接続されている。上記パレット３が搬送手段６により洗浄位置Ｂの液槽２２内に浸漬されると、固定通路１２と吐出通路２４とが重合して相互に連通する。その後、ポンプ２３から吐出される洗浄液が吐出通路２４、固定通路１２およびフレキシブルチューブ１３を介してクランクケース２の油穴４に直接給送される。
【効果】 クランクケース２の油穴４を効率的かつ確実に洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板の製造における液処理工程において、ガラス基板を保持する基板ホルダ自体から、或いは基板ホルダとガラス基板の接触による発塵を防止し、低フライングハイト化の阻害やサーマルアスペリティの要因となるガラス基板上の微小異物の付着を低減できる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】磁気ディスク用ガラス基板の製造における液処理工程、例えば洗浄処理工程において、少なくとも表面部が、ガラス基板よりも硬度が低く、かつ、強度の高い樹脂からなる基板ホルダ２０でガラス基板１０を保持して上記液処理工程を行う。 （もっと読む）

【課題】比較的長期間使用することができるとともに、超音波照射器が洗浄液に超音波を照射した際に一時的に低下したガスの溶存濃度を早急に超音波照射前のガスの溶存濃度まで回復させることができ、洗浄液に浸漬された被処理基板を安定して洗浄することができる基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】基板洗浄装置１０は、洗浄液を貯留する洗浄槽１２と、洗浄槽１２内に貯留された洗浄液に超音波を照射する超音波照射器３０と、を備えている。また、洗浄槽１２内には、当該洗浄槽１２内に貯留された洗浄液にガスを供給することによりこの洗浄液に気泡を発生させる気泡発生器６１が設けられている。気泡発生器６１は、表面が親水化処理された樹脂部材から構成されている。 （もっと読む）

【課題】低コストで貯留槽内の処理液の温度を調整することが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】処理液タンクＴＢ内の処理液は、ポンプＰ２の動作により配管１８，１９，２３を通して簡易式熱交換器Ｓ２に導かれる。簡易式熱交換器Ｓ２により冷却された処理液は、配管２３，２５を通して処理液タンクＴＢに戻される。処理液の温度が予め定められた規定値Ｎ１以下になると、処理液タンクＴＢ内の処理液は、ポンプＰ２の動作により配管１８，１９，２１を通して処理液タンクＴＢに戻される。配管２１は処理液タンクＴＡ内を通過するので、配管２１を流れる処理液は、処理液タンクＴＡ内の処理液によって温調される。 （もっと読む）

【課題】複数種類の液体を用いる基板処理方法において、液体を用いた処理の後に基板上に残留している当該液体を、次に使用される液体によって迅速かつより確実に置換することができる基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理方法は、処理液によって基板Ｗを処理する工程と、基板上に置換液を供給し、基板上に残留する処理液を置換液で置換する工程と、を備える。置換する工程に用いられる置換液は、処理液の表面張力よりも小さい表面張力を有し、かつ、処理液の密度と同一の密度を有する。 （もっと読む）

【課題】排気を分散させることによって乾燥不良を防止することができる基板処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】真空ポンプによって排気機構７５を介してチャンバ内の気体を排出するが、排気機構７５はチャンバ内の気体を複数箇所から排気するので、チャンバ内において排気が偏りにくい。したがって、溶剤ノズルによってチャンバ内に形成された溶剤蒸気雰囲気が偏ることを防止でき、処理液から露出された基板Ｗに付着している液滴が偏って引かれることを防止できる。その結果、基板の乾燥不良を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】純水内に浸積され洗浄処理が行われた基板を乾燥させる基板乾燥において、上記基板に微細化されたパターンが存在するような場合であっても、確実に上記基板に付着した純水を除去して基板を乾燥させる基板乾燥装置及び方法を提供する。
【解決手段】純水内に浸積された基板を取り出した後、上記基板の表面に液状のイソプロピルアルコールを供給して、上記基板の表面に付着している上記純水を上記イソプロピルアルコールに置き換え、その後、上記基板の表面から上記イソプロピルアルコールを蒸発させることにより上記基板を乾燥させる。 （もっと読む）

【課題】
ＩＰＡ等の有機溶剤を使用して乾燥する場合において、残留異物を低減し、ウオータマーク（水しみ）等の染みの発生を抑制することができる蒸気乾燥装置を提供することにある。
【解決手段】
この発明は、凝縮されたディスクを下側チャンファ部からのみ滴下するような速度で冷却エリアに引き上げることで、ウオータマークや異物の残留を下側チャンファ部に移動させて冷却乾燥に入る。さらに、下側チャンファ部を蒸気エリアに再浸漬することで下側チャンファ部に移動したウオータマークや異物の残留部部に対してドレーンにより下側チャンファ部の残留異物を流し落としかつ下側チャンファ部にできるであろうウオータマークの痕跡を除去して、再引き上げをしてディスクを乾燥する。 （もっと読む）

【課題】均等、かつ、効率よく洗浄物を洗浄することができ、これにより、洗浄物の品質の向上及び低コスト化を図ることができる超音波洗浄装置を提供すること。
【解決手段】洗浄液を収容する洗浄槽と、洗浄物を保持して洗浄液に浸漬される洗浄物保持手段と、洗浄槽内の洗浄液に対して超音波振動を印加する振動印加手段と、を備えた超音波洗浄装置であって、振動印加手段は、平面状の振動板と、この振動板上に規則的に配置された複数の超音波振動子と、を備えると共に、洗浄物保持手段は、複数の洗浄物を振動板に対して平行に配置して保持する保持面を有し、振動板と保持面とが相対的に平行に移動するよう、振動印加手段及び／又は洗浄物保持手段を可動する可動手段を備えた。 （もっと読む）

【課題】洗浄液から収納カセットを引き上げる際に、収納カセットの内部において各基板が貼着してしまうのを防止することにより、基板に不良が発生してしまうのを防止するとともに、洗浄作業の効率を向上させる。
【解決手段】
各スティック基板１を保持する保持部１０ｃと、隣位する各スティック基板１の間隙を規制する凹状のスペーサ部１０ｂとを備え、各スティック基板１の引き上げの方向と平行な方向に貫通させた流水路１０ｅを有する補助部材１０を、各スティック基板１の両端部の途中部分に配し、補助部材１０によって各スティック基板１の間隙を規制しながら、流水路１０ｅによって補助部材１０の近傍の洗浄液を流下させて、収納カセット２を洗浄液から引き上げる。 （もっと読む）