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Fターム[3B201AB44]の内容

液体又は蒸気による洗浄 (28,239) | 被清浄物の取扱い (3,618) | 被清浄物を搬入する (3,073) | 被清浄物を支持手段 (938) | 収納手段 (372) | キャリア、ホルダー (171)

Fターム[3B201AB44]に分類される特許

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【課題】媒体に付着した汚れを確実かつ効率的に除去することのできる媒体洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄液を貯留する洗浄槽1と、前記洗浄液中に超音波を照射する超音波振動子2と、前記洗浄液中にて被洗浄媒体を搬送するとともに、前記超音波振動子2からの超音波と当該超音波の反射波とが形成する定在波によって液深が特定される高効率洗浄領域を前記被洗浄媒体が必ず通過するように当該被洗浄媒体の搬送を行う媒体搬送手段5とを備え、媒体搬送手段5に搬送される被洗浄媒体の全てが前記高効率洗浄領域での洗浄を経るように媒体洗浄装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】定期液交換処理を柔軟に配置することにより、無駄な待機時間を低減して基板処理のスループットを向上させることができる基板処理装置のスケジュール作成方法を提供する。
【解決手段】制御部は、まずライフタイムLTが経過する時点t1で処理部のリソースに定期液交換処理XLを配置する。その後、定期液交換処理XLの配置に起因して、後続の処理工程dに待機時間が生じる場合には、延長時間ET内で定期液交換処理XLを後にずらして配置し、本来は定期液交換処理XLに後続する処理工程dを優先的に前に配置する。このように定期液交換処理XLをライフタイムLTのアップにのみ基づき一律に配置するのではなく、定期液交換処理XLを柔軟に配置するので、無駄な待機時間を低減して基板処理のスループットを向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】良好な清浄度を有する磁気ヘッドスライダを得ることが可能な磁気ヘッドスライダの洗浄方法、製造方法および洗浄装置を提供する。
【解決手段】濯ぎ工程において、磁気ヘッドスライダ15は、収容トレイ14に形成された収容部内に収容されており、この収容トレイ14を濯ぎ液中に浸漬され、濯ぎ液中で移動される。これにより、磁気ヘッドスライダ15は、貫通孔11b・12bから収容部内へ入り込んだ濯ぎ液から浮力を得て浮き上がるとともに、濯ぎ液から水圧を受けることになるので、十分な濯ぎを行うことができる。 (もっと読む)


【課題】基板の面内における薬液処理の均一性を向上させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】本発明の基板処理装置は、処理槽内の純水を薬液に置換するときには、処理槽内に供給する処理液中の薬液成分の濃度を段階的又は連続的に上昇させる。また、処理槽内の薬液を純水に置換するときには、処理槽内に供給する処理液中の薬液成分の濃度を段階的または連続的に低下させる。このため、処理槽内において一度に発生する薬液成分の濃度のばらつきが緩和され、基板の面内における薬液処理の均一性が向上する。 (もっと読む)


【課題】洗浄用の超音波によって被洗浄体支持具が劣化して汚染物質が発生するのを防止し、洗浄不良の発生を防止すること。
【解決手段】本発明では、超音波発振手段(42)を有する洗浄槽(41)の内部に被洗浄体(ウエハ2)を支持するための被洗浄体支持具(ウエハボート48)を配設した超音波洗浄装置(25)において、超音波を減衰させるカバー体(64,65)を前記被洗浄体支持具(ウエハボート48)に覆設することにした。 (もっと読む)


開示されているのは、プレート状物体の湿式処理用装置であり、以下のように構成されている:第一プレート、前記第一プレートと実質的に平行な単一のプレート状物体を保持するための保持手段、処理時に前記第一プレートとプレート状物体の間の第一ギャップに液体を導入するための第一分配手段、この場合、第一プレートは少なくとも99重量%のシリコンから成っているシリコン・プレート、そのプレート状の物体を処理している時に、そのシリコン・プレートが処理液と接触していること、それに関連した方法がさらに開示されている。
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【課題】 処理槽から基板収納容器を引き上げる際に、基板収納容器に収納された基板同士が吸着することを防止することができる基板処理装置及び基板処理方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 少なくとも、対向する側部の内側に夫々複数の保持溝を有し、底部に開口部を有する基板収納容器と、内部に処理液を保持する処理槽とを具備し、前記保持溝に複数の基板を各々縦向きで並列に保持した基板収納容器を前記処理槽に保持された前記処理液に浸漬して前記複数の基板を同時に処理する基板処理装置であって、前記処理槽は、その底部に、上に凸形状であり、上端部で前記基板の下端部を支持する支持具を1つ以上具備するものであり、前記基板収納容器の底部の開口部を、前記支持具に挿入することによって、前記基板収納容器に保持された複数の基板を同時に持ち上げて保持することができるものである基板処理装置及びこれを用いた基板処理方法。 (もっと読む)


【課題】液面の盛り上がり位置をずらすことにより、基板に乾燥不良が生じることを防止することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板Wを内槽7から上昇させる際に、噴射ノズル33から水平方向にドライエアdaを噴射させるとともに、エアシリンダ55により内槽7の上部側壁の高さを乾燥時高さにする。これにより、純水は、内槽7の上縁にてせき止められることなく第2の外槽49に流れ込む。第2の外槽49の幅は、噴射ノズル33の上流側にあたる第1の外槽47の幅よりも広くされているので、内槽7から離れた位置に純水の盛り上がりが生じる。したがって、引き上げられてゆく基板Wの部位にかかわらず乾燥具合を均一にできる。その上、ドライエアdaの噴射によって純水が飛散するのを防止できるので、飛沫に起因する乾燥不良も防止できる。 (もっと読む)


【課題】流量の瞬時値が短時間で変動することの影響を回避することにより、流量の適否を正確に判断することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】供給配管17を流れる処理液の流量を瞬時値で捉えるのではなく、移動平均値算出部45により平均流量値AVを求め、この平均流量値AVにより判断部51が処理液の供給の適否について判断する。したがって、処理液の流量が短時間で変動しても均されるので、流量の適否を正確に判断することができる。 (もっと読む)


【課題】大型且つフラットな金型の洗浄に適する洗浄装置を提供する。
【解決手段】電解洗浄液が供給される金型洗浄用の洗浄槽2と、フラットで大面積の金型を垂直状態あるいは傾斜状態で保持して、前記洗浄槽内に載置する金型保持材6と、前記金型保持材に保持された前記金型の側方に対向させて、前記洗浄槽内に浸漬する電解洗浄用の電極22と、前記金型保持材を介して前記金型を接触させ、前記電極と電解洗浄液および金型を介して通電させて電解洗浄を行わせる給電手段と、前記金型保持材の背面側に位置する前記洗浄槽の側壁外部に設置し、前記電解洗浄液に超音波振動を発生させる超音波発生装置4を備え、前記垂直あるいは傾斜保持された金型を電解洗浄及び超音波洗浄することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】配線の抵抗のバラツキを少なくすることによって、電子デバイスの品質を安定させ、ランニングコストが安価な基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】基板8を保持して回転させる基板保持部4と、基板8に対して洗浄液等を吐出させる吐出ノズル3とを備えたチャンバー2と、洗浄液が収容される供給タンク23と、供給タンク23から吐出ノズル3へ洗浄液を供給するための配管35及び圧送機構のポンプ20と、チャンバー2で基板8の洗浄処理が行われた後の洗浄液を供給タンク23へ戻す戻り配管37と、供給タンク23へアンモニアを供給させるアンモニア供給源19とを備え、チャンバー2において基板8を洗浄処理する毎に、アンモニア供給源19から供給タンク23へアンモニアを供給する。 (もっと読む)


【課題】超音波洗浄装置の小型化、軽量化、省電力化を図るとともに、洗浄効果を向上させること。
【解決手段】本発明では、洗浄槽に複数の被処理体を配列させた状態で浸漬するとともに、被処理体に向けて超音波を照射して被処理体の洗浄処理を行う超音波洗浄装置において、被処理体に向けて超音波を照射するための超音波振動子を被処理体の配列方向に向けて走行可能に配設することにした。また、超音波振動子は、洗浄槽の内部で被処理体を支持するための支持体に対して被処理体を挟んで反対側に配設することにした。また、超音波振動子は、洗浄槽の上部に配設することにした。また、超音波振動子は、被処理体の表面に対して傾斜させて配設することにした。さらに、超音波振動子は、被処理体への超音波の照射角度を変更可能にした。 (もっと読む)


【課題】水を主体とした洗浄水中に微細な気泡を発生させ、その洗浄効率の向上を図るとともに、環境に負荷となる洗浄水の使用を減らして洗浄水及びその廃液処理にかかるコストを低減することを目的とする。
【解決手段】洗浄水2fを収容する洗浄槽2d、洗浄槽2d中の略垂直方向に複数個の被洗浄物2aを並べて載置するハンガー2c、洗浄水2fと気体とを混合して多数の微小気泡2jを含んだ流れを発生する複数個のインゼクター2hを具備し、微小気泡2jを含んだ流れを被洗浄物2aに射出するように、被洗浄物2aの並ぶ方向に複数個のインゼクター2hを配置した。 (もっと読む)


【課題】本発明は、表面に付着したスケールを完全に除去可能な鋼管の酸洗方法及び酸洗装置を提供することを目的としている。
【解決手段】クレーンに支持され、互いに離隔して一列に配置した複数のフックで水平に吊った鋼管の束を、酸洗槽に保持した酸洗溶液に浸漬して、表面スケールを洗浄する方法及び装置を改良した。その改良した酸洗方法は、酸洗槽の底部の前記フックと干渉しない位置に、降下した鋼管の束を受けてその堆積断面形状を変化させる複数の案内部材を設け、前記酸洗溶液中で前記フックを一定周期で繰り返し昇降させて鋼管同士を擦り合わせるようにしたものである。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、基板を洗浄する際に使用する基板洗浄用ラック及び前記ラックに使用する枠体の発明である。従来の基板洗浄用ラックでは、基板のサイズが限定され、大きさの違う基板を洗浄するには別の基板洗浄用ラックを用意しなければならないため経費がかかり、また、保管にも場所を取るものであった。
【解決手段】本発明は、上記の課題を解決するために、洗浄する基板を挟み前後に固定するラック部と、洗浄する基板の台となり固定する可動式台とを内側に持つ枠体部と、枠体部上部に取り付けられ吊り下げ具で引き上げる際の引っ掛け部分となる左右ハンガーとからなる基板洗浄用ラックの前記枠体部の左右上連結材の内側に溝を等間隔に複数設けたラック固定枠を備えたことを特徴とする基板洗浄用ラックの構成とした。 (もっと読む)


【課題】処理液の種類に関係なく処理液が処理槽内で複数枚の被処理基板間にスムーズに流れて被処理基板表面に接触するようにした基板処理装置を提供すること。
【解決手段】所定量の処理液及び複数枚の被処理基板Wが収容される有底の処理槽2と、該処理槽2の上方に配設された処理液供給管7a、7bとを備えた基板処理装置1において、処理槽2の被処理基板Wが収容される位置の下方には、中央部に大口径の貫通孔10が形成された整流板8が設けられている。 (もっと読む)


【課題】処理槽から処理液をオーバーフローさせる際に、処理液の流れを精密に調整できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置1は、処理槽10の周縁部分に接触部材40を備えている。接触部材40は、下方へ収束する楔形に形成されており、接触部材40を上下に移動させると、処理槽10と接触部材40との間隔が変化する。接触部材40を降下させて、接触部材40を処理液9に接触させると、処理液9は接触部材40を伝って外槽12へ流れ出る。また、処理槽10と接触部材40との間隔を調節すると、処理液9の流れが精密に調整される。 (もっと読む)


【課題】処理槽または処理室の内部と外部との間で基板を搬送しつつ基板を処理する基板処理装置において、処理槽または処理室内を良好に密閉できる技術を提供する。
【解決手段】基板処理装置1は、基板保持部34の上部に枠部33を有する。そして、基板Wをチャンバ20内に搬入したときには、枠部33を挟んでチャンバ20とカバー22とを閉鎖し、チャンバ20内を密閉する。また、基板Wをチャンバ20の上方に搬出したときには、チャンバ20とカバー22とを直接接触させて閉鎖し、チャンバ20内を密閉する。このため、基板Wをチャンバ20内に搬入したときにも、基板Wをチャンバ20の上方へ搬出したときにも、チャンバ20内を良好に密閉できる。 (もっと読む)


【課題】超音波振動を利用した基板処理装置において、基板上に形成された微細パターンの剥離や倒壊を防止しつつ、超音波振動の出力を上げることができる技術を提供する。
【解決手段】基板処理装置1の伝搬槽30内に伝搬液の流れを形成する。これにより、超音波振動子40から発生する超音波振動を分散させ、超音波振動が基板Wに与える集中的な衝撃を緩和する。また、超音波振動の出力を上げたときには、バルブ34を調節して伝搬液の流量を増加させる。これにより、基板W上に形成された微細パターンの剥離や倒壊を防止しつつ、超音波振動の出力を上げることができる。 (もっと読む)


【課題】基板処理装置の制御を行うソフトウエアが薬液処理中にハングアップしてしまった場合にも、過剰な薬液処理を回避して基板を救済することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】薬液槽10からの薬液を排出するための排出管路と、薬液槽10へ純水を供給するための供給管路とを設け、これらの管路上に複数の開閉弁を設ける。そして、これらの開閉弁を、ソフトウエアを介さない電気的または機械的機構のみによって操作する操作部を設ける。薬液処理中にソフトウエアがハングアップした場合には、操作部50を操作して、薬液槽10内の薬液を純水に置換する。これにより、過剰な薬液処理を回避して基板を救済する。 (もっと読む)


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