【課題】 汚れた金属製素材を、少工程、無廃液で洗浄をして、清浄な前記金属製素材を製造する金属性素材の製造方法を提供する。
【解決手段】 洗剤を用いた従来の洗浄システムでは、金属製材料９０を洗浄する工程は、少なくとも５工程必要であったが、この洗浄システム１では、洗剤とほぼ同じ洗浄能力を有するマイナスイオン水を用いることにより汚れを落とす第１工程、純水を用いて金属製材料９０の表面についた水分の純度を上げるリンス処理を行う第２工程、そして第３及び第４の乾燥工程の計４つの工程で、洗剤を用いた場合と同じ洗浄効果を得ることができる。しかも、洗浄に用いているものが水なので、簡単なフィルタリングを行うだけで、無配液で洗浄することができる。
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【課題】 被洗浄物の埃や水分を有機溶剤で洗浄した際に、被洗浄物に付着した有機溶剤を取り除く有機洗浄において、有機洗浄剤の洗浄力が低下することを防止できる洗浄装置及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】 洗浄槽２において被洗浄物１２が洗浄された際に被洗浄物１２に付着した第１の有機溶剤１５は、洗浄槽３において第２の有機溶剤１６により除去される。洗浄槽３は、分離槽４と送液管５及び６により連通されており、洗浄槽３から分離槽４に第１の有機溶剤１５が混合した第２の有機溶剤１６が送られるとともに、分離槽４から洗浄槽３に第１の有機溶剤１５が分離された第２の有機溶剤１６が導入される。分離槽４では、洗浄槽３から導入された第２の有機溶剤１６に、第２の有機溶剤１６に比べて第１の有機溶剤１５との親和性に優れる薬液１７が添加され、第２の有機溶剤１６から第１の有機溶剤１５が分離される。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で、処理液内の音圧分布を均一化することにより、処理対象物の超音波処理を確実に行うことができる超音波処理装置を提供すること。
【解決手段】処理液を貯留するとともに処理対象物を前記処理液内に浸漬するための処理槽と、前記処理槽の底面に装着され、超音波振動を発生する振動発生部材と、前記振動発生部材に接し、前記振動発生部材からの超音波振動を前記処理液に作用する振動伝達部材と、を備え、前記振動伝達部材の表面に、複数の凸状球面を設けた超音波処理装置。 （もっと読む）

【課題】 基板保持ガイドにおける流体の流れを円滑にすることにより、処理の面内均一性を向上させることができるとともに、清浄度高く処理することができる。
【解決手段】 処理液ＬＱが、第２側方ガイド４５のスリット状の開口５６，５７，６１を通過して、第２側方ガイド４５の左側に位置している基板Ｗの周縁部を通過するとともに、基板Ｗの周縁全体を通過する。したがって、処理液ＬＱが基板Ｗの面全体にわたって行き渡るので、処理の面内均一性を向上させることができる。その結果、処理液による処理時には、処理液が基板Ｗの面全体にわたって行き渡るので、処理の面内均一性を向上させることができ、基板Ｗから離脱したパーティクルや不要物が基板保持ガイド３１から処理槽内へ流下するので、処理槽外への排出が円滑に行われ、基板Ｗを清浄度高く処理することができる。 （もっと読む）

【課題】基板処理装置において、微細なパターン間の水残りに起因する、シリンダー倒壊やトレンチ内の乾燥不良等の問題の発生を抑制できる技術を提供する。
【解決手段】ガス溶解部４４において、純水中に二酸化炭素を加圧溶解させて二酸化炭素溶解リンス液ｒＣを生成する。二酸化炭素溶解リンス液ｒＣを貯留した処理槽２０内に基板Ｗを浸漬して表面洗浄を行った後に、ＩＰＡガス雰囲気下におかれているチャンバ１０内に引き上げて基板Ｗを乾燥する。 （もっと読む）

【課題】 制御が容易で基板の搬送を簡単に行うことができ、また、従来の基板よりも大型の基板の液処理を行うための装置構成部材の仕様変更によって生ずる装置の大型化を抑制した液処理装置を提供する。
【解決手段】 ウエハＷがロータ３４に収納された状態で、Ｚ軸リニア駆動機構２９により、ロータ回転機構２７および姿勢変換機構２８を連結点Ｐが位置Ｐ２に移動するように上昇させ、位置Ｐ２においては、姿勢変換機構２８を動作させて、ウエハＷが水平保持から垂直保持の状態になるようにロータ回転機構２７全体を９０°回転させ、横姿勢の状態とする。次に、ロータ回転機構２７全体が横姿勢の状態のまま、連結点Ｐが位置Ｐ３に移動するように、再びＺ軸リニア駆動機構２９を動作させてロータ回転機構２７を上昇させる。連結点Ｐが位置Ｐ３に到達したら、次に、Ｘ軸リニア駆動機構３０を動作させて、連結点Ｐの位置を位置Ｐ４まで水平移動させる。 （もっと読む）

【課題】基板処理装置において基板に付着したパーティクルを効率よく除去できる技術を提供する。
【解決手段】この基板処理装置では、基板Ｗの周囲にマイクロバブルを供給し、そのマイクロバブルを超音波振動の物理的な衝撃を利用して圧壊する。そして、マイクロバブルの圧壊に伴って発散するエネルギーにより基板からパーティクルを積極的に遊離させる。また、基板から遊離したパーティクルをマイクロバブルに吸着させ、マイクロバブルととも除去する。このため、パーティクルを効率よく除去できる。 （もっと読む）

【課題】基板の表面がその一部または全体にわたって静電気を帯びていたとしても、基板の表面に付着した種々のごみや埃などを容易に洗浄することができる基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】本発明の基板洗浄装置は、基板を移動自在に支持するフレームと該フレームに対して回転自在に取り付けられたロールブラシとが備えられ、前記基板の表面が前記ロールブラシで擦られて洗浄される基板洗浄装置であって、前記ロールブラシが導電性ブラシからなる。 （もっと読む）

【課題】異なる種類の処理流体の反応による被処理体の汚染防止、処理効率の向上、装置の小型化を図れるようにすること。
【解決手段】半導体ウエハＷを保持する回転可能なロータ２１と、ロータ２１にて保持された半導体ウエハを密封状態に包囲可能な複数の処理室例えば内チャンバ２３及び外チャンバ２４と、半導体ウエハに対して処理流体を供給する処理流体供給手段としての薬液供給手段５０、ＩＰＡ供給手段６０、リンス液供給手段７０及び乾燥流体供給手段８０と、内チャンバ及び外チャンバを半導体ウエハに対して相対的に移動するシリンダ２７，２８を具備する。内チャンバ及び外チャンバを筒体にて形成すると共に、筒体の一端に向かって拡開するテーパ状に形成し、筒体の拡開側部位に、処理流体の排液ポート及び排気ポートを設ける。 （もっと読む）

【課題】 基準を設定することにより、絶対的な値としての比重を得ることができるとともに、調整工数を低減できる。
【解決手段】 処理に先立って基準温度の純水を処理槽１に貯留し、この状態で圧力検出部２４が圧力を電圧に変換し、基準電圧して記憶部２６に記憶する。次に、処理槽１に貯留した処理液を処理温度に加熱し、その状態で検出した圧力に応じた電圧を処理電圧とし、この処理電圧と基準電圧とに基づいて濃度算出部２７により処理液の実比重を求める。実比重は、この装置の基準電圧に対する比率を表すので、絶対的な意味をもつことになり、装置間で基準電圧を検出すれば装置間の比較に利用できるとともに、ユーザにとっても理解しやすい絶対的な値にできる。また、各装置で共通の基準を得られ、各装置の調整工数を低減できる。 （もっと読む）

【課題】簡素な構成でありながら、スライドガラス等の基板に適性かつ均一に試薬を展開可能にする。
【解決手段】試薬を展開すべき基板１００を収容支持する処理槽１１と、処理槽１１内で試薬を霧化する試薬霧化手段１２とを有し、霧化した試薬を処理槽１１内に行き渡らせることにより、基板表面１００に試薬を展開する。試薬霧化手段１２として、処理槽１１の底部に配設した１または複数の超音波振動子を有する。超音波振動子によって試薬を加振して霧化する。処理槽１１の内表面に撥水処理を施す。試薬霧化手段１２の配設部位周辺が概略すり鉢状に形成される。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、研磨装置を用いて厚み研磨あるいは、表面鏡面加工を行った後に研磨装置からウエハー状態の圧電素板を効率良く回収するための作業手順を実現することを目的とする。
【解決手段】 課題を解決するために本発明は、圧電素板の表面研磨に研磨装置を用いて、前記圧電素板の厚み研磨あるいは、表面鏡面加工を行った後の前記表面研磨装置から前記圧電素板を回収する圧電素板の処理方法において、前記厚み研磨あるいは、表面鏡面加工を行った後、前記圧電素板を専用トレーに回収する工程と、専用トレーを複数個まとめて格納する洗浄枠に収納し洗浄工程で洗浄する工程と、前記洗浄処理後乾燥工程で乾燥する工程を一貫して処理することにより課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】液中及び液外において電子部品を搬送できる、簡易な構成の電子部品吸着搬送装置及び電子部品吸着搬送方法を提供する。
【解決手段】電子部品１０３を液中及び液外において吸着保持し移動するための電子部品吸着搬送装置１０１であって、吸引力を発生する第１の吸引源Ｐ１と、第１の吸引源Ｐ１からの吸引力を電子部品１０３に作用する第１の吸引回路１１５、１２９、１３１と、略密封した内部空間を有し、第１の吸引回路１１５、１２９、１３１の途中に配置されている液体トラップ手段１１９と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 炭化ケイ素焼結体の表面のマイクロポアに存在する粒子を除去することができる炭化ケイ素焼結体の洗浄方法を提供する。
【解決手段】 ６００℃以上の加熱雰囲気を形成する工程と、上記加熱雰囲気内に炭化ケイ素焼結体を挿入し０．５時間以上ウェハを加熱する工程と、上記加熱雰囲気から前記炭化ケイ素焼結体を取り出し冷却する工程と、上記加熱工程と前記冷却工程を交互に複数回繰り返す工程と、を有する炭化ケイ素焼結体の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】 処理液の流れ方向を常に変化させることにより、被処理基板の処理効率を上げて基板表面の均一化を可能にした基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】 複数枚の被処理基板Ｗを収容できる処理槽２と、処理槽の底部に配設された複数本の処理液供給管３１〜３５と、この処理液供給管に処理液を供給する制御装置５とを備えた基板処理装置１において、処理液供給管３１〜３５のうち、第１処理液供給管３１は処理槽の底壁面２２の中央部に、第２処理液供給管３２、３３は第１処理液供給管の両側に、噴射ノズルを前記処理槽内に収容される被処理基板Ｗの中央部に向けて配設し、第３処理液供給管３４、３５は前記処理槽の側壁に噴射ノズルを被処理基板Ｗの頂部に向けて配設し、制御装置５は被処理基板Ｗの洗浄時に処理液を前記第１処理液供給管３１からは常時、前記第２、第３処理液供給管からは秒単位の間隔で交互に切換えて供給する。 （もっと読む）

【課題】 洗浄装置に関し、水素水を用いた洗浄に於いて、被洗浄物の表面に損傷を与えることなく、物理的な力を作用させることを可能とし、被洗浄物の表面に固着しているパーティクルを容易に解放し、水素水洗浄に依る効果を向上させようとする。
【解決手段】 被洗浄物であるウェーハ４０１が収容された洗浄槽４０２内に洗浄液を供給し、洗浄液に超音波振動子４０４からの超音波を印加してウェーハ４０１を洗浄する洗浄装置に於いて、ウェーハ４０１に接触した状態で振動するブラシ４０５を設けることが基本になっている。 （もっと読む）

【課題】
被洗浄物に粘度の高い加工油が付着している場合であっても、確実に洗浄することができる洗浄装置及び洗浄システムを提供する。
【解決手段】
本発明の洗浄装置の洗浄用回転ドラム１の内部に、外部から供給された洗浄水１６を昇温させる加熱器５ａと、その加熱器５ａによって昇温された高温水を洗浄用回転ドラム１内の被洗浄物７に噴射させる複数のノズル５ｂとを備えた洗浄用シャワー装置５が配置され、洗浄用シャワー装置５の加熱器５ａは、被洗浄物７に付着した油成分を除去可能な粘度まで低下させる温度に洗浄水１６を昇温させる。 （もっと読む）

【課題】小型化が可能であり、加熱効率が高く電力消費量が少ない洗浄乾燥装置を提供する。
【解決手段】洗浄液の蒸気を発生させる装置であって、少なくとも、導電性底面を有し前記洗浄液を収容する蒸気発生槽と、該蒸気発生槽の導電性底面に誘導電流を発生させるためのコイルと、該コイルに交流電流を流すための交流電源とを具備し、前記交流電源により前記コイルに交流電流を流し、前記導電性底面に誘導電流を発生させて前記蒸気発生槽を加熱することにより、前記洗浄液を加熱して蒸気を発生させるものである蒸気発生装置、及び対象物の洗浄及び／又は乾燥を行なう装置であって、少なくとも、前記蒸気発生装置と、前記蒸気発生装置の蒸気発生槽内に前記対象物を保持するための保持治具とを具備し、前記蒸気発生装置により発生した蒸気により前記保持治具に保持された前記対象物を洗浄及び／又は乾燥するものである洗浄乾燥装置。 （もっと読む）

【課題】１度のエアナイフで洗浄後の基板表面の洗浄水を、複数の基板を載置するパレット上の形状に関わらず、確実かつ完全に除去することができる基板の洗浄方法を提供する。
【解決手段】複数の基板をパレットに載置して該複数の基板表面を洗浄液により洗浄する洗浄工程と、前記洗浄工程後に、前記複数の基板の表面及び前記パレットの表面に、前記洗浄液よりも表面張力の低い溶剤を塗布して、前記複数の基板の表面及び前記パレットの表面を前記溶剤で一様に覆う溶剤塗布工程と、気体吹き出し手段を用いて前記溶剤が混入した前記洗浄液を前記複数の基板表面及び前記パレットの表面から除去して前記基板表面を乾燥する乾燥工程と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】パネルの両面を短時間でクリーニングでき、設備の省スペース化ができるパネルクリーニング装置を提供することである。
【解決手段】パネルＰを搬送するためのパネル搬送手段、パネルＰの第一の面及び第二の面をクリーニングするためのパネルクリーニング手段、及びパネルＰの第一の面及び第二の面を洗浄し、乾燥するためのパネル洗浄乾燥手段から構成されるパネルクリーニング装置１０。パネル搬送手段は、パネルＰを保持しながら回転して、このパネルＰを搬送する第一、第二及び第三のパネル回転搬送体１１、１２、１３、及び第一と第二のパネル回転搬送体１１、１２の間でパネルＰを移送し、第二と第三のパネル回転搬送体１２、１３の間でパネルＰを移送する第一及び第二のパネル移送手段１４、１５から構成される。 （もっと読む）