【課題】 処理液の液流をコントロールすることにより、洗浄，エッチング処理の均一性の向上を図れるようにし、また、周辺部の洗浄，エッチング量の向上を図れるようにすること。
【解決手段】 半導体ウエハＷを起立状態に保持するウエハ保持体３０と、ウエハ保持体によって保持されたウエハを収容する処理容器１０と、処理容器内に処理液を供給する処理液供給ノズル４０とを具備し、処理液供給ノズルを、水平方向を軸に回転及び又は揺動可能に形成する。これにより、処理容器内に供給される処理液の液流をコントロールすることができる。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の表面を傷つけたり、破損させたりすることなく、表面に付着した粒子や有機性の汚染物等を効果的に除去することができる。
【解決手段】ガラス基板１４の表面１４Ａに付着する汚れを超音波を付与した洗浄液で超音波洗浄する超音波洗浄装置１０において、洗浄液１１を貯留する洗浄槽１２と、洗浄液１１中にガラス基板１４を支持する支持台１６と、周波数１〜１０ＭHzの第１の超音波と、該第１の超音波の２分の１以下の周波数の第２の超音波とをガラス基板１４に向けて交互に集束させる超音波発生手段２０と、集束させる集束位置Ｐからガラス基板１４の表面１４Ａまでの距離を調整する集束位置調整手段２２と、超音波発生手段２０による超音波の効力が被洗浄物の表面に万遍なくいきわたるように支持台１６を移動させる移動手段２４と、で構成される。 （もっと読む）

【課題】処理むらを防止でき，かつ，パーティクルの発生を防止できる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】処理槽２に入れた処理液中に基板Ｗを浸漬させて処理する基板処理装置１において，基板Ｗの周縁部を保持溝１５に挿入させることにより基板Ｗを処理液中に保持する保持部材１１Ａ，１１Ｂ，１１Ｃを備え，前記保持部材１１Ａ，１１Ｂ，１１Ｃによって保持された基板Ｗの周縁部に対して，基板Ｗのほぼ周方向に向かって基板回転用流体を供給する回転用流体供給口５１と，前記保持部材１１Ａ，１１Ｂ，１１Ｃによって保持された基板Ｗの周縁部に対して，基板Ｗのほぼ中心に向かって基板離隔用流体を供給する離隔用流体供給口１６と，を備えた。 （もっと読む）

【課題】 電動機の固定子コイル又は回転子コイルの表面及び裏面に付着・固着化した油分や塵埃等の汚れを、簡易かつ低コストで、電動機の固定子コイル又は回転子コイルの絶縁物を傷めることなく効果的に除去し得る洗浄方法、並びに洗浄装置を提供する。
【解決手段】 洗浄液３が入った洗浄槽１内に電動機コイル２を浸漬し、洗浄槽１内に設けた噴出手段４から洗浄液３に蒸気７を吹き込んで、洗浄液３を沸騰させる、電動機コイルの洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、水晶板、セラミック板等のワークの割れやカケを抑制し、より信頼性の高いワーク保持具を提供することを目的とする。
【解決手段】 第１のワーク保持板１には、矩形状のワークＷを複数個収納する矩形状の収納凹部１１と、当該収納凹部の一部を貫通させてなる窓部１２と、前記収納凹部の角には当該角より大きな貫通孔を形成し、第２のワーク保持板には前記貫通孔に対応した位置に第２の窓を形成してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 マスクに付着した有機ＥＬ用の有機材料を除去することが可能な洗浄装置を提供する。
【解決手段】 本発明の洗浄装置は、マスク１０を所定の洗浄液により室温で洗浄処理する第１及び第２の洗浄槽２１，２２と、マスク１０を所定のリンス液により室温でリンス処理する第１及び第２のリンス槽５１，５２と、重力を起因とする応力によってマスク１０の金属薄膜に損傷を生じさせないように、水平以外の所定の角度を以って当該マスク１０を保持し、当該所定の角度を以って保持された当該マスク１０を第１及び第２の洗浄槽２１，２２及び第１及び第２のリンス槽５１，５２へ搬送する搬送装置２４０と、を備える。ここで、搬送装置２４０は、最初に水平な状態でマスク１０を保持した後、当該マスク１０を保持したまま、垂直方向に起き上がり、上記所定の角度を以って当該マスク１０を保持する。 （もっと読む）

【課題】 マスクに付着した有機ＥＬ用の有機材料を除去することが可能な洗浄装置を提供する。
【解決手段】 本発明の洗浄装置は、マスク１０を所定の洗浄液により洗浄処理する第１及び第２の洗浄槽２１，２２と、当該洗浄槽２１，２２の洗浄液を真空蒸留する真空蒸留器３０と、真空蒸留された洗浄液を室温に冷却する第１の冷却器３１と、第１の冷却器３１により冷却された洗浄液を第２の洗浄槽２２に還流させる第１の還流管１０１と、マスク１０を所定のリンス液によりリンス処理する第１及び第２のリンス槽５１，５２と、当該リンス槽５１，５２のリンス液を常圧下で蒸留する常圧蒸留器６０と、常圧蒸留されたリンス液を室温に冷却する第２の冷却器６１と、第２の冷却器６１により冷却されたリンス液を第２のリンス槽５２に還流させる第２の還流管１０２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 下部に液処理部を備え、その上に乾燥処理部を備え、前記液処理部と前記乾燥処理部との間がシャッタにより開閉自在である基板処理装置において、そのシャッタ上の液残りを減少させる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 洗浄処理装置１は、ウエハＷを液処理する液処理部２と、液処理部２の上側に設けられ、ウエハＷを乾燥させる乾燥処理部３と、液処理部２と乾燥処理部３との間でウエハＷを搬送するウエハガイド４と、液処理部２と乾燥処理部３との間を開閉し、その略中心に排液口９１が形成されたシャッタ１０と、排液口９１に接続されたアスピレータ９２と、排液口９１の開口上に設けられた吸引制御部材９３と、を有する。アスピレータ９２を動作させた際に、シャッタ１０の上面に沿って流れて排液口９１に流入する流体流れを吸引制御部材９３により生じさせ、シャッタ１０上の液残りを低減する。 （もっと読む）

【課題】処理システムに異常が発生しても，被処理体を確実に救済することができる処理方法及び処理システムを提供する。
【解決手段】被処理体を同種の処理液によって順次処理する２以上の処理工程を含む処理方法において，前記同種の処理液で被処理体を処理する２以上の処理工程のいずれかにおいて処理工程に異常が生じた場合に，他の同種の処理液で被処理体を処理する工程に切り換え，その後の処理工程を継続して行うこととした。また，処理システムに，同種の処理液を被処理体に供給する２以上の供給系統１５５，１９２と，前記２以上の供給系統１５５，１９２による供給の切り換えを行う制御部７とを備えた。 （もっと読む）

【課題】処理槽内の処理液の温度分布を略均一にすることにより、良好な基板処理を可能とする基板処理装置を提供する。
【解決手段】薬液調合槽５０のヒータ５３および処理槽２０のヒータ２９によってエッチング液の液温をエッチング温度に加温して維持する。また、エッチング温度以上のガス吐出温度に維持された窒素ガスを窒素ガス供給ノズル１２から処理槽２０の上部付近に向けて供給する。これにより、エッチング液２１からの熱移動を補償でき、エッチング液２１の各部分における温度分布を略均一に維持できるため、良好なエッチング処理を実行できる。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物を変形や損傷させずに、この被洗浄物の有する貫通孔を効果的に洗浄する洗浄方法及びその装置を提供すること。
【解決手段】洗浄装置１のチャンバー２内を仕切るように、ステンシルマスク６７をホルダー１１により固定配置してＡ室とＢ室に分離し、この両室を連通するバイパス３の弁３ａを開き、Ａ室の排出口６を閉じてチャンバー２内をＣＯ₂の臨界温度以上に保ち、Ｂ室に供給口４から臨界温度以上に加熱したＣＯ₂ガスを供給し、ＣＯ₂ガスを更に供給して圧力を高め、両室を等圧力の超臨界ＣＯ₂で満たした後に、バイパス弁３ａを閉じ、Ｂ室へ超臨界ＣＯ₂を加圧して供給し、Ａ室内との圧力差を形成する。これにより、高圧力のＢ室側から低圧力のＡ室側へステンシルマスク６７の貫通孔５９を通る超臨界ＣＯ₂の流れが生じ、この超臨界ＣＯ₂の運動エネルギーによって貫通孔５９を損傷させずに、貫通孔５９内のパーティクル２７を洗浄できる。 （もっと読む）