Fターム[3B201AB44]の内容

液体又は蒸気による洗浄 (28,239) | 被清浄物の取扱い (3,618) | 被清浄物を搬入する (3,073) | 被清浄物を支持手段 (938) | 収納手段 (372) | キャリア、ホルダー (171)

Fターム[3B201AB44]に分類される特許

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【課題】液切処理にかかる時間を短縮できる液切処理装置、液処理装置及び液切処理方法を提供する。
【解決手段】液処理装置1は、キャリア2に液処理を施す液処理部10と、液処理後のキャリア2が搬送される搬送部20とを有する。搬送部20は、搬送レール21と、液切処理部22とを有する。液切処理部22は、回転テーブル24と、回転テーブル24上に固定され、搬送レール21から搬送されるキャリア2を水平状態に保持する回転レール23と、回転テーブル24を回転駆動し、回転レール23に保持されたキャリアを高速回転させる駆動モータとを有する。 (もっと読む)


【課題】洗浄槽の上部からの洗浄液が漏れ出るのを抑制あるいは防止した、基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】略垂直姿勢の基板Wを上方から洗浄槽1内に収容し、基板Wの表面および裏面にそれぞれ対向しかつ略水平方向に延在して配置された管状部材2a1〜2a3,2a4〜2a6から、基板Wの両面にそれぞれ洗浄液を噴射して洗浄する基板洗浄装置Sである。基板Wの両面にそれぞれ対向する洗浄槽1の側壁11aと、側壁11a側に配置された管状部材2a1〜2a3,2a4〜2a6との間に形成される通気路F1に、邪魔板C1〜C3,C4〜C6を配設した。 (もっと読む)


【課題】硫酸の温度の変更に容易に対応可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】この基板処理装置は、硫酸と過酸化水素水とを混合して生成したレジスト剥離液を基板Wの表面に供給する。この基板処理装置は、レジスト剥離液を基板に向けて吐出するノズル2と、ノズル2に向けて過酸化水素水を流通させる過酸化水素水供給路30と、過酸化水素水供給路30上においてノズル2までの流路長が異なる複数の混合位置MP1,MP2,MP3,MP4にそれぞれ接続された複数の硫酸供給路31,32,33,34と、硫酸供給源25からの硫酸を前記複数の硫酸供給路から選択された硫酸供給路に導入する硫酸供給路選択ユニット35とを含む。 (もっと読む)


【課題】液体への投入・排出時におけるワークへの負荷を低減して、ワークの折損や装置からの脱落を防止できると共に、貯留槽からリークする液体の量を削減でき、また、装置全長を短縮することができる搬送装置を提供する。
【解決手段】この搬送装置1は、板状のワークWを貯留槽の液体に対して投入・排出を行う搬送装置において、前記ワークWの保持を行う保持部11、12、21、22を有すると共に回転可能に支持されたワーク保持手段10、20を備え、前記ワークWを保持させた前記ワーク保持手段10、20を回転させて該ワークWを前記貯留槽30の液体Lに対して投入・排出を行う。 (もっと読む)


【課題】基板のダメージを抑制することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、基板Wを水平に保持するスピンチャックと、基板Wの上面内の噴射領域T1に吹き付けられる処理液の液滴を生成する液滴ノズル5と、基板Wを保護する保護液を基板Wの上面に向けて吐出する保護液ノズル6とを含む。保護液ノズル6は、保護液が基板Wの上面に沿って噴射領域T1の方に流れるように基板Wの上面に対して斜めに保護液を吐出し、噴射領域T1が保護液の液膜で覆われている状態で処理液の液滴を噴射領域T1に衝突させる。 (もっと読む)


【課題】外周部の厚みが均一な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、ガラス基板前駆体を用いて磁気ディスク用ガラス基板を製造するものであって、該製造方法は、深さ方向に2相以上に分離した複数の液相を備えた洗浄浴を用いて実行される洗浄工程を含み、該洗浄工程は、洗浄浴の液相中最上相を除くいずれかの液相にガラス基板前駆体を浸漬させた後、最上相を通過させてガラス基板前駆体を引き上げる工程であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】光学部品の洗浄装置において、超音波洗浄による光学部品の洗浄ムラの発生を抑制することができるようにする。
【解決手段】洗浄装置1を、被洗浄物Wを洗浄する洗浄液3が貯留された洗浄槽2と、超音波振動子4aおよび超音波振動子4aによる超音波振動を伝達してホーン先端面4cから放射するホーン4bを有し、洗浄液3に挿入されたホーン先端面4cの前方に超音波振動によるキャビテーションを生成するキャビテーション生成部4と、を備え、キャビテーション生成部4によって生成されたキャビテーションを被洗浄物Wに当てて洗浄を行う構成とする。 (もっと読む)


【課題】洗浄工程数を減らし、さらに、基板に対する汚染粒子の再付着を防止する。
【解決手段】基板洗浄装置1は、基板Wを搬送する搬送部2と、その搬送部2により搬送される基板Wの被洗浄面Sに、酸化膜除去可能な液体中に酸化性ガスを溶存状態および微小気泡状態で有する洗浄液を供給する供給ノズル3とを備え、その供給ノズル3は、被洗浄面S上に到達した微小気泡がサイズ変化を抑えつつ基板Wの外縁まで移動する流速で洗浄液を供給する。 (もっと読む)


【課題】 希少金属層が設けられている基板から希少金属を剥離処理して、当該希少金属を高い効率で回収できる金属回収機構を有する基板処理装置の提供。
【解決手段】 基板を載置するステージ部Fと、
水蒸気及び水を含む混相流体を前記基板に噴射して前記基板上の希少金属を剥離する、混相流体噴射部Eと、
槽壁171、前記混相廃物を排出する排出管172、を有するチャンバ部Iと、
前記排出管から送られる混相廃物を液相と気相とに分離する気液分離機構181、該気液分離機構により分離された液相から希少金属を回収する固液分離手段182を有する、混相廃物中の液相に存在する希少金属を回収する第一処理部Gと、
前記第一処理部の気液分離機構から送られる気相に含まれる希少金属を回収するサイクロン式分離機構191を有する、混相廃物中の気相に存在する希少金属を回収する第二処理部Hと、
を具備する基板処理装置100。 (もっと読む)


【課題】基板を洗浄する回転ブラシに、汚染粒子が静電吸着されることを防止することができる基板洗浄装置、基板洗浄方法、表示装置の製造装置及び表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板洗浄装置1は、基板9を搬送する搬送機構2と、基板9との摩擦によりマイナスに帯電する材料で形成され、基板9に接触して回転することにより基板9に付着している汚染粒子を除去する回転ブラシ3と、マイナスに帯電している微小気泡を含む洗浄液を回転ブラシ3に向けて供給する第1洗浄液供給部6と、を備える。 (もっと読む)


【課題】基板に形成されたレジストを除去する際のレジストの残渣の発生を抑える一方で、基板を洗浄する際の洗浄能力の低下を図る。
【解決手段】被噴射体噴射装置は、回転軸41を有し、回転軸41の回転によって基板を回転させるスピンナー40と、基板に相対する位置であってスピンナー40の回転軸41からずれて配置され、被噴射体を噴射するノズル24及びノズル25と、を備え、スピンナー40の回転軸41の方向に見て、ノズル24の噴射口24Aがスピンナー40の回転軸41が回転する向きと向き合っており、ノズル25の噴射口25Aが第一ノズル24の噴射口24Aの向きとは逆向きである。 (もっと読む)


【課題】表面処理に使用した処理容器を簡単な作動で洗浄できる水洗装置を、提供すること。
【解決手段】処理容器9を載せる受板71と、受板71に処理容器9を固定する固定機構と、受板71及び処理容器9を共に上下反転させる反転機構と、上下反転された処理容器9を下方から覆うホッパ74と、を備えており、上下反転された処理容器9内に、噴出部から水を吹きかけて、処理容器9内を水洗するよう、構成されていることを特徴とする水洗装置である。 (もっと読む)


【課題】ノズル本体のノズル孔の内周面に付着した付着物を確実に除去できるようにする。
【解決手段】ノズル保持部30により、ノズル本体50の先端部を貯留槽20内の液媒体に浸漬させ、ノズル本体50の先端部が貯留槽20の底面と所定の間隙を存して対向するようにノズル本体50を保持する。そして、超音波振動子21によってノズル本体50を振動させている間に、吸引部40によってノズル本体50のノズル孔50aを介して液媒体を吸引する。 (もっと読む)


【課題】従来よりも省スペース化、省電力化及び低価格を実現する。
【解決手段】基板洗浄乾燥装置Aは、上部が開口6aであり、垂直姿勢のプリント基板Pを当該開口6aから収容かつ排出する乾燥槽6と、当該乾燥槽6内のプリント基板Pに両面から圧縮空気を噴射する圧縮空気噴射ノズル7と、圧縮空気を発生するコンプレッサ8と、コンプレッサ8から導入された圧縮空気を圧縮空気噴射ノズル7に導入する分岐部10と、コンプレッサ8と後段の分岐部10との接続を開閉する開閉弁9と、乾燥槽6内のプリント基板6を両面から加温するヒータ11と、ヒータ11に電力を供給する電源12と、コンプレッサ8、開閉弁9、ヒータ11及び電源12を制御する制御部13とを具備し、圧縮空気噴射ノズル7は、プリント基板Pの乾燥槽6への進入方向においてヒータ11よりも手前に設けられている (もっと読む)


【課題】チャンバー内のダクトから遠い位置にあるミストもダクト側に運ぶことができ、従来よりも効率よくチャンバー内を排気する。
【解決手段】チャンバー40内の保持テーブル10上にワークWを保持し、保持テーブル10を回転させた状態でワークWの上面に洗浄水Cを供給するスピンナ洗浄装置において、保持テーブル10の外周側面12に形成した複数の羽13によって保持テーブル10の外周周囲に該外周周囲に沿った空気の流れを発生させ、この空気の流れによってチャンバー40内におけるダクト50の反対側のミストもダクト50側に導く。 (もっと読む)


【課題】基板上に形成されたパターンの破損を回避しつつ、基板に対する洗浄能力を低下させずに洗浄を行うことができる。
【解決手段】基板上を複数の領域に区切り、領域毎にその位置情報とパターン情報を取得する情報取得部11と、位置情報とパターン情報に基づいて、領域毎に基板に薬液を吐出するときの処理条件を決定する条件決定部12と、基板に薬液を吐出する吐出部15と、吐出部15を基板の一端から他端への第1方向に向かって基板に対して相対的に移動する位置制御部13と、位置制御部13により移動される吐出部15が基板上の領域の上方を通過するとき、前記処理条件に従って吐出部15から吐出される薬液の圧力を調整する吐出調整部14とを備える。 (もっと読む)


【課題】従来よりコンパクト化することが可能な浸漬装置の提供を目的とする。
【解決手段】本発明の電着処理装置10は、ワークWに電着被膜を形成するための表面の電着塗料を貯留した円形の電着処理槽11と、電着処理槽11内の電着塗料を一方向に旋回させる起流ポンプ15と、ワークWを吊り下げて、電着塗料に浸した状態に保持するワーク治具20と、電着塗料中の異物を取り除くためのフィルタ16とを備えている。電着処理槽11を円形にしたことで電着処理装置10が従来よりもコンパクト化され、設置の自由度が向上する。 (もっと読む)


【課題】 基板面内や基板間の処理のバラツキを低減することができるとともに、製品性能や製造歩留を向上させる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 処理基板1が収容される槽TKと、処理槽TK内に液体、気体、又は液体と気体との両方を送り出す送出機構TB、Aと、処理基板1に対して、液体、気体、又は気体と液体との両方が槽TK内へ送り出される位置と対向する位置から槽TK内の液体、気体、又は気体と液体との両方を排出する排出手段10、20、30、40と、を備えた基板処理装置。 (もっと読む)


【課題】 洗浄液に溶解している気体の濃度を制御することで、被洗浄物へ洗浄効果を高めると同時に、気泡による被洗浄物へのダメージを最小限に抑えることができる超音波洗浄装置を提供すること。
【解決手段】 超音波洗浄装置1は、洗浄液700に対して超音波振動を照射する振動子200と、超音波振動を照射された洗浄液700を用いて被洗浄物800を超音波洗浄処理する洗浄処理部100と、振動子200を超音波振動させるために、電気信号を振動子200に付与する発振器300と、洗浄液700に気体410を溶解する気体溶解部400と、洗浄液700において超音波振動から音圧Pを測定する音圧測定部560と、洗浄液700を脱気する脱気部580と、音圧測定部560によって測定された音圧Pを基に、脱気部580を制御して洗浄液700に対する気体410の脱気量を制御する制御部600とを有している。 (もっと読む)


【課題】基板の洗浄処理を効率よく行うことができ、設置スペースを小さくすることができる基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】供給台30と、回収台36と、供給台30から回収台36までの搬送経路に沿って配置され、基板を洗浄する一連の洗浄処理工程を行う複数個の洗浄処理槽22,24,26と、互いに隣接する洗浄処理槽22,24,26の間に配置された仮置台32,34と、基板が収納されたラック2,4,6,8を搬送する複数の搬送アーム部44,46,48とを備える。搬送アーム部44,46,48は、それぞれ、搬送経路の互いに異なる区間において、基板が収納されたラック2,4,6,8を、供給台30又は仮置台32,34から洗浄処理槽22,24,26に搬送する第1の動作と、洗浄処理槽22,24,26から仮置台32,34又は回収台36に搬送する第2の動作とを繰り返す。 (もっと読む)


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