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Fターム[3B201AB47]の内容

液体又は蒸気による洗浄 (28,239) | 被清浄物の取扱い (3,618) | 被清浄物を搬入する (3,073) | 被清浄物を支持手段 (938) | 押さえ手段 (267)

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【課題】被処理体の一面側の洗浄領域に洗浄液を局所的に供給して、被処理体の側面や他面側への洗浄液の回り込みを防止できる洗浄処理装置を提供する。
【解決手段】被処理体であるテンプレートTの転写パターン(洗浄領域)を当該転写パターンが下方に向くように保持機構4により吸着保持する。前記転写パターンを含み、テンプレートTの外縁よりも内方側の領域との間に洗浄液を満たして通流させるための通流空間を液収容部31により形成し、前記通流空間に液収容部31の底面に形成された第1の開口部31aからリンス液を供給し、前記転写パターンを囲むように液収容部31と転写パターン2外側領域との間に形成された隙間30を介して排液部32に排液する。リンス液は液収容部31内を通流するので、洗浄領域に局所的に供給され、テンプレートTの側面や他面側への洗浄液の回り込みを抑えながら洗浄処理を行うことができる。 (もっと読む)


【課題】処理対象基板を良好に迅速に基板処理溶液で処理することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置100は、溶液保持容器130に収容されている基板処理溶液TLに処理対象基板PBが浸漬される。このような溶液保持容器130に溶液供給機構141が基板処理溶液TLを上方から下方に落下させて順次供給する。このように上方から下方に落下する基板処理溶液TLを溶液乱流機構142が処理対象基板PBの一面の基板処理領域TSに圧送する。このため、処理対象基板PBの一面の基板処理領域TSは基板処理溶液TLが単純に上方から下方へ落下するだけではなく、乱流となって圧送されることになる。 (もっと読む)


【課題】基板洗浄工程中に電析の発生を防止しつつ基板の状態を観察することが可能な基板洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】発電層が形成された基板12を洗浄する洗浄部と、それらの上流側に設けられて、基板12を基板搬入口から洗浄部に搬入する搬入部と、洗浄された基板12の発電層を乾燥させる乾燥部と、乾燥部の下流側に設けられて乾燥した基板12を基板搬出口へ搬出する搬出部と、基板搬入口を除く搬入部、洗浄部、乾燥部、基板搬出口を除く搬出部内に入射する光を遮断する光遮断手段9と、それに設けられる観察窓10と、観察窓10から入射する光のうち発電層の発電に寄与する波長の少なくとも一部を遮断し、発電層の発電電圧を波長の少なくとも一部を遮光しない場合の発電電圧の1/10以下にする光透過手段と、を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】養殖貝の洗浄作業を船上で効率よく安全確実に行う。
【解決手段】洗浄装置1の本体3の正面側で、入口側6から出口側7に亙り養殖紐70を通過させるスリット溝9を搬送コンベア20の搬送面とほぼ同一高さで水平方向に形成し、搬送コンベア20と保持コンベア30を構成する無端ベルト21は、同一形状に形成した多数の連結片をそれぞれ互い違いに組み合わせて全体を網目状に形成してなり、保持コンベア30の無端ベルトに、一定の張りを持たせる固定テンション調整部60と、洗浄中に保持コンベア30がたわむのを防止する可動テンション調整部65をそれぞれ取付けてなる。 (もっと読む)


【課題】瞬間的な洗浄後に直ちに蒸発する高温高圧のスチーム特性を利用し、フラックスによって汚染されたフラックスツールやアタッチツールなどのフラックスによる汚染物を、瞬間的に早く、かつ正確に洗浄することによって、洗浄時間はもとより、乾燥時間及びクーリング時間を画期的に短縮させるフラックス洗浄装置を提供する。
【解決手段】本体と、前記本体に設置され、フラックスが付着した対象物が搭載される搭載台と、前記本体に設置され、前記フラックスが付着した対象物に残留するフラックスなどの異物を除去するために、前記搭載台に搭載されたフラックスが付着した対象物に向かってスチームを噴射する少なくとも一つのスチーム噴射ノズルと、前記本体に設置され、前記スチーム噴射ノズルにスチームを供給するスチーム供給装置とを有してなる。 (もっと読む)


【課題】フットプリントを小さくすることができ、排気と排液との分離機構を特別に設ける必要のない液処理装置を提供すること。
【解決手段】排気・排液部6は、主にウエハWから振り切られた処理液を取り入れて排液する環状をなす排液カップ41と、排液カップ41の外側を囲繞するように設けられ、回転カップ3およびその周囲からの主に気体成分を取り入れて排気する排気カップ42とを有し、回転カップ3は環状の庇部材32を含み、排液カップ41は、庇部材32の下側で回転カップ3に形成された排出孔33,34を通してウエハWから振り切られた処理液を取り入れて排液口43から排液し、排気カップ42は、庇部材32の上側で排気カップ42に形成された導入口42bを通して回転カップ3の周囲からの気体成分を取り入れて排気口45から排気し、排液カップ41からの排液と排気カップ42からの排気が独立して行われる。 (もっと読む)


【課題】長尺方向に走行する織編物に対して、できるだけ少ない量の薬液を付与し、この薬液でもって織編物内部への薬液の十分な含浸を得ると共に、続く乾燥工程における省エネルギーに寄与できる薬液の少量付与を可能とする。
【解決手段】第1薬液が塗布された第1グラビア塗工ロールの周面上に織編物の一方面側が接すると同時に、当該織編物を第1グラビア塗工ロールに対して、第1押圧ロールにより、0.05MPa〜0.5MPaの押圧力で押圧して、第1薬液を織編物に対して一方面側から含浸する第1含浸工程と、第2薬液が塗布された第2グラビア塗工ロールの周面上に織編物の他方面側が接すると同時に、当該織編物を第2グラビア塗工ロールに対して、第2押圧ロールにより、0.05MPa〜0.5MPaの押圧力で押圧して、第2薬液を織編物に対して他方面側から含浸する第2含浸工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】薄板部材を破損させることなく効率良く薄板部材を洗浄することを可能とする薄板部材洗浄装置を提供する。
【解決手段】流水プレート520の流水孔520aから降り注がれた水道水は、回転支持部材540Aに設けられた外側回転羽根543および内側回転羽根544に当接することで、回転支持部材540Aを回転させる。また、メッシュ部材保持部545Aに保持されたメッシュ部材160に注がれた水道水は、メッシュ部材160の回転による遠心力に基づき、メッシュ部材160の表面および裏面を流れ、メッシュ部材160に付着している薬液カスを除去される。メッシュ部材160から除去された薬液カスは、そのまま水道水により流体排出用開口部550aから薄板部材洗浄装置500Aの外部に排出される。 (もっと読む)


【課題】従来の線材を走行方向に沿って上下からのワイピング作業や線材を輪取りした状態で行う超音波洗浄では、線材表面に強固に付着している潤滑剤の残渣を確実に除去することが不可能な場合がある。
【解決手段】潤滑剤を用いて伸線加工された線材を湯水による洗浄水中で走行させ、その洗浄水中で走行方向に沿ってワイピングクロスによる挟持部で複数個所異なる角度で挟持すると共にその挟持部を走行方向と直交する方向に振動させることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】洗浄後の医療器具を洗浄装置から加熱滅菌装置に移す際に個別に移す必要がなく、かつ短時間で容易に移すことができるようにした洗浄装置を提供する。
【解決手段】表面にブラシ状の耐熱性弾力体を有し、洗浄対象物を載置する網状の耐熱性載置板と、少なくとも蓋内面にブラシ状の弾力体を有し、洗浄対象物を載せた耐熱性載置板を収納後、蓋をして施錠可能な籠状のトレイ20と、耐熱性載置板を収納したトレイを回転させる回転手段13と、耐熱性載置板を収納したトレイを回転手段で回転中に、水を噴霧して洗浄する水噴霧手段31、33、34と、水噴霧手段で耐熱性載置板を収納したトレイに噴霧の後、トレイに空気を吹き付ける送風手段35と、を備えた。 (もっと読む)


【課題】装置全体の小型化に寄与するとともに、高さの異なるコンテナを混在して洗浄する場合であってもコンテナを適正な力で押さえることのできる洗浄装置を提供する。
【解決手段】装置本体4内に配置された被洗浄物の載置台24と、載置台24を水平方向に回転させる回転駆動手段26と、外力が加えられることにより、装置本体4の操作用開口10を閉塞あるいは開放のいずれかの位置に移動する扉体16と、を備えた洗浄装置であって、扉体16の天井部裏面に、扉体16の移動とともに上下方向に移動し、その扉体16が上方位置から下方位置に移動する第1の移動を行なうときに、載置台24に配置されたコンテナ17の上面に押さえ部材32が当接し、扉体16が下方位置から上方位置に移動する第2の移動を行なうときに、載置台24に配置されたコンテナ17の上面に対する押さえ部材32の当接を解除する押さえ手段30と、が具備されていることを特徴としててる。 (もっと読む)


【課題】焼き網の洗浄装置において、従前より各々の方法がとられ、また装置が使用されているが、1枚ごとの洗浄のために処理能力に問題があった。
【解決手段】搬送ベルト上に焼き網1枚分の移動を規制する部材を設け、その上に複数枚の焼き網を重ねた状態にて、その上部より高圧の角度を変化させ、回転した洗浄水を噴射し通過させることにより、焼き網どうしが擦り合い研磨作用を発生させ数枚同時に洗浄可能となるため処理能力を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】基板の下面への処理液による処理時にのみ対向部材を当該基板の下面に近接させることができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】下面処理液配管10の管壁の途中部には、ベローズ部24が設けられている。下面処理液配管10内を処理液が流通するときは、その処理液の圧力によってベローズ部24が伸長状態となり、下面処理液配管10内を処理液が流通しないときよりも、下面処理液配管10の配管長が長くなる。下面処理液配管10の上端部に、対向棒20が固定されている。処理液の吐出時には、対向棒20を前記近接位置に位置し、また、処理液を吐出しないときは、対向棒20を前記離間位置に位置する。 (もっと読む)


【課題】洗浄準備が煩雑で且つ多数本のチューブ状器具の洗浄が困難な従来の洗浄装置の課題を解消する。
【解決手段】複数本のチューブ状器具Tが、長軸に沿って収容可能に形成された筒状容器であって、筒状容器の一端側に洗浄液が供給される供給口20が形成されていると共に、供給口20から供給されてチューブ状器具Tの各内腔を洗浄した洗浄液が排出される排出口22が筒状容器の他端側に形成されている洗浄容器14と、洗浄容器14が挿入される洗浄槽内に設けられ、洗浄容器14の一端側を着脱可能に把持する把持部と、前記把持部に把持された洗浄容器14の供給口20に、洗浄水を供給する洗浄水の供給手段と、チューブ状器具T内に洗浄水が通液されるように、筒状容器14の内圧を所定圧力に調整する圧力調整手段とを具備する。 (もっと読む)


【課題】処理を行う基板に対して歩留りが低下するのを防止できる基板処理装置、基板処理方法、及び表示装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明にかかる基板処理装置100は、基板101に処理液を供給してスピン処理を行う基板処理装置100であって、基板101を保持して回転させる吸着ステージ102と、吸着ステージ102上に載置された基板101を支持する支持ピン103と、支持ピン103が複数設けられたリング104と、リング104を上下に移動させるベローズバルブ105と、を備えるものである。 (もっと読む)


【課題】 一対の通水用面材を有するケース内に夫々平行に配設された多数本の杆状の器具押さえパッドにより、洗浄するべきマイクロ器具を閉じ込めた状態でジェット洗浄などで洗浄するに用いられる洗浄器において、高さや太さの異なる全てのマイクロ器具を、その高さか太さに応じて器具押さえパッド間に円滑且つ安定良好に閉じ込め、洗浄し得られるようにした洗浄器を提供する。
【解決手段】 通水用多孔面材2bを有する筐体2内に、その対向枠壁間2a,2aに亘り杆状の器具押さえパッド3,3,…の多数本を平行に配設して成るケース1の一対をその各開口面を対向させて互いに開閉自在として成る洗浄器において、両ケース1,1の少なくともいずれか一方のケース1内に配設して成る各器具押さえパッド3をばね6により上下方向に可動自在に支持せしめた。 (もっと読む)


【課題】所望の時期に、スクラブ洗浄に用いられるパッド等のスクラブ部材から、付着物を除去する。
【解決手段】本発明は、被洗浄物Dのスクラブ洗浄用のスクラブ部材14を浄化するように構成されたスクラブ部材浄化装置10であって、スクラブ部材浄化用の付着物除去部材39を備え、該付着物除去部材39は、被洗浄物Dのスクラブ洗浄の際、スクラブ部材14の表面部分が被洗浄物Dから離れて再び該被洗浄物Dに接するまでに通る軌跡上に、付着物除去部材39の表面部分が位置するように、配置される。 (もっと読む)


【課題】この発明は基板に所定温度に加熱された処理液を確実に供給することができるようにした処理装置を提供することにある。
【解決手段】処理液が貯えられる貯液タンク32と、貯液タンクに貯えられた処理液を基板に噴射するための上部ノズル体31に給液管路33を通じて供給する供給ポンプ34と、給液管路に設けられ上部ノズル体に供給する処理液を所定温度に加熱する第1の加熱ヒータ37と、上部ノズル体が基板の上面から外れた待機位置にあるときに供給ポンプによって上部ノズル体から噴射される処理液の温度を測定する温度センサ43と、温度センサが測定した処理液の温度が所定温度であることを検出したときにその検出に基いて上部ノズル体を基板の上方に移動させて上記処理液を噴射させる制御装置を具備する。 (もっと読む)


【課題】酸素濃度を低減した処理液で基板を処理できる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】基板処理装置1は、基板Wを保持するスピンチャック3と、スピンチャック3に保持された基板Wに対向する基板対向面34を有し、基板対向面34の周囲からスピンチャック3に向かって突出した周壁部32が形成された遮断板6と、スピンチャック3に保持された基板Wに処理液を供給する第1上側処理液供給管35とを備えている。第1上側処理液供給管35には、第2上側処理液供給管38を介して第1配管内調合ユニット51から薬液が供給される。この薬液は、薬液原液と、不活性ガス溶存水生成ユニット50によって純水中の酸素が脱気され、当該純水中に不活性ガスが添加されて生成された不活性ガス溶存水とが第1混合部59内で混合されることにより調合されたものである。 (もっと読む)


【課題】基板を品質よく処理することができる基板処理装置、ガス溶解液供給方法、および、基板処理方法を提供する。
【解決手段】二流体ノズル21と、二酸化炭素が溶解された炭酸ガス溶解水を二流体ノズルに供給する溶解液供給管22と、炭酸ガス溶解水の溶存ガスと同じ二酸化炭素をキャリアガスとして二流体ノズル21に供給するキャリアガス供給管23と、を備えている。二流体ノズル21は、炭酸ガス溶解水の液滴をキャリアガス(二酸化炭素)とともに基板Wに噴射する。噴射された炭酸ガス溶解水は溶解濃度が比較的に高い状態で基板Wに着液する。よって、基板を品質よく処理することができる。 (もっと読む)


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