【課題】研磨材や研磨屑等の無機粒子に対する洗浄性が向上したガラスハードディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】以下の工程（１）〜（４）を含む、ガラスハードディスク基板の製造方法。（１）ｐＨが１．０〜４．０である研磨液組成物を用いて被研磨ガラス基板を研磨する工程。（２）工程（１）で得られた基板を、ｐＨ１．０〜４．０の酸性洗浄剤組成物Ａに浸漬しながら、洗浄工程（３）に搬送する工程。（３）工程（２）で搬送された基板を、ｐＨ８．０〜１３．０のアルカリ性洗浄剤組成物Ｂを用いて浸漬洗浄する工程。（４）工程（３）で得られた基板を、ｐＨ１．０〜４．０の酸性洗浄剤組成物Ｃを用いてスクラブ洗浄する工程。 （もっと読む）

【課題】電子部品などのアルミ使用部材やガラス使用部材等を切削・研磨した後に残る切削片、研磨材や研磨片などのパーティクル除去性に優れた水系洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）ヒドロキシカルボン酸およびこれらの塩からなる群より選ばれた少なくとも１種０．１〜２５重量％、（ｂ）配位子数が１０個以下である有機ホスホン酸およびこれらの塩からなる群より選ばれた少なくとも１種０．１〜２５重量％、及び（ｃ）配位子数が１１個以上である有機ホスホン酸およびこれらの塩からなる群より選ばれた少なくとも１種０．１〜２５重量％を含有するものとする。 （もっと読む）

【課題】廃プラスチック類に付着した有機物を、分解し脱臭処理すること。
【解決手段】スラリー槽１０に破砕された廃プラスチック類を入れ、過酸化水素１２と硫酸第１鉄１３と循環水１４を加え、かつ酸性に調整して攪拌する。フェントン洗浄タンク２０は、上下方向に多数の層２０ａ、２０ｂ、２０ｃに分割され、各層を貫いた回転軸２２が攪拌羽根２３ａ、２３ｂ、２３ｃを回転させる。層を隔てる仕切り板２４ａ、２４ｂには連通孔４８が設けられている。フェントン洗浄タンク３０も同様な構成であり、夫々の最下層同士が配管４０で接続されている。配管１８からフェントン洗浄タンク２０の最上層に攪拌された廃プラスチック類が投入され、フェントン洗浄タンク３０の最上層から廃プラスチック類をオーバーフローさせる。 （もっと読む）

【課題】基板表面に形成されたパターンへのダメージを抑制しながら基板表面を良好に洗浄処理することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】 基板保持手段１１に保持され、洗浄液としてのＤＩＷの液膜が形成された基板Ｗの表面Ｗｆに対し、媒介液供給機構５５から媒介液としてのトルエンを供給し、ＤＩＷの液膜の上にトルエンの液膜を更に形成する。その後、超音波付与機構５１によりトルエンを介してＤＩＷに超音波を付与しながら、凝固手段３１から基板表面Ｗｆに凍結用の窒素ガスを吐出し、ＤＩＷを凝固させる。これにより、結晶サイズの小さいＤＩＷの凝固体を形成し、その後のリンス工程で短時間に解凍することを可能とし、リンス液中に遊離するＤＩＷの結晶を減少し、パターンへのダメージを防止する。 （もっと読む）

【課題】使用できるスペースに制限のある作業場所においても、塗料の洗浄によって生じた廃水を適正に処理可能な器具類の付着物の洗浄装置を提供する。
【解決手段】水性塗料又はその他の汚れが付着している器具類を水で洗浄した洗浄廃水を貯留可能であり、洗浄廃水に対して中和と凝集を含む必要な処理を行うために、洗浄廃水を溜めるときは排水口１３を閉じ、洗浄廃水を排出するときには排水口を開く開閉部２０を設けた貯留槽１４と、上記貯留槽内部に着脱可能に配置され、必要な処理の行なわれた洗浄廃水を槽外部へ排出する際に凝集分ないし固形分を捕集する粗フィルターを備えた第１の分離手段と、上記貯留槽から排出された洗浄廃水を受け入れ、第１の分離手段を通過した固形分を捕集するために、上記粗フィルターよりも細かいメッシュを持つ細フィルターを備えた第２の分離手段を具備する。 （もっと読む）

【課題】タンクから供給ローラ、回転軸及び軸受けを介して洗浄液が漏れることがない洗浄機を提供する。
【解決手段】洗浄液が注入された有底無蓋のタンクと、回転軸が水平で洗浄液に浸るように配置された供給ローラと、供給ローラの真上に平行、かつ接触するように配置され、回転軸が回転駆動される洗浄ローラと、を備え、供給ローラと洗浄ローラとの間で板状部材を洗浄する洗浄機において、洗浄ローラの回転軸の洗浄ローラの両端近傍に設けられた円盤状の洗浄ローラ側仕切り板と、供給ローラの回転軸の供給ローラの両端近傍に洗浄ローラ側仕切り板の外側と洗浄液に接触するように設けられた円盤状の供給ローラ側仕切り板と、を有する。 （もっと読む）

【課題】金属屑から分離した異物が金属屑に再付着することを抑制することができる金属屑の洗浄装置を得る。
【解決手段】異物５が付着した金属屑６が内側に入れられ、洗浄水１を貯留する洗浄槽２と、金属屑６を攪拌する攪拌機７と、洗浄槽２に貯留された洗浄水１に気泡３を供給し、気泡３を異物５に吸着させ、異物５を金属屑６から分離させ、気泡３が洗浄水１の水面に向かって浮上するのに伴って異物５を浮上させる気泡生成器４と、洗浄水１を洗浄槽２からオーバーフローさせて、異物５を洗浄槽２の外側へ排出する異物排出手段１１とを備えている。 （もっと読む）

【課題】エッチング処理した場合と比べて、渦電流損をさらに低減した回転電気機械用鋼板を得ることできる回転電気機械用鋼板の製造方法を提供することにある。
【解決手段】回転電気機械のコアを構成する回転電気機械用鋼板の製造方法であって、鋼板１０の表面１０ａをエッチング処理した後に、エッチング処理した鋼板１０の表面１０ａに圧力Ｆ１を付与する圧力付与処理を行って、当該鋼板１０の表面１０ａ近傍の粒界に生成した腐食生成物を除去して空隙１０ｃを形成する。 （もっと読む）

【課題】ブラシに付着した異物を十分に除去し得るブラシの洗浄方法を提供する。
【解決手段】スクラブ洗浄に用いられたブラシ１４を洗浄槽２２内に貯留された洗浄液４４に浸漬し、洗浄液に超音波振動を印加するステップと、ブラシを洗浄槽内に設けられた洗浄用基板２４に接触させながら回転させるステップとを有している。 （もっと読む）

【課題】
水まわり設備等に適用される、水流への耐水性を備えた徐溶性被膜を形成可能な洗浄剤を提供する。
【解決手段】
本発明の洗浄剤は、亜鉛（ＩＩ）イオンの塩と、ポリアクリルアミドと、界面活性剤と、溶媒としての水とを含んでなり、前記塩が０．０１ｍＭ以上１００ｍＭ以下、ポリアクリルアミドが洗浄剤の液剤に対して０．００１質量％以上１０質量％以下含有されてなり、前記塩の物質量（ｍｏｌ）の、ポリアクリルアミドの単位構造の物質量（ｍｏｌ）に対する比率が１／１００以上１０以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被洗浄体Ｗの表面を損傷することなく、環境の汚染を可及的に抑えて表面にこびり付いた汚染物質を洗浄できる超音波洗浄装置を提供すること。
【解決手段】一端に縦振動モードの超音波振動子１が固定されたホーン２の他端に被洗浄体の硬度と略同一な粉末を研磨剤とする研磨板３が固定され、ホーン３の少なくも研磨板近傍にはホーン２の振動を阻害せずかつ水密性を維持する筒状体４が研磨板３を被洗浄物の表面に当接できるように配置され、筒状体４に液を供給する手段が接続されている。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板の製造における液処理工程において、ガラス基板を保持する基板ホルダ自体から、或いは基板ホルダとガラス基板の接触による発塵を防止し、低フライングハイト化の阻害やサーマルアスペリティの要因となるガラス基板上の微小異物の付着を低減できる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】磁気ディスク用ガラス基板の製造における液処理工程、例えば洗浄処理工程において、少なくとも表面部が、ガラス基板よりも硬度が低く、かつ、強度の高い樹脂からなる基板ホルダ２０でガラス基板１０を保持して上記液処理工程を行う。 （もっと読む）

フェニル置換アルキルアルコール、フェニル置換アルキルアルコール以外の酸素化膨潤溶媒、水、組成物が単相を有するのに十分な結合剤、及び、鹸化剤を含まない他の類似組成物と比較したときに、組成物がアルカリ性ｐＨを有し、かつ剥離後に減少した油性残留物を有するように、脂肪酸又は脂肪酸エステルと化学量論的に過剰なアルカリ金属水酸化物又は水酸化アンモニウムの反応物を含む十分な鹸化剤を含む床剥離剤／洗浄剤組成物を用いて、床仕上げ剤が剥離又はディープ・スクラブされる。本組成物は、特に化学攻撃され易い床基材上で、超耐久性（例えば、架橋した）床仕上げ剤を除去するのに有用である。 （もっと読む）

【課題】汚れた靴を洗浄した際に水滴が滴下して室内を汚してしまう事が無く、靴全体が確実に洗浄される様な靴洗浄装置及び靴洗浄方法の提供。
【解決手段】本体部（１）と、洗浄用水を吐出する給水栓（２１）を設けた手洗部（２）と、洗浄用水を充填し且つ洗浄するべき靴を収容する事が出来るシンク部（超音波洗浄器４）とを有し、該シンク部（４）には、内部に溜まった水及び収容された靴（４０）に超音波振動を付加する超音波発生装置（例えば、圧電素子）と、シンク部（４）に溜まった水を排水する排水機構（６、Ｖ１）と、シンク部（４）に収容された靴（４０）を加熱して乾燥するための熱交換器（９）とが設けられ、該熱交換器（９）は温水供給源（１０）に連通している。 （もっと読む）

【課題】 スポンジ板を搬送している間にスポンジ板の搬送姿勢を前縁が搬送方向に対して直角な方向になるように正すことができるスポンジ板洗い機を提供する。
【解決手段】 正逆回転可能な供給側絞りローラ対６と、正逆回転可能な排出側絞りローラ対７と、供給側絞りローラ対と排出側絞りローラ対の間に位置する正逆回転可能な送りローラ対８とを備え、供給側絞りローラ対６と排出側絞りローラ対７の距離をスポンジ板５の搬送方向長さより大きくし、供給側絞りローラ対６と送りローラ対８間及び排出側絞りローラ対７と送りローラ対８間の距離を夫々スポンジ板５の搬送方向長さより小さくし、送りローラ対８の上下ローラ間の間隙をスポンジ板５の厚みより僅かに小さくしてある。 （もっと読む）

【課題】従来のバフの洗浄装置においては、手による揉み洗いで、洗浄し、天日乾燥か、強制脱水等による方法が一般的である。この方法は、能率が劣ること、厳寒時には大変に辛い作業であり、その改良が望まれていた。一部において、洗浄水を単にバフ装置に吹き付けて洗浄する方法では、バフ装置のバフの奥に付着した汚れが取れ難い等の問題がある。そして、また乾燥はエアを吹き付けることにより行なっているため、エアの供給が必要であった。
【構成】フレームに設けたケーシングにクロス状に軸支したローラと、洗浄水供給装置と、ホースとで構成した車輌、又は壁面用のバフを備えた電動工具清掃装置で、ケーシングの上面に水噴出用の孔を複数個開設し、この孔を洗浄水供給装置に連通し、またケーシングの上面に排水用の孔を複数個開設する構成とした車輌、又は壁面用のバフを備えた電動工具清掃装置である。 （もっと読む）

【課題】コンタクト部品のプローブ接点に付着したアルミのクズを適切に除去する。
【解決手段】アルミを含むパッドを有する半導体デバイスの電気的試験を行うために使用されるバンプ付きメンブレンリング１２の洗浄方法であって、バンプ付きメンブレンリング１２は、半導体デバイスのパッドと接触すべき、アルカリ耐性のある素材で形成された導電性のバンプ接点１０６を備え、バンプ付きメンブレンリング１２を用いて電気的試験を行った後に、バンプ接点１０６をアルカリ洗浄する。 （もっと読む）

本発明は、水性重合体組成物と、水性組成物から形成されたフィルムとに関する。水性組成物は、汚染物質を基板から除去するための方法において用いてよい。水性重合体組成物は、水と、少なくとも１つの水溶性フィルム形成性重合体とを含んでよい。一実施態様では、水性組成物は、少なくとも１つのキレート剤および／または少なくとも１つの界面活性剤をさらに含んでよい。水性重合体組成物は、汚染された基板に塗布してよく、あるいは、清浄な基板に塗布した後、基板を汚染物質に曝露させてよい。水性組成物を脱水させ、および／または、重合体を架橋させてフィルムを形成させてよい。汚染された基板に塗布されるとき、フィルムは汚染物と結合してよい。清浄な基板に塗布されるとき、後で汚染物質をフィルムと接触させ、フィルムに付着させてよい。汚染物質と結合したフィルムは、基板から分離させてよく、その結果は汚染物質の基板からの除去である。

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【課題】オフセット印刷機における圧胴上の汚れを簡便に除去することができる手段を提供し、洗浄性および安全性に優れた圧胴洗浄剤を提供する。
【解決手段】大豆から抽出された皮膜形成性を有する多糖類、モノテルペン系炭化水素及び脂肪酸トリグリセリドから選ばれる少なくとも一種の化合物、研磨剤、並びに水を含有することを特徴とする乳化型圧胴洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】本発明は、住人や作業者等への悪影響がなく、水質汚染のおそれもないハウスクリーニングシステムを提供する。
【解決手段】本発明のハウスクリーニングシステムは、ハウスにおける家具類１の対象物にマイナスイオン洗浄水をスプレーする行程と、マイナスイオン洗浄水がスプレーされた対象物を所要時間放置する行程と、マイナスイオン洗浄水のスプレーにより対象物から浮き上がった汚れ成分を乾布類で拭き取る行程とを含むものである。 （もっと読む）