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Fターム[3B201BB02]の内容

液体又は蒸気による洗浄 (28,239) | 流体的清浄手段 (13,243) | 浸漬 (1,811) | 洗浄槽 (907)

Fターム[3B201BB02]に分類される特許

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【課題】 簡素かつコンパクトな構成で、被洗浄面に対して、均一で高い洗浄度が確保できる洗浄装置を提供すること。
【解決手段】
洗浄装置本体2と、洗浄装置本体2の内側に形成される洗浄槽3と、洗浄槽3の内周壁4と、内周壁4に8個設けられる吐出口5と、吐出口5に連通する8個の吐出経路6と、内周壁4に8個設けられる第1の排出口7と、第1の排出口7に連通する第1の排出経路8と、洗浄槽3の上方で内側に突設されピストンWとのクリアランスが1.0〜1.5mmとなる洗浄液噴出防止壁9と、を備える洗浄装置1。 (もっと読む)


【課題】ワックス等の親水性の低い付着物を、水洗いによって簡単に洗い流すことを可能とする食物表面付着物の親水化方法を提供する。
【解決手段】静電霧化装置Aの霧化電極に水を供給し、供給された前記水に電圧を印加してナノメータサイズの帯電微粒子水を発生させる。この帯電微粒子水を、表面に付着物15が塗布された処理対象物1である食物に所定時間噴霧することで、付着物15の親水性を向上させる。これにより、その後の水洗いによって付着物15を簡単に洗い落とすことが可能となる。 (もっと読む)


【課題】精密工作機械の切削加工による加工部品に付着した切り粉及び切削油を水中洗浄ならびに空中洗浄で除去する切削加工部品洗浄装置を提供する。
【解決手段】精密工作機械の切削加工により加工部品に付着した切り粉及び切削油を水中洗浄ならびに空中洗浄で除去する切削加工部品洗浄装置10であって、前記被洗浄物にエアーブローを施す空圧除去領域部30と、前記被洗浄物を水中で洗浄する水中洗浄領域部と、前記空圧除去領域部と前記水中洗浄領域部40の間を上下に移動する昇降領域部50と、該昇降領域部及び前記空圧除去領域部30を制御する制御領域部70とを、其々本体領域部に配設した構成から成る手段を採る。 (もっと読む)


【解決手段】 複数の金属部品Wを収容した洗浄カゴBを洗浄液13内に浸漬させた状態において、対向位置の壁面3A、3Bの噴射ノズル21から同時に洗浄液13を噴射させると、相互に対向する位置の噴射ノズル21から噴射された洗浄液13が洗浄槽3内で衝突し、その衝突位置Xに洗浄液13による乱流が生じる。この状態において、調整手段22が壁面3Aの各噴射ノズル21の噴射圧力を徐々に大きくするとともに、壁面3Bの各噴射ノズル21の噴射圧力を徐々に小さくする。これにより、上記洗浄液13の衝突位置Xが洗浄槽3内で右方へ移動して、洗浄槽3内の洗浄液13が攪拌される。
【効果】 洗浄カゴB内の金属部品Wを満遍なく洗浄することができる。 (もっと読む)


【解決手段】 物品洗浄装置1は、洗浄液13を貯溜した洗浄槽3と、洗浄液13を攪拌する攪拌手段21とを備えている。攪拌手段21は、対向する壁面3A,3A’に配置された複数の噴射ノズル22と、複数の電磁開閉弁25とを備えており、それらの作動は制御手段26によって制御される。
複数の金属部品Wを収容した洗浄カゴBを洗浄液13内に浸漬させ、その状態において制御手段26がポンプPを作動させるとともに所要箇所の電磁開閉弁25を開放させる。すると、開放された電磁開閉弁25と対応する噴射ノズル22から洗浄液13が噴射されて、洗浄槽3内の洗浄液13は例えば時計方向に流動し、攪拌される。
【効果】 金属部品Wを効率的、かつ均一に洗浄することができる。 (もっと読む)


【課題】液処理工程中に基板を上方から支持する基板支持部、あるいは基板とともに回転する天板を基板へ供給されるリンス液を用いて洗浄する。
【解決手段】液処理装置100はウエハWを上方から支持する回転自在の基板支持部10と、基板支持部10の回転中心に設けられ少なくともリンス液をウエハWに対して供給するトッププレートノズル10nとを備えている。トッププレートノズル10nは基板支持部10に対して上下方向に移動可能となっており、トッププレートノズル10nを基板支持部10から離間した状態でトッププレートノズル10nからリンス液をウエハWに対して供給する。トッププレートノズル10nを基板支持部10に接近させた状態で、トッププレートノズル10nからリンス液を基板支持部10の下面に供給して洗浄する。 (もっと読む)


【課題】被洗浄物の均一な洗浄が行え、かつダメージを低減できる超音波洗浄装置を実現すること。
【解決手段】超音波洗浄装置は、被洗浄物8を洗浄液7で浸した洗浄槽2と、前記洗浄槽2の底面に配置され、前記洗浄液7を振動させる複数の超音波振動素子302と、前記素子毎の共振周波数を記憶するメモリ部409と、発振周波数を切り替え可能な発振部402と、前記素子302をランダムに切り替えて、前記メモリ部409に記憶された素子毎の共振周波数に基づいて前記発振部402を制御し、前記素子に高周波電力を供給する制御部401とを具備する。 (もっと読む)


【課題】 マイクロバブルの洗浄液中での分散性を向上させた洗浄装置を提供する。
【解決手段】 洗浄液の構成を、洗浄液を溜める洗浄槽と、超音波振動を供給する超音波振動子と、所定の方向の流れを形成するようにマイクロバブルを含有した洗浄液を供給する洗浄液供給系とし、超音波振動子を洗浄槽の内部底面との間に隙間を有し且つ所定の方向の洗浄液の流れと所定の方向とは異なる方向の洗浄液の流れの境界位置に超音波振動子を配置し、洗浄液供給系がこの隙間に向けて洗浄液を供給することとする。 (もっと読む)


【課題】磁気ディスク用ガラス基板において、ガラス基板表面の粗さを大きくすることなく、換言すると、ガラス基板表面の粗さが大きくなることを抑えつつ、ガラス基板表面に付着した金属汚染物質を効果的に除去する。
【解決手段】ガラス基板の洗浄工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、洗浄工程においては、シュウ酸イオンと鉄の2価イオンとを含む洗浄液7を用いて酸性条件下で洗浄を行い、洗浄工程と並行して、または、相前後して、洗浄液に含まれる2価の鉄イオンが酸化されて生成した3価の鉄イオンを紫外線照射2により還元する操作を行う。 (もっと読む)


【課題】蒸着マスクに強固に付着した付着物を、蒸着マスクにダメージを与えるおそれを低減しつつ、効率よく除去する蒸着マスク洗浄装置、蒸着マスク洗浄システムおよび蒸着マスク洗浄方法を提供する。
【解決手段】有機ELデバイスの製造工程に用いられる蒸着マスク16を洗浄するための蒸着マスク洗浄装置としての電解洗浄装置13は、蒸着マスク16を収容する洗浄槽としての電解槽20と、電解槽20にアルカリ性の電解液を供給するポンプ21および貯留槽22からなる電解液供給部と、洗浄槽内に設けられている陽極電極23および陰極電極24の電極と、陽極電極23および陰極電極24の電極間に通電する通電部26と、を備える。 (もっと読む)


【課題】蒸気タービンやガスタービン本体あるいはガスタービン圧縮機のロータを分解せずに洗浄することにより、ロータの表面に付着した錆スケール、動翼にできた孔食や微小き裂内の錆、腐食性物質を取り除く。
【解決手段】タービンロータ1、30の超音波洗浄方法において、ロータ植込部2aに動翼3を植設した状態のタービンロータ1、30を洗浄槽4A,4B内で一部または全体を洗浄溶液5に浸け、タービンロータ1、30を回転駆動モータ10により連続回転駆動または間欠回転駆動させ、洗浄槽4A、4B内の超音波振動子装置6に外部に設置した超音波発信器9から電力を供給して超音波振動させ、洗浄溶液にキャビテーションを発生させる。 (もっと読む)


【課題】中心部が非円筒形状となるように巻回された拭き取りシートを、円筒状の巻芯に巻き付け直すことなく容易に収容できるようにした付着物除去装置を提供する。
【解決手段】付着物Pの拭き取りに使用された後で巻回された拭き取りシートSは、収容ユニット20に収容される。巻回された拭き取りシートSの中心部には、軸部材25が挿通されており、拭き取りシートSが引き出されて回転すると、巻回された拭き取りシートSの中心部内を軸部材25が相対的に摺動しながら移動する。 (もっと読む)


【課題】
超音波洗浄において、被洗浄物表面の局所部分において生じるダメージを抑制し、かつ安定した洗浄性能を得るようにする。
【解決手段】
洗浄液を収容した処理槽の内部で被洗浄物を洗浄液に浸漬して保持し、超音波振動発信器によりある範囲で周波数を変化させて発生させた高周波電力を超音波振動発生部に印加して超音波振動を発生させ、この発生させた超音波振動を処理槽の内部の被洗浄物が浸漬されている洗浄液に伝播させ被洗浄物を超音波洗浄する超音波洗浄方法において、超音波振動発信器から超音波振動発生部に印加するある範囲で周波数を変化させて発生させた高周波電力のうち被洗浄物の共振周波数帯に相当する周波数帯の高周波電力を他の周波数帯の高周波電力に対して変化させて超音波振動発生部に印加するようにした。 (もっと読む)


【課題】確実な洗浄効果で洗浄時間を短縮、安定させ、撹拌洗浄で発生する泡を抑制し、次工程への取り出しの自動化、節水を図る。
【解決手段】被洗浄物を水の中で撹拌させて洗浄を行う洗浄装置であって、水平な回転軸7を中心とする半円筒面で小さな排水穴17があけられた底面とする断面がU字形状の洗浄槽1には、投入口2、シャッター15で開閉できる排出口15と取出口3が設けられている。
回転軸には撹拌板8が、螺旋状に配列させて取り付けられている、洗浄水位の保持に堰の形態のオーバーフロー13と、洗浄完了後の取り出し時の被洗浄物の排出を補助する放水管12を備えている。 (もっと読む)


【課題】水シミの発生を充分に抑制でき、しかも、安定に連続運転できる水切り乾燥方法を提供する。
【解決手段】処理槽4内の第1の処理液に、物品Wを浸漬させたまま、処理槽4内に第2の処理液を供給し、処理槽4の上部から第1の処理液を排出し、処理槽4内の第1の処理液を第2の処理液に置換する。物品Wを第2の処理液に浸漬させた状態に維持した後、第2の処理液から物品Wを引き上げる。この際に、第1の処理液としてアルコール水溶液を用い、第2の処理液として、フッ素系溶剤とアルコールとの混合液を用いる。 (もっと読む)


【課題】装置の小型化を図ることのできる洗浄装置を得る。
【解決手段】洗浄装置10には、洗浄対象物22を洗浄する洗浄部13と、当該洗浄部13内に液体を導入する導入路17eと、洗浄部13内の液体を洗浄部13から排出する排出路17aと、を少なくとも有する循環路18が形成されている。そして、循環路18の洗浄部13以外の部位に、電圧を印加することで放電を行う電極51a、51bを設けた。 (もっと読む)


【課題】被洗浄処理対象部に付着した物理的汚れを除去することができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄浄化装置40は、プラズマ発生装置1により生成された洗浄液中で洗浄対象物51を洗浄し、洗浄仕上げ時に洗浄対象物51に向けて注水部60より液体を注水する。 (もっと読む)


【課題】設備コストおよびエネルギーコストの面で優れた、むらなく浸漬処理を施すことが可能な線材コイルの浸漬処理装置を提供する。
【解決手段】線材コイル2をつり下げるためのフック1と処理液4で満たされた処理槽3とで構成される線材コイルの浸漬処理装置であって、フック1が、線材コイル2をフック1から分離させる一つ以上の分離用部材5を有し、フック1を処理槽3内に下降させることにより線材コイル2を処理液4に浸漬する線材コイルの浸漬処理装置。 (もっと読む)


【課題】被洗浄基板へのダメージの発生を抑えることができ、また、エレクトロニクス産業等で使用される高精密度の基板等に対して高清浄度の洗浄を行うことが可能な超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法を提供すること。
【解決手段】被洗浄物を超音波振動子の振動面から延びた垂線の液面までの成す領域(超音波照射領域)外の洗浄液の液面下の近傍に位置するように保持して、超音波によって洗浄液の表面に表面張力波を励起させ、被洗浄物に超音波を直接照射することなしに、表面張力波による音圧によって被洗浄物の微粒子汚染物を剥離するようにして、被洗浄基板へのダメージの発生を抑える。 (もっと読む)


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