【課題】 脱水カゴの回転駆動装置が不要になり、構造をコンパクトにさせると共に取り扱いを簡単にさせながら脱水カゴを万遍なく均一にきれいに水洗でき、かつ水洗に伴う水の飛散を防止して良好な作業環境下で水洗作業を行うことができるようにした脱水カゴの水洗技術の提供。
【解決手段】 上面が開口し、周壁１０及び底壁１１に多数の水切小孔１２が形成された円形の脱水カゴ１を水洗対象とし、洗浄空間Ｓに回転自在に設けた水平テーブル５上に伏せ状態にセットした脱水カゴの外周面に対して水を噴射して水洗させる周面向き噴射ノズル６０と、底外面に対して水を噴射させて水洗させる底面向き噴射ノズル６１を備え、周面向き噴射ノズル及び／又は底面向き噴射ノズルからの噴射水の勢いにより脱水カゴを回転させながら水洗させる。 （もっと読む）

【課題】
スプレー操作における管理の困難さがなく、またリンスと被洗浄面へのスプレーとの切替えという面倒な作業を不要とし、非常に操作性の良い吹付け洗浄方法の提供を目的とするものである。
【解決手段】
コンプレッサによる加圧状態において給水を２つの系統に分岐させ、１つの系統においては加圧した水を加温して高温とした高温水中に炭酸水素ナトリウムを添加しつつ、該炭酸水素ナトリウムを含んだ高温水を先端の吹付け用ノズルから被洗浄面へ吹付け、また他の系統においては加圧した水を先端の吹付け用ノズルから吹付けながら被洗浄面を水洗することにより、炭酸水素ナトリウムにより洗浄力を高めた高温の強アルカリ性洗浄液を被洗浄面へ吹付けて汚れを除去し、加圧した水による水洗によって洗浄液を温度低下させることにより弱アルカリ性として、洗浄液を廃棄しやすいようにしたことを特徴とする吹付け洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】ゴム栓内部の狭くて奥まった凹部に付着残存する塵等のを十分に除去できるようにしたゴム栓洗浄方法を提供する。
【解決手段】ゴム栓Ｇを貯留槽１に投入して、その下部の洗浄用配管２に導入し、洗浄用配管２の基端部側に設けた加速用ノズル３より供給される高圧水流によって配管長手方向に移送しながら、洗浄用配管２の複数箇所に設置した、洗浄用配管径方向及び軸線方向に対し斜め方向に高圧噴射水を噴射する複数の洗浄用ノズル４によって洗浄用配管２内に渦巻き状の乱流１６を発生させて、この乱流１６によりゴム栓Ｇを洗浄し、この洗浄によりゴム栓Ｇから除去された異物を洗浄用配管２の先端部側に設けた異物排出ポート５より排出させると共に、貯留槽１に設けたオーバーフロー口６から水及び水より軽い異物をオーバーフローさせて排出し、洗浄されたゴム栓Ｇを水と共に貯留槽１に戻して回収する。 （もっと読む）

【課題】 従来洗浄困難であった被洗浄面全域をコンタミが覆った場合であっても、該コンタミを好適に除去する。
【解決手段 】被洗浄面に対して垂直な方向から洗浄流体を吹き付ける第一の洗浄工程と、第一の洗浄工程により部分的に露出した被洗浄面に対して垂直とは異なる所定の角度を以って洗浄流体を吹き付ける第二の洗浄工程と、によって被洗浄面とコンタミとの剥離部分を拡大させてコンタミの除去を図る。 （もっと読む）

【課題】平流しの基板搬送路上で被処理基板に供給した第１の処理液を分別回収して第２の処理液に置き換える動作を効率よくスムーズに行い、現像斑の発生を抑制する。
【解決手段】被処理基板Ｇに第１の処理液Ｄを供給する第１の処理液供給手段９と、前記第１の処理液が液盛りされた前記被処理基板の基板面に対し、所定のガス流を吹き付ける気体供給手段２１と、前記被処理基板の基板面に対し前記第２の処理液Ｓを吐出する第２のリンス手段２３と、前記気体供給手段と前記第２のリンス手段との間に設けられ、前記気体供給手段によりガス流が吹き付けられた前記被処理基板の基板面に対し、所定の流速で前記第２の処理液を吐出する第１のリンス手段２２と、前記基板搬送路上において、前記第１のリンス手段により供給された第２の処理液によって、基板幅方向に延びる液溜まり部を形成する液溜まり形成手段２７とを備える。 （もっと読む）

【課題】雰囲気が置換される空間の体積を減少させることができ、基板のエッチング量を面内全域で低減できる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】基板処理装置１は、内部空間Ｓ１を有するチャンバー２と、チャンバー２内で基板Ｗを保持して回転軸線Ａ１まわりに回転させるスピンチャック３と、チャンバー２内で基板Ｗの上面に対向する遮断板４と、遮断板４と基板Ｗとの間に不活性ガスを供給するガス供給機構５と、基板Ｗに対して傾いた方向に処理液を吐出することにより、基板Ｗの上面中央部に斜めに処理液を供給する処理液ノズル２９と、処理液ノズル２９に供給される処理液から酸素を脱気する脱気手段とを含む。 （もっと読む）

【課題】洗浄用流体が塗装ガン及びロボットアーム等に飛び散ることなく、洗浄することができる塗装ガンの洗浄技術を提供することを課題とする。
【解決手段】閉塞手段５１は、環状の弾性部材であり、開口部４８に設けられ開口部４８の中心に向かって延びる閉塞本体部５２と、この閉塞本体部５２の中央に設けられ塗装ガン２０が挿入できる塗装ガン挿入口５３と、閉塞本体部５２の下面５４に設けられ塗装ガン挿入口５３から洗浄容器４１の壁４２に向かって下方に傾斜する傾斜面５５と、閉塞本体部５２の上面５６に設けられ湾曲溝状にえぐられている湾曲溝５７と、閉塞本体部５２の外径側に設けられ段を為すこどとで開口部４８に嵌る取付部５８と、からなる。
【効果】洗浄用流体が塗装ガン及びロボットアーム等に飛び散ることなく、塗装ガンを洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、魚網等の清掃対象物表面を広範囲において効率よく清掃できるようにした場合であっても、清掃対象物表面の凹凸や撓みに対して安定した走行が可能となるようにする。
【解決手段】本発明の水中清掃ロボット１は、清掃ノズルユニット５が、前記ロボット本体２の下部に回転自在に設けられ、前記ロボット本体を移動させる走行装置３が設けられている。前記走行装置３は、前記ロボット本体の左右に設けられた第１走行手段３６ａ、３７ａ、３８ａ、３９ａと、前記第１走行手段の前後方向にそれぞれ設けられ且つ前記第１走行手段の下端よりも上方に位置している第２走行手段３６ｂ、３７ｂ、３８ｂ、３９ｂとを備えている。 （もっと読む）

【課題】太陽光パネルの洗浄及び冷却を一層向上させることができると共に、装置の簡素化及び小型化が図れる太陽光パネル洗浄冷却装置を提供する。
【解決手段】傾斜して設置された太陽光パネル３と、太陽光パネル３の上方に配設され、太陽光パネル３に水を噴射するノズル孔１１が形成されたノズル管１０と、ノズル管１０に水を供給する水供給管１２とを備えている。水供給管１２には、タイマー２３によって制御される電磁弁２１と、水の疑集の大きさを小さくする流体活性化装置２２とが設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 鉄道車両の車軸に配設されるころ軸受の内周面に塗布されている古いグリースの除去を十分に行う。
【解決手段】 本発明に係る鉄道用軸受洗浄装置１は、鉄道車両の車軸に配設される円環状のころ軸受Ｂの洗浄を行う。そして、鉄道用軸受洗浄装置１は、回転軸２４０に対して回転可能に配設され、ころ軸受Ｂの中心軸と回転軸２４０とが略同軸に配置されるように、ころ軸受Ｂを支持する回転支持部材２５０，２９０と、回転軸２４０の上端部に配設され、該回転軸２４０の内部を介して圧送される洗浄用液体を、ころ軸受Ｂの内周面に対して噴射可能な液体噴射手段２７０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】基板表面に付着したパーティクル等の汚染物質を除去するための基板処理方法および基板処理装置において、パーティクル除去効率を向上させる。
【解決手段】基板Ｗの表面Ｗｆに、ＤＩＷにポリスチレン微粒子Ｐを分散させた処理液Ｌによる液膜ＬＰを形成する。冷却ガス吐出ノズル３から冷却ガスを吐出させながら該ノズルを基板Ｗに対し走査移動させて、液膜ＬＰを凍結させる。液膜中に混入された微粒子Ｐが凝固核となって氷塊ＩＣの生成が促進されるため、液相から固相への相変化時間を短くしてパーティクル除去効率を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】 端縁に段差を有する基板を処理する場合であっても、端縁を十分清浄に洗浄処理することが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】 電子ペーパ製造用基板１０は、第１、第２の剥離部３５、３６に搬送され、レジストの剥離処理がなされる。次に、電子ペーパ製造用基板１０は、洗浄液噴出ノズル５１からその長辺に洗浄液が噴出され、その長辺を洗浄処理されるとともに、第１洗浄部３７において表面および裏面に洗浄液を供給されて洗浄処理される。次に、電子ペーパ製造用基板１０は、第１洗浄部３７から第２洗浄部３８、第３洗浄部３９および第４洗浄部４０に順次搬送され、それらの洗浄部において表面および裏面に洗浄液を供給されて洗浄処理される。このとき、第２洗浄部３８においては、洗浄液噴出ノズル５２からその短辺に洗浄液が噴出され、その短辺を洗浄処理される。 （もっと読む）

【課題】海水に浸かった瓦礫を再利用可能な品質まで洗浄することができる洗浄装置を提供すること。
【解決手段】周面３０をスクリーンで構成し、一端側３１の開口を瓦礫投入口３Ａとし、他端側３２の開口を瓦礫排出口３Ｂとした筒状の回転筒体３を、回転駆動手段３５によって回転可能に、かつ、回転筒体３の一端側３１から他端側３２に向けて下り傾斜となるように設置し、回転筒体３の他端側３２の内部に洗浄水供給源Ｐから供給される洗浄水を供給する第１洗浄水供給手段３３と、回転筒体の他端側の下方に回転筒体３から排出された洗浄水を回収する第１排水槽Ｔ１と、回転筒体の一端側の内部に第１排水槽Ｔ１から供給される洗浄水を供給する第２洗浄水供給手段３４と、回転筒体３の一端側３１の下方に回転筒体３から排出された洗浄水を回収する第２排水槽Ｔ２とを配設する。 （もっと読む）

【課題】外径が異なるチューブバンドルであっても、十分に洗浄することができるチューブバンドル洗浄装置を提供する。
【解決手段】チューブバンドルＴの長手方向に延在するようにガイドレール１が配置されている。アーム支持体１０の盤体１１の下面から、チューブバンドルＴの一方の側面側に第１のアーム２０が延設されると共に、チューブバンドルＴの他方の側面側に第２のアーム２０Ａが延設されている。ノズル３５から高圧水を噴射させ、アーム支持体１０をガイドレール１に沿ってチューブバンドルＴの他端側まで移動させる。次に、ベース３０の位置をピッチＰの２倍（２Ｐ）分だけアーム２０，２０Ａに沿って移動させて固定した後、アーム支持体１０を上記と同様に移動させる。これを繰り返すことにより、チューブバンドルＴのすべてのチューブｔの外面が洗浄される。 （もっと読む）

【課題】ディスク駆動装置の清浄度を向上し、磁気ヘッドがトレースするときの磁気ヘッドと記録ディスクとの隙間を小さくした場合にＴＡ障害の発生率を低く保つことのできる技術を提供する。
【解決手段】ディスク駆動装置の製造方法において、組立工程では、クリーンルーム内で固定体に軸受ユニットと軸受ユニットによって固定体に対して回転自在に支持される回転体とを組み付けてサブアセンブリを組み立てる。洗浄工程では、サブアセンブリの固定体と回転体の少なくとも一方に洗浄液と第１気体との混合物を吹付けて洗浄する。密封工程では、サブアセンブリを密封部材により密封する。 （もっと読む）

【課題】乾式洗浄と湿式洗浄とを選択的に実施できる基板処理設備及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】本発明による基板処理設備は、基板が載せられた容器が置かれるポート１１００及びインデックスロボット１２００を有するインデックス部１０００と、基板処理を遂行する処理部２００と、処理部２００とインデックス部１０００との間に配置されてこれらの間に搬送される基板が一時的に留まるバッファユニット４０００と、を含み、処理部２００は、基板を搬送するための移送路に沿って配置されるグルー除去用処理モジュール、基板冷却処理モジュール、加熱処理モジュール、及び機能水処理モジュールを含む。 （もっと読む）

【課題】 設備コスト、設置場所の縮小を図ることができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】 基板Ｗに対して剥離処理と洗浄処理を行なう基板処理装置において、導入された空気を窒素ガスと酸素ガスのガス成分に分離して取り出し可能とするガス分離モジュール９と、この分離モジュール９から分離取り出された窒素ガス、酸素ガスをそれぞれ用いたマイクロナノバブル発生装置５、６を設け、各発生装置で発生した微小気泡を剥離部２、洗浄部３にそれぞれ供給する。 （もっと読む）

【課題】液処理の工程に応じて基板の上方における気流の状態を最適化可能な液処理装置、および液処理方法を提供すること。
【解決手段】基板Ｗを液処理する液処理装置１において、基板Ｗを水平に支持し、回転可能な支持部材１０と、支持部材１０の外周部１３との間に環状間隙ＧＰを形成する間隙形成部材２０と、基板Ｗに上方から処理液を供給する液供給部材３０と、環状間隙ＧＰを取り囲み、環状間隙ＧＰを介して、回転する基板Ｗから振り切られる処理液を回収するカップ４０と、間隙形成部材２０を昇降させる昇降機構１２２とを有する。 （もっと読む）

【課題】 マスクブランク用基板の洗浄時に、ガラス基板内部に潜傷が発生することを抑制でき、しかも基板主表面に存在するパーティクルを確実に排除できるマスクブランク用基板等の基板の洗浄方法を提供する。
【解決手段】 液体中に配置された基板の少なくとも一つの表面に向かって、気泡又は洗浄用粒子を含む加圧した洗浄液体を噴射ノズルから噴射し、前記基板の少なくとも一つの表面を洗浄することを含むことを特徴とする、基板の洗浄方法である。 （もっと読む）