【課題】基板周辺部材の耐久性が劣化するのを抑制しながら基板表面の全面に凍結膜を生成することができる基板処理装置、液膜凍結方法および該液膜凍結方法を用いた基板処理方法を提供する。
【解決手段】冷却ガス吐出ノズル３から冷却ガスを液膜１１ｆが形成された基板表面Ｗｆに向けて局部的に吐出する。そして、基板Ｗを回転させながら冷却ガス吐出ノズル３を基板Ｗの回転中心位置Ｐｃから基板Ｗの端縁位置Ｐｅに向けて移動軌跡Ｔに沿って揺動させる。これにより、基板表面Ｗｆの表面領域のうち液膜１１ｆが凍結した領域（凍結領域）が基板表面Ｗｆの中央部から周縁部へと広げられていく。このため、冷却ガスの供給部位が基板表面Ｗｆ上の一部領域に限定され、基板周辺部材の耐久性が劣化するのを抑制しながら、基板表面Ｗｆの全面に凍結膜１３ｆを生成することができる。 （もっと読む）

【課題】基板またはその表面に形成された薄膜に対するダメージを抑制または回避しながら、硬化層を有するレジストを基板から良好に除去することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗの表面には、ポリシリコン薄膜パターン４１およびレジストパターン４２が形成されている。レジストパターン４２は、表面に硬化層４３を有する。基板Ｗの表面においてレジストパターン４２が形成されていない領域が保護レジスト膜４５で覆われる。その後、研磨パッド２４を用いたＣＭＰ処理によって、硬化層４３を破壊する硬化層破壊工程が行われる。この硬化層破壊工程の後に、レジストパターン４２および保護レジスト膜４５が、レジスト剥離液によって基板Ｗ表面から除去される。 （もっと読む）

【課題】 噴射口を変更せずに高圧水の形状を変形することができる高圧水噴射装置を提供する。
【解決手段】 本発明に係るウォータージェットハンドガン１０は、高圧水を噴射するノズルヘッド１２と、ノズルヘッド１２から噴射される高圧水の軌道線Ｌ上に配置され、噴射された高圧水の形状を変える変形部材スクレーパ２６の連結部３０とを備えている。従って、このウォータージェットハンドガン１０においては、スクレーパ２６の連結部３０によって、ノズルヘッド１２から噴射された高圧水の形状が変わるため、ノズルヘッド１２の噴射口１２ａの数や断面形状を変更することなく、高圧水の形状を変えることができる。 （もっと読む）

【課題】原料を分散させると同時にタンク内壁を洗浄する。
【解決手段】本発明は原料の山を崩壊させるための高圧水と、タンク内壁を洗浄するためのシャワー水を同時に噴射することにより作業の効率化、装置の簡略化を実現した。本発明の複合ノズルは堆積した原料に対して水を噴射するノズルと、タンク内に散水するシャワー用のノズルの二重構造を持ち、圧送用ホースから供給される水は圧送用ホース接続部から２系統に分かれて各ノズルに供給される。原料への噴射水ノズル先端には水圧を調節するための可変ノズルや噴射方向を調整できるノズルを設置することもできる。本発明品はシャワー用水と噴射用水が同一の水圧送ホースにより供給されるため、噴射水の水圧が高く原料の飛散が激しい場合はシャワー水も広く拡散するという優れたものである。
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【課題】本発明は、本体に内蔵したモータにより回転軸に取り付けられた洗浄ブラシを回転させると共に、回転軸に貫通した穴を開けたノズル先端から流体を噴射する洗浄モータノズルを提供する。
【解決手段】ホース取付金具５には圧力流体が供給され、回転軸７の貫通孔６からノズル嘴４のオリフィス孔１９を経て洗浄ブラシ３の中央開口から圧力流体が噴射される。一方、固定子９のコイルが励磁され、前記固定子９と対向している永久磁石の回転子８が回転する。前記回転子８が回転すると、前記回転子８が固定されている回転軸７が一体に回転し、前記回転軸７の先端に螺合されているノズル嘴４が一体となって回転する。したがって、前記ノズル嘴４の先端に螺着されている洗浄ブラシ３も一体となって回転する。このようにして、洗浄ブラシ３の回転及圧力流体の相乗剥離効果により汚れを落とすことができる。 （もっと読む）

【課題】所定の角度で傾斜して搬送される基板を乾燥処理する際、基板が背面を支持した支持ローラから浮き上がるのを防止した基板の処理装置を提供することにある。
【解決手段】チャンバと、チャンバ内に設けられ基板の傾斜方向下側の背面を支持する支持ローラと、背面が支持ローラによって支持された基板の下端を外周面によって支持し回転駆動されて上記基板を所定方向に搬送する駆動ローラと、基板の傾斜方向上側の前面と下側の背面との高さ方向ほぼ全長にわたって対向して配置され基板の搬送方向上流側に向かって気体を噴射するエアーナイフ６１と、基板の前面のエアーナイフよりも基板の搬送方向上流側に前面と対向して設けられエアーナイフから噴射される気体が基板の前面に沿って流れるようガイドする前面整流板６４とを具備する。 （もっと読む）

井戸洗浄装置が垂直供給管上で回転する水ノズルを備え、この垂直供給管が井戸の上部に回転可能に取付けられ、水中ポンプによって井戸からくみ上げられた液体流がこの垂直供給管に供給される。装置は噴霧器を保持するために流入管の上方に取付けられたハウジングを備え、この噴霧器は供給流によって脱臭蒸気を供給管内に引き込むことができる。水ノズルから送出される廃水を案内するために、水ノズルはその端部に取付けられたそらせ板を備えている。 （もっと読む）

【課題】基板にダメージを与えることなく、その表面に硬化層を有するレジストであっても除去することができる、基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】プレート２によって、ウエハＷの裏面を吸着保持して、そのウエハＷを回転させる。その一方で、回転しているウエハＷを加熱しつつ、そのウエハＷの表面に、ＳＰＭノズル３から超音波振動の付与されたＳＰＭを供給する。ウエハＷの加熱によって、ウエハＷの表面上のレジストの硬化層が軟化するので、超音波振動の付与されたＳＰＭがウエハＷの表面に供給されると、その硬化層は、超音波振動の物理的なエネルギーによって破壊される。レジストの表面の硬化層が破壊されると、その破壊された部分からレジストの内部にＳＰＭを浸透させることができ、そのＳＰＭの化学的な力により、レジストをウエハＷの表面から硬化層ごと剥離させて除去することができる。 （もっと読む）

【課題】処理液を用いて被処理基板を処理する複数の処理ユニットを備えた基板処理装置であって、各処理ユニットへ、当該処理ユニットにおける被処理基板の処理に応じた適切な濃度で一つの薬液種が含まれた処理液が供給され得る基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１０は、複数の処理ユニット２０と、処理液を送り込まれる主管４０と、一つの処理ユニットと主管とを連結し、処理ユニットへ処理液を供給する複数の分岐管５０，７０と、液体を貯留する液体貯留部９０，９５と、一つの分岐管と液体貯留部とに接続された複数の供給制御機構６０，６５，８０，８５と、を備えている。液体は、主管に送り込まれる処理液中の一つの薬液種の濃度とは異なる濃度で一つの薬液種を含む。供給制御機構は、液体貯留部に貯留された液体の各分岐管内への供給を制御する。 （もっと読む）

【課題】処理液を基板に供給して処理する基板処理装置において、処理による基板の帯電を抑制しつつ基板上の電位分布の均一性を向上する。
【解決手段】基板処理装置１は、基板９に向けて洗浄液の液滴を吐出する吐出部３、吐出部３の吐出口３１近傍に配置される円環状の誘導電極６、吐出部３を基板９に対して相対移動する吐出部移動機構５を備える。基板処理装置１では、誘導電極６と吐出部３の洗浄液管との間に電位差が付与されて洗浄液にプラスの電荷が誘導され、当該洗浄液の液滴により基板９を洗浄することにより、洗浄中における基板９のマイナスの帯電を抑制することができる。そして、吐出部３の移動および洗浄液の吐出と並行して、基板９の帯電特性および吐出部３の基板９に対する相対位置に基づいて、誘導電極６と洗浄液管との間の電位差が電位差制御部１０１により制御されることにより、基板９上の電位分布の均一性を向上することができる。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物に与えるダメージが小さく、かつ十分な洗浄効果が得られる超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】被洗浄物を超音波洗浄するための洗浄装置であって、少なくとも、超音波振動を発する超音波振動子と、該超音波振動子が装着され、前記超音波振動が印加された洗浄液と被洗浄物を接触させる手段と、前記洗浄液に飽和溶存ガス量以上のガスを導入して洗浄液中に気泡を存在させるガス導入手段とを具備し、前記超音波振動子により超音波振動を前記洗浄液に印加することで、前記洗浄液中に導入された気泡を振動させて前記被洗浄物を洗浄するものであることを特徴とする超音波洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物の洗浄効果が高く、耐久性にも優れた超音波洗浄装置を提供する、この装置を用いた高能率な被洗浄物の超音波洗浄方法を提供する。
【解決手段】被洗浄物Ａを着脱可能に保持する被洗浄物保持部１と、被洗浄物保持部１に保持された被洗浄物Ａの被洗浄面Ｂに向けて脱気処理がなされかつ超音波が重畳された第１の洗浄水３を吐出する第１の洗浄水吐出部４と、被洗浄物Ａの被洗浄面Ｂに向けて溶存ガスを含む第２の洗浄水５を供給する第２の洗浄水吐出部６を備え、第１の洗浄水３と第２の洗浄水５とを被洗浄面Ｂ上で混合し、混合された洗浄水中にキャビテーションを発生させて被洗浄物Ａの被洗浄面Ｂを超音波洗浄する。 （もっと読む）

【課題】基板処理装置の大型化を防止しつつ、基板の周囲に多量のマイクロバブルを供給できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】この基板処理装置１は、純水供給部４０の経路途中にバッファ槽６３を設け、バッファ槽６３内にマイクロバブル発生器６４ａ，６４ｂを設けている。そして、基板Ｗの処理を行うときには、バッファ槽６３内に多量のマイクロバブルを生成しておき、そのマイクロバブルをバッファ槽６３から処理槽１０へ供給する。このため、小型のマイクロバブル発生器６４ａ，６４ｂを使用して基板処理装置１の大型化を防止しつつ、基板Ｗの周囲に多量のマイクロバブルを供給できる。 （もっと読む）

【課題】 処理槽から基板収納容器を引き上げる際に、基板収納容器に収納された基板同士が吸着することを防止することができる基板処理装置及び基板処理方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 少なくとも、対向する側部の内側に夫々複数の保持溝を有し、底部に開口部を有する基板収納容器と、内部に処理液を保持する処理槽とを具備し、前記保持溝に複数の基板を各々縦向きで並列に保持した基板収納容器を前記処理槽に保持された前記処理液に浸漬して前記複数の基板を同時に処理する基板処理装置であって、前記処理槽は、その底部に、上に凸形状であり、上端部で前記基板の下端部を支持する支持具を１つ以上具備するものであり、前記基板収納容器の底部の開口部を、前記支持具に挿入することによって、前記基板収納容器に保持された複数の基板を同時に持ち上げて保持することができるものである基板処理装置及びこれを用いた基板処理方法。 （もっと読む）

【課題】充分な洗浄効果が得られ、効率的な洗浄作業を行うことの可能な蒸気洗浄具を提供する。
【解決手段】ノズル２と被洗浄面７との間の間隔を規制するための間隔規制部材をノズルの近傍に設ける。スプレーガン１の先端にノズル２を装着し、間隔規制部材としてのガイドロッド８をノズルの前方に突出させて装着し、その先端に形成した球状部８ａを被洗浄面に当接させて滑動させていきつつ洗浄作業を行う。ガイドロッドを前後方向に位置変更可能とする。あるいはデッキブラシや円形ブラシ等のブラシ本体に蒸気噴射機構を組み込み、ブラシとしてのフィラメント群を間隔規制部材として機能させ、かつノズル周囲に蒸気溜まりの漏れ防止機構を形成する。蒸気管をブラシの柄として機能させる。 （もっと読む）

【課題】基板にダメージを与えることなく該基板表面に付着するパーティクルを効率良く除去する。
【解決手段】洗浄ユニット１にて、その表面に液膜が形成された基板は、基板搬送機構３により凍結ユニット２に搬送される。凍結ユニット２にて、液膜が凍結されることで液膜膜が体積膨張し、基板表面に付着するパーティクルと基板との間の付着力が弱まり、さらにはパーティクルが基板表面から脱離する。そして、凍結処理された基板は、基板搬送機構３により凍結ユニット２から洗浄ユニット１に再び搬送され、洗浄ユニット１にて基板に対して物理／化学洗浄が実行され、凍結膜が基板表面から除去される。このように物理／化学洗浄の前処理として液膜形成・液膜の凍結が行われることにより、基板表面からパーティクルを効率良く除去することができる。 （もっと読む）

【課題】 洗浄液使用量を少なくしても、超音波出力手段の出力端と洗浄面との間には、確実に、洗浄液が存在しており、超音波洗浄が効率よく行われるようにすることである。
【解決手段】 超音波照射用ホーンの出力端に洗浄液供給口が設けられてなり、
プリント基板の基板面が超音波照射用ホーンの出力端に対向するよう配置され、そして洗浄液を出力端の洗浄液供給口から供給し、この後、超音波を作用させて超音波洗浄を行う。 （もっと読む）

【課題】共振周波数が振動板の全部位で一定に保たれるようにして、被洗浄物に対して常に均一な精密洗浄が行える超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】超音波洗浄装置は、洗浄液が溜められた洗浄槽と、洗浄槽内の洗浄液に５００ｋＨｚ以上の超音波振動を伝搬させるための超音波振動体とを備えた超音波洗浄装置であって、 超音波振動体は、複数枚の平板状超音波振動素子が振動板上に並べて接着された複合素子配置構造体を有し、複数枚の平板状の超音波振動素子のおのおのは、所定の対象洗浄領域に対して平坦状の超音波放射特性を持つ形状を有し、超音波振動の周波数ばらつきを抑えて超音波振動体の全面において実質上均一な超音波放射特性が得られるように研磨加工および研削加工の機械加工により前記振動板の振動部位の板厚差が±３％の範囲内のものとする振動板としたものである。 （もっと読む）

【課題】
高品位の画像表示が可能な液晶カラーフィルターを容易に生産することが可能となる基板洗浄装置の提供が求められていた。
【解決手段】
洗浄液供給手段と超音波印加手段と基板駆動部を備え、洗浄液供給手段はフロントリップとリアリップ及びこのフロントリップ又はリアリップのいずれか一方に形成されたマニホルド部と洗浄液を吐出するスリット部を含み、スリット部がフロントリップ及びリアリップが平行に向かい合うことで基板駆動部の駆動方向と垂直方向に形成されており、スリット部がマニホルド部に接続され、マニホルド部は洗浄液の導入口が接続され、マニホルド部の幅は前記フロントリップ又はリアリップの少なくともいずれかと略同一の幅である事を特徴とする基板洗浄装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】処理液の供給を少なくとも２段分のカーテン状にして行うことでカーテンの基板の表面での処理液の供給の不均一の発生確率を極力低減させ、かつ処理液の供給量の増大によって処理液の置換性能を向上させる。
【解決手段】処理チャンバ１２内で搬送路上を搬送される基板Ｂに対して処理を行う基板処理装置で、搬送路の上方位置に配設される入口ノズル部２０を備る。入口ノズル部２０は、第１、第２部材２０A，２０Bらなる第１のノズル部と、第２、第３部材２０B，２０Cからなる第２のノズル部を一体で有する。第１、第２ノズル部の吐出口２０１２ａ，２０２２ａからはそれぞれ基板の幅方向にカーテン状でリンス液の吐出を行う。 （もっと読む）