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Fターム[3B201BB32]の内容

液体又は蒸気による洗浄 (28,239) | 流体的清浄手段 (13,243) | 噴射、泡、スプレー (3,939) | ノズルの構造 (973)

Fターム[3B201BB32]の下位に属するFターム

多孔 (254)
圧力調節 (116)
混合 (270)

Fターム[3B201BB32]に分類される特許

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【課題】フィルタの寿命を延ばすことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置1は、基板Wに供給される処理液をろ過するフィルタ16を内部で保持するハウジング17と、ハウジング17に保持されている状態のフィルタ16に液滴を衝突させるスプレーノズル23とを含む。フィルタ16に付着している異物は、液滴の衝突によって除去される。 (もっと読む)


【課題】被洗浄物の洗浄に好適な洗浄ノズル及び洗浄装置を提供する。
【解決手段】内部が洗浄水の圧送通路20とされ、圧送通路20の基端部10a側から圧送する洗浄水にキャビテーション気泡を発生させて先端開口部10bから噴出させる洗浄ノズル8であって、圧送通路内には、軸線方向に直交する方向に隣接配置された第1及び第2の絞り部材21A、21Bを備え、第1の絞り部材21Aは、先端開口部側へ向けて圧送通路の断面積を漸次狭める第1の傾斜面26Aを有し、第2の絞り部材21Bは、先端開口部側へ向けて圧送通路の断面積を漸次拡げる第2の傾斜面26Bを有し、第1、第2の絞り部材は、第1、第2の傾斜面26A、26Bがその中間部で交叉し、圧送通路が前記交叉する部分の上方において連通し、前記中間部の下流側には、洗浄水の圧送方向に突出し先端に向かって漸次縮径した外形を有する突起100が備えられていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】硫酸の温度の変更に容易に対応可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】この基板処理装置は、硫酸と過酸化水素水とを混合して生成したレジスト剥離液を基板Wの表面に供給する。この基板処理装置は、レジスト剥離液を基板に向けて吐出するノズル2と、ノズル2に向けて過酸化水素水を流通させる過酸化水素水供給路30と、過酸化水素水供給路30上においてノズル2までの流路長が異なる複数の混合位置MP1,MP2,MP3,MP4にそれぞれ接続された複数の硫酸供給路31,32,33,34と、硫酸供給源25からの硫酸を前記複数の硫酸供給路から選択された硫酸供給路に導入する硫酸供給路選択ユニット35とを含む。 (もっと読む)


【課題】ディスク駆動装置の清浄度を向上し、磁気ヘッドがトレースするときの磁気ヘッドと記録ディスクとの隙間を小さくした場合にTA障害の発生率を低く保つことのできる技術を提供する。
【解決手段】ディスク駆動装置の製造方法において、組立工程では、クリーンルーム内で固定体に軸受ユニットと軸受ユニットによって固定体に対して回転自在に支持される回転体とを組み付けてサブアセンブリを組み立てる。洗浄工程では、サブアセンブリの固定体と回転体の少なくとも一方に洗浄液と第1気体との混合物を吹付けて洗浄する。密封工程では、サブアセンブリを密封部材により密封する。 (もっと読む)


【課題】ハニカム構造体封口用マスクを良好に洗浄することが可能な洗浄方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る洗浄方法は、上面1aから下面1bにかけて厚さ方向D1に貫通している複数の貫通孔5を有するマスク1の洗浄方法であって、マスク1を厚さ方向D1に直交する搬送方向D2に搬送する工程と、搬送されるマスク1の上面1a及び下面1bに対し、厚さ方向D1に対して搬送方向D2の上流側に傾斜する方向D6に洗浄液34を供給する洗浄工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】内容物の安定かつ一定の噴出を実現するための噴出ノズル管の提供を図る。
【解決手段】熱可塑性を有する合成樹脂素材により製造されたノズル管本体10からセンタリング機能を備える噴出ノズル管を製造すべく、ノズル管本体10の長さ方向に複数の切り込み31を入れてできた切片32を加熱し若しくは折り返して夫々ノズル管本体10の外径より外側に膨らんだ状態で冷却・固定化する工程からなる。かかる工程を経ることにより、ノズル管本体10の外径より外側へ膨らんで噴出口13のセンタリング位置決めを行うセンタリング機構が備えられた噴出ノズル管を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】液処理の工程に応じて基板の上方における気流の状態を最適化可能な液処理装置、および液処理方法を提供すること。
【解決手段】基板Wを液処理する液処理装置1において、基板Wを水平に支持し、回転可能な支持部材10と、支持部材10の外周部13との間に環状間隙GPを形成する間隙形成部材20と、基板Wに上方から処理液を供給する液供給部材30と、環状間隙GPを取り囲み、環状間隙GPを介して、回転する基板Wから振り切られる処理液を回収するカップ40と、間隙形成部材20を昇降させる昇降機構122とを有する。 (もっと読む)


【課題】大面積の基板上のCu膜若しくはCu合金膜をウェットエッチングすることによって配線等とする際に、Cu膜にダメージを与えないように剥離し、なおかつ、Cu膜の上に堆積させる層との間の接着力を低下させないフォトレジストの剥離液を用いた剥離液リサイクルシステムを提供する。
【解決手段】主剤と極性溶媒と水からなる混合液およびレジスト成分からなる剥離液を繰り返し使用し、剥離液中のレジスト濃度が所定の値に達したら、剥離液の一部を排出管から排出し、新たな剥離液の供給を受けるレジスト剥離装置と、廃液タンクと、廃液タンク中の剥離液を蒸留する蒸留再生装置と、前記分離液中の主剤と極性溶媒の組成比率を調べる成分検査装置と、分離液の主剤と極性溶媒および水の比率が予め決められた比率になるように不足分の主剤と極性溶媒および水を追加して、混合液を調製する調合装置と混合液を貯留する供給タンクを有する。 (もっと読む)


【課題】 基板の表裏両面を均一に処理することが可能な基板処理装置および基板処理方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 処理槽11にエッチング液を貯留するエッチング液供給工程と、ガラス基板100を搬送ローラ21により搬送してエッチング液が貯留された処理槽11内に進入させる基板搬入工程と、ガラス基板100の下面からエッチング液を吐出することによりガラス基板100を搬送ローラ21より上方で、かつ、処理槽11に貯留されたエッチング液の液面より下方の位置まで浮上させるエッチング液吐出工程と、エッチング液の吐出を停止してガラス基板100を搬送ローラ21と当接する位置まで下降させる基板下降工程と、処理槽21に貯留されたエッチング液を排出するエッチング液排出工程と、ガラス基板100を搬送ローラ21により搬送して処理槽11より退出させる基板搬出工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】 マスクブランク用基板の洗浄時に、ガラス基板内部に潜傷が発生することを抑制でき、しかも基板主表面に存在するパーティクルを確実に排除できるマスクブランク用基板等の基板の洗浄方法を提供する。
【解決手段】 液体中に配置された基板の少なくとも一つの表面に向かって、気泡又は洗浄用粒子を含む加圧した洗浄液体を噴射ノズルから噴射し、前記基板の少なくとも一つの表面を洗浄することを含むことを特徴とする、基板の洗浄方法である。 (もっと読む)


【課題】高圧水の吐出圧の調整可能範囲の下限をより低く設定できるようにする。
【解決手段】この高圧洗浄機10は、駆動源32でポンプ41を駆動し、供給される水をポンプ41で加圧して高圧水を発生させる洗浄機本体11と、洗浄機本体11とホースを介して接続され、洗浄機本体11から送られてくる高圧水を吐出する吐出装置21と、駆動源32の回転数を設定する設定部15と、設定部15によって設定された回転数となるように駆動源32の駆動制御を行う制御部35,36と、を備えている。そして、制御部35,36は、駆動源32の回転数を検出する回転数検出部35と、回転数検出部35で検出された駆動源32の回転数を取得するとともに、設定部15で設定された回転数を駆動源32が維持するように駆動源32に対して駆動制御信号を発信する制御回路36と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】基板の表面にダメージを与えることなく良好に洗浄することができる基板洗浄ノズル及び基板洗浄装置並びに基板洗浄方法を提供すること。
【解決手段】本発明では、基板洗浄ノズル(37)に設けた液層保持手段(38)の液層保持口(47)で洗浄液の液層(53)を保持するとともに、前記基板洗浄ノズル(37)に設けた基板加熱手段(39)で基板(2)の表面を前記洗浄液の沸点以上に加熱し、前記基板洗浄ノズル(37)を前記基板(2)の表面に近づけて、前記基板(2)の表面の熱で前記洗浄液の液層(53)を沸騰させて前記基板(2)の表面と前記洗浄液の液層(53)との間に前記洗浄液の蒸気の層を形成し、前記洗浄液の蒸気で前記基板(2)の表面を洗浄することにした。 (もっと読む)


【課題】洗浄処理において、基板への不必要なダメージや回路パターン倒れを防ぎつつ、特定箇所の異物を除去できる洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】洗浄処理に用いるための処理流体を基板5に噴出する処理流体ノズル7と、基板5から処理流体を回収する回収装置8とを具備している。基板5を処理流体ノズル7からの処理流体により局所的に洗浄処理することができるため、基板5に対して不必要なダメージ、回路パターン倒れを防ぎつつ、特定箇所の異物を除去できる。 (もっと読む)


【課題】金属膜が形成された基板においてパターンの倒壊を抑制すること。
【解決手段】水を含むリンス液が、金属膜が形成された基板に供給される(S2)。その後、水酸基を含まない第1溶剤が、基板に供給されることにより、基板に保持されている液体が第1溶剤に置換される(S4、S5)。その後、水酸基を含まない第2溶剤を含み金属を疎水化する疎水化剤が、基板に供給されることにより、基板に保持されている液体が疎水化剤に置換される(S6)。 (もっと読む)


【課題】洗浄水の使用量を削減及び調整する。
【解決手段】基板洗浄装置Aは、プリント基板Pを収容する洗浄槽1と、圧縮空気を吐出するコンプレッサ10と、洗浄槽1内に設けら、コンプレッサ10から吐出された圧縮空気を噴射する予備洗浄ノズル6と、洗浄水を貯留する洗浄水タンクと洗浄槽1内に設けられた噴霧管とを有し、噴霧管の一方の先端が予備洗浄ノズル6の先端に近接するとともに、他方の先端が洗浄水に浸かっている霧発生機構7とを具備し、洗浄水が噴霧管の一方の先端からプリント基板Pに噴霧され、予備洗浄ノズル6の先端と、噴霧管の一方の先端との距離及び角度が可変であり、予備洗浄ノズル6から圧縮空気が噴射されると、噴霧管の他方の先端から洗浄水が吸い上げられ、噴霧管の一方の先端から洗浄水がプリント基板Pに噴霧される。 (もっと読む)



【課題】除去性能を高めた空調用フィルタの洗浄を効率的に行う。
【解決手段】ローラコンベア9とローラコンベア9で搬送されるフィルタ2に洗浄液を散布する洗浄液散布ノズル50a〜50fと、フィルタ2に高圧ガスを噴射する高圧ガス噴射ノズル60a〜60cと、散布された洗浄液17a〜17cを回収する回収タンク72a〜72cと、洗浄液を洗浄液散布ノズル50a〜50fに循環させる循環系統と、を含む各洗浄ステージ4a〜4cを含み、精密洗浄ステージ4cは、未使用洗浄液噴霧ノズル50gが配置され、精密洗浄ステージ4c、粗洗浄ステージ4bは各回収タンク72c,72bからフィルタ搬送方向上流側の各回収タンク72b,72aに洗浄液を順次移送する移送系統を備え、予備洗浄ステージ4aは回収タンク72aの洗浄液90aを外部に排水する排水ポンプ77aを備える。 (もっと読む)



【課題】トンネル式洗浄機において、流体排気通路で洗浄機の各チャンバからの均等な蒸気排気を容易にし、各チャンバからの熱損失を最小限にするため最適化される。
【解決手段】トンネル式洗浄機には、トンネル式洗浄機のチャンバを分離する間隔を保つ二重壁カーテンが含まれ、チャンバ間およびトンネル式洗浄機外への流体および熱移動が防止される。二重壁カーテンにはトンネル式洗浄機の操作の間にカーテンが互いに粘着することを抑制する表面が含まれる。またトンネル式洗浄機には種々の寸法の物品に対し乾燥効率を均等にする空気マニホールドが含まれる。 (もっと読む)


【課題】簡便安価な構成で効率よく洗浄作業を行うことができる電子部品実装設備用の洗浄ツールおよび洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】部品実装装置に用いられる吸着ノズル10などを洗浄する電子部品実装設備用の洗浄ツール20を、作業者が把持して操作可能な本体部21と、本体部21の先端に設けられ2流体31が噴射される噴射ノズル25と、本体部21に接続され噴射ノズル25と切替バルブ26を介して接続された液体タンク28とを備え、洗浄水30の粒子30aを圧縮空気23aに混合した2流体31を被洗浄物である吸着ノズル10に対して噴射する構成とする。これにより、簡便安価な構成で効率よく洗浄作業を行うことができる。 (もっと読む)


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