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Fターム[3B201BB32]の内容

液体又は蒸気による洗浄 (28,239) | 流体的清浄手段 (13,243) | 噴射、泡、スプレー (3,939) | ノズルの構造 (973)

Fターム[3B201BB32]の下位に属するFターム

多孔 (254)
圧力調節 (116)
混合 (270)

Fターム[3B201BB32]に分類される特許

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【課題】基板上の液膜を短時間で凍結させることができる基板処理方法および装置を提供する。
【解決手段】基板Wの表面Wfおよび裏面Wbに液膜11f、11bを形成するために基板Wの表面Wfおよび裏面Wbに供給するDIWを熱交換器623Aにより常温より低い温度に冷却しているため、凍結膜13f、13bを生成するのに要する時間を短縮することができる。また、液膜形成前において、スローリーク処理を実行することで液膜形成時の流量よりも小さな微小流量で冷却DIWを配管621Aから流出させて配管621A内に冷却DIWを流通させる。このため、配管621A内の冷却DIWの温度上昇が防止され、液膜形成のためにノズル27、97からDIWの吐出を開始すると、短時間で冷却DIWの液膜が形成される。 (もっと読む)



【課題】この発明は半導体ウエハを高い清浄度で、しかもウオータマークを発生させることなく洗浄することができるようにした処理装置を提供することにある。
【解決手段】上面に半導体ウエハを保持して回転駆動される回転テーブル16と、回転テーブルの上方に半導体ウエハを横切る方向に駆動可能に配置され半導体ウエハに処理液をミスト状にして供給する第1のノズル体46と、半導体ウエハの第1のノズル体から供給されたミスト状の処理液によって処理された部分に処理液を液状の状態で供給する第2のノズル体56と、第2のノズル体よる処理液の供給量或いは回転テーブルの回転数の少なくともどちらか一方を制御して第1のノズル体によって半導体ウエハにミスト状で供給された処理液を半導体ウエハから排出させる制御装置7を具備する。 (もっと読む)


【課題】基板の上面に対向し近接して押付部材を配置し基板の処理を行う場合に、高温の処理液を使用するときでも、基板の面内温度の均一性を高め、押付部材の下面と基板上面とで挟まれる空間における温度の上昇を抑えることができる装置を提供する。
【解決手段】基板Wの上面に対向し近接して配置される雰囲気遮断板のプレート部60の内部に、その中央領域から周辺領域の気体噴出口80に向かって気体を流通させる気体通路84を形成し、気体通路の途中を部分的に狭隘にし、その狭隘通路部分126とプレート部の下面側とを連通させる吸引細孔128を形成して、気体通路にエジェクタ部116を設け、吸引細孔の、プレート部の下面に開口する吸い込み口130を、気体噴出口よりプレート部下面の中心寄りに配置する。 (もっと読む)



【課題】 液化炭酸ガスをドライアイスにして被洗浄物に投射して洗浄するに、ノズルとこれを囲包するホーンとの面積比を考慮して洗浄に適したドライアイスの粒径と硬度を得る。
【解決手段】 加圧された液化炭酸ガスを噴出するノズルと、ノズルの吐出口を囲包してその前方に配され、ノズルから噴出された液化炭酸ガスをドライアイスに生成して被洗浄物に投射するホーンとからなる噴射ヘッドを有する洗浄装置において、あるホーンの内径に対するノズルの内径を、ホーンの断面積/ノズルの断面積が25〜35の範囲にあるように設定する。 (もっと読む)


【課題】被洗浄物の洗浄対象のエリアのみ洗浄することによって、被洗浄物を洗浄及び乾燥する際の該被洗浄物への異物の付着を抑制する洗浄装置、洗浄槽、洗浄方法、及び物品の製造方法を提供する。
【解決手段】洗浄装置内の洗浄槽2が備える超音波発生手段21が、供給口200から洗浄槽2に供給された洗浄流体に超音波を印加し、被洗浄物1の洗浄エリア11と対応する位置に開口部220を持つ流体噴出手段22が、上記超音波が印加された洗浄流体を上記開口部220から被洗浄物1の洗浄エリアに噴出させる。 (もっと読む)


【課題】処理物を所定の箇所に集約することができる液処理装置を提供すること。
【解決手段】剥離装置1は、部分剥離区間Aと全体剥離・除去区間Bとを有し、部分剥離区間Aは、ローラーとパドル40とを備え、全体剥離・除去区間Bは、ローラーとシャワー部とを備えている。また、パドル40は、剥離液50が液槽部42の両端からオーバーフローする2つの開口部を備える。このため、ガラス基板20は剥離液50が両縁部のみに浸されるので、中央部は剥離されず両端部が先に剥離し始める。そして、全体剥離・除去区間Bへと搬送され、剥離液50がガラス基板20の全体に噴射されるため、両縁部から中央部へとカバーフィルム21の剥離を進行させ、カバーフィルム21をガラス基板20の中央部に集めることができるので、カバーフィルム21が不規則に分散して滞留することを防ぐことができる。 (もっと読む)



【課題】気液混合管内で、液体と気体が激突することがないため、キャリブレイションの発生を防止することができ、気液二相流で管路を洗浄する場合に、静かで、且つ、振動の発生を大幅に減少させる。
【解決手段】出口3aを備えた気液混合管3と、該気液混合管3に空気Aを供給する気体供給手段7と、該気液混合管3に水Wを供給し旋回流WSを形成させる液体供給手段5と、を備えた気液二相流発生装置1において、前記気体供給手段7は、前記気液混合管3の中心3c方向に空気Aを供給する。 (もっと読む)


【課題】処理室間においてミスト状処理液の侵入を防止する。
【解決手段】基板処理装置は、剥離液により剥離処理を施す第1剥離処理室1と、前記剥離液よりも低濃度の剥離液により剥離処理を施す第2剥離処理室3と、各処理室1,3の間に介設される中間室2と、第1剥離処理室1、中間室2及び第2剥離処理室3の隔壁11,13に形成される基板搬送用の開口部11a,13aを各々開閉するシャッタ25,34等と、中間室2において少なくとも第2剥離処理室3側の開口部13aが開放されているときに、当該開口部13aに向かってエアを吐出するエアナイフ36,36と、エアナイフ36,36と前記開口部13aとの間に排気口40を有し、この排気口40を通じて中間室2内を排気する排気手段とを備えている。 (もっと読む)


【課題】 基板上に第1洗浄液の液膜が形成された状態で、基板を良好に洗浄できる基板洗浄装置および基板洗浄方法を提供する。
【解決手段】 回転保持部10により回転される基板Wに、第1洗浄液供給部40からの第1洗浄液が供給され、基板W上に液膜LF1が形成される。導入プレート60aおよび超音波付与部70が、退避位置から洗浄処理位置に向けて揺動させられ、基板Wの外縁部付近に配置される。これにより、基板W上に液盛りされた第1洗浄液の一部が、表面張力により基板W上から導入プレート60a上に導入され、導入プレート60aに外方液膜LF2が形成される。そして、超音波付与部70による超音波振動と、第2洗浄液の供給に基づいた波立振動とが、外方液膜LF2に付与される。これにより、基板Wへのダメージを低減させつつ、基板Wに付着するパーティクルの除去率を各段に向上させることができる。 (もっと読む)




【課題】基板の主面に対向部材を極めて微小な間隔を隔てて対向配置させて基板に処理を施すことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】遮断板4の対向面には、中央部吐出口12と多数個の周縁部吐出口19とが形成されている。遮断板保持体17は、ボールブッシュ機構23を介してアーム10に取り付けられている。そのため、遮断板保持体17および遮断板4は、アーム10に対して上下方向に変位可能に保持される。周縁部吐出口19からの不活性ガスの吐出によって、遮断板4に、鉛直上向きの離反方向力が作用し、遮断板4はアーム10に対して鉛直上向きに相対変位する。遮断板4は、この離反方向力と遮断板4等に働く重力とが釣り合う位置に保持される。 (もっと読む)





【課題】洗剤の使用が不要で且つコンパクトで洗浄性能が高い洗浄装置を提供する。
【解決手段】液体を搬送経路1に流して加圧すると共に脈動流を発生させるポンプ2と、気体を前記搬送経路1を流れる液体に加圧溶解させて該気体が飽和状態となった液体を生成する加圧溶解部3と、加圧溶解部3で生成し気体が飽和状態となった液体を大気圧まで減圧する減圧部4と、前記減圧部4からの液体を被洗浄物6の表面に噴射する洗浄液噴射部5とを備えた。 (もっと読む)


【課題】 ウエハ状の物品の一方の表面上の、縁部側の所定の部分を、或る液体で処理し、しかも、(ウエハの外縁から測定して)2mmより多い縁部領域を処理する可能性を示すこと。
【解決手段】 洗浄ガスの大部分をウエハ状の物品(W)の縁部領域でウエハ状の物品(W)から導き出すガス排出装置(4)が周囲に設けられ、また、第2の主面上の液体が縁部付近の所定の部分を濡らし、続いて、液体がウエハ状の物品(W)から除去される。 (もっと読む)


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