【課題】微細気泡洗浄方法の洗浄効果をより高め、洗浄液の長寿命化を図り、コンパクトで操作性の良い洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄液に被洗浄物を浸漬させる洗浄槽２１と、洗浄液に微細気泡を発生させ被洗浄物を洗浄する洗浄ノズルと、洗浄槽２１の上部の曲面３３にエアを吹き付けるエア吹付け部２６と、エア吹付け部２６のエアにより洗浄液面に浮上した油が追い出させるオーバーフロー槽２７を備える。 （もっと読む）

【課題】基板上の液膜を短時間で凍結させることができる基板処理方法および装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗの表面Ｗｆおよび裏面Ｗｂに液膜１１ｆ、１１ｂを形成するために基板Ｗの表面Ｗｆおよび裏面Ｗｂに供給するＤＩＷを熱交換器６２３Ａにより常温より低い温度に冷却しているため、凍結膜１３ｆ、１３ｂを生成するのに要する時間を短縮することができる。また、液膜形成前において、スローリーク処理を実行することで液膜形成時の流量よりも小さな微小流量で冷却ＤＩＷを配管６２１Ａから流出させて配管６２１Ａ内に冷却ＤＩＷを流通させる。このため、配管６２１Ａ内の冷却ＤＩＷの温度上昇が防止され、液膜形成のためにノズル２７、９７からＤＩＷの吐出を開始すると、短時間で冷却ＤＩＷの液膜が形成される。 （もっと読む）

【課題】この発明は半導体ウエハを高い清浄度で、しかもウオータマークを発生させることなく洗浄することができるようにした処理装置を提供することにある。
【解決手段】上面に半導体ウエハを保持して回転駆動される回転テーブル１６と、回転テーブルの上方に半導体ウエハを横切る方向に駆動可能に配置され半導体ウエハに処理液をミスト状にして供給する第１のノズル体４６と、半導体ウエハの第１のノズル体から供給されたミスト状の処理液によって処理された部分に処理液を液状の状態で供給する第２のノズル体５６と、第２のノズル体よる処理液の供給量或いは回転テーブルの回転数の少なくともどちらか一方を制御して第１のノズル体によって半導体ウエハにミスト状で供給された処理液を半導体ウエハから排出させる制御装置７を具備する。 （もっと読む）

【課題】基板の上面に対向し近接して押付部材を配置し基板の処理を行う場合に、高温の処理液を使用するときでも、基板の面内温度の均一性を高め、押付部材の下面と基板上面とで挟まれる空間における温度の上昇を抑えることができる装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗの上面に対向し近接して配置される雰囲気遮断板のプレート部６０の内部に、その中央領域から周辺領域の気体噴出口８０に向かって気体を流通させる気体通路８４を形成し、気体通路の途中を部分的に狭隘にし、その狭隘通路部分１２６とプレート部の下面側とを連通させる吸引細孔１２８を形成して、気体通路にエジェクタ部１１６を設け、吸引細孔の、プレート部の下面に開口する吸い込み口１３０を、気体噴出口よりプレート部下面の中心寄りに配置する。 （もっと読む）

【課題】基板表面に形成された金属薄膜を腐食させることなく、基板表面を良好に洗浄することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板表面Ｗｆに銅配線８１が形成された基板Ｗに対してポリマー除去成分を含む処理液による洗浄処理に続けてＤＩＷによるリンス処理が行われる。このリンス処理中においては、ヴィアホール８３ａ内に入り込んだ処理液を短時間でリンス液に置換することは難しく、ヴィアホール８３ａ内に処理液とリンス液が並存し、このことが銅配線８１のうちヴィアホール８３ａの底部に位置する部分に腐食を発生させる主要因のひとつと考えられるが、処理液の酸化還元電位とリンス液の酸化還元電位の差を２０ｍＶ以下とすることで処理液とリンス液の相互作用を抑えて腐食発生を効果的に防止することができる。 （もっと読む）

【課題】 液化炭酸ガスをドライアイスにして被洗浄物に投射して洗浄するに、ノズルとこれを囲包するホーンとの面積比を考慮して洗浄に適したドライアイスの粒径と硬度を得る。
【解決手段】 加圧された液化炭酸ガスを噴出するノズルと、ノズルの吐出口を囲包してその前方に配され、ノズルから噴出された液化炭酸ガスをドライアイスに生成して被洗浄物に投射するホーンとからなる噴射ヘッドを有する洗浄装置において、あるホーンの内径に対するノズルの内径を、ホーンの断面積／ノズルの断面積が２５〜３５の範囲にあるように設定する。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物の洗浄対象のエリアのみ洗浄することによって、被洗浄物を洗浄及び乾燥する際の該被洗浄物への異物の付着を抑制する洗浄装置、洗浄槽、洗浄方法、及び物品の製造方法を提供する。
【解決手段】洗浄装置内の洗浄槽２が備える超音波発生手段２１が、供給口２００から洗浄槽２に供給された洗浄流体に超音波を印加し、被洗浄物１の洗浄エリア１１と対応する位置に開口部２２０を持つ流体噴出手段２２が、上記超音波が印加された洗浄流体を上記開口部２２０から被洗浄物１の洗浄エリアに噴出させる。 （もっと読む）

【課題】処理物を所定の箇所に集約することができる液処理装置を提供すること。
【解決手段】剥離装置１は、部分剥離区間Ａと全体剥離・除去区間Ｂとを有し、部分剥離区間Ａは、ローラーとパドル４０とを備え、全体剥離・除去区間Ｂは、ローラーとシャワー部とを備えている。また、パドル４０は、剥離液５０が液槽部４２の両端からオーバーフローする２つの開口部を備える。このため、ガラス基板２０は剥離液５０が両縁部のみに浸されるので、中央部は剥離されず両端部が先に剥離し始める。そして、全体剥離・除去区間Ｂへと搬送され、剥離液５０がガラス基板２０の全体に噴射されるため、両縁部から中央部へとカバーフィルム２１の剥離を進行させ、カバーフィルム２１をガラス基板２０の中央部に集めることができるので、カバーフィルム２１が不規則に分散して滞留することを防ぐことができる。 （もっと読む）

【課題】処理室間においてミスト状処理液の侵入を防止する。
【解決手段】基板処理装置は、剥離液により剥離処理を施す第１剥離処理室１と、前記剥離液よりも低濃度の剥離液により剥離処理を施す第２剥離処理室３と、各処理室１，３の間に介設される中間室２と、第１剥離処理室１、中間室２及び第２剥離処理室３の隔壁１１，１３に形成される基板搬送用の開口部１１ａ，１３ａを各々開閉するシャッタ２５，３４等と、中間室２において少なくとも第２剥離処理室３側の開口部１３ａが開放されているときに、当該開口部１３ａに向かってエアを吐出するエアナイフ３６，３６と、エアナイフ３６，３６と前記開口部１３ａとの間に排気口４０を有し、この排気口４０を通じて中間室２内を排気する排気手段とを備えている。 （もっと読む）

【課題】基板の主面上でのエッチング液の滞留を防止または抑制して、基板の主面に対して良好なエッチング処理を施すことができる基板処理装置を提供する。基板の主面上でのエッチング液の滞留を防止または抑制することができる基板支持部材を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、基板支持部材３と、ウエハＷおよび基板支持部材３を回転させるスピンチャック４とを備える。基板支持部材３の上面には、円筒状の収容凹所１３および平坦な第１円環状面１２が形成されている。第１円環状面１２は、収容凹所１３内に保持されたウエハＷの上面に、第１円環状面１２上のフッ硝酸とウエハＷの上面上のフッ硝酸とが連続した液膜を形成するように接近して配置されている。第１円環状面１２には、サンドブラスト加工（親液化処理）が施されている。 （もっと読む）

【課題】気液混合管内で、液体と気体が激突することがないため、キャリブレイションの発生を防止することができ、気液二相流で管路を洗浄する場合に、静かで、且つ、振動の発生を大幅に減少させる。
【解決手段】出口３ａを備えた気液混合管３と、該気液混合管３に空気Ａを供給する気体供給手段７と、該気液混合管３に水Ｗを供給し旋回流ＷＳを形成させる液体供給手段５と、を備えた気液二相流発生装置１において、前記気体供給手段７は、前記気液混合管３の中心３ｃ方向に空気Ａを供給する。 （もっと読む）

【課題】 基板上に第１洗浄液の液膜が形成された状態で、基板を良好に洗浄できる基板洗浄装置および基板洗浄方法を提供する。
【解決手段】 回転保持部１０により回転される基板Ｗに、第１洗浄液供給部４０からの第１洗浄液が供給され、基板Ｗ上に液膜ＬＦ１が形成される。導入プレート６０ａおよび超音波付与部７０が、退避位置から洗浄処理位置に向けて揺動させられ、基板Ｗの外縁部付近に配置される。これにより、基板Ｗ上に液盛りされた第１洗浄液の一部が、表面張力により基板Ｗ上から導入プレート６０ａ上に導入され、導入プレート６０ａに外方液膜ＬＦ２が形成される。そして、超音波付与部７０による超音波振動と、第２洗浄液の供給に基づいた波立振動とが、外方液膜ＬＦ２に付与される。これにより、基板Ｗへのダメージを低減させつつ、基板Ｗに付着するパーティクルの除去率を各段に向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】基板上の配線または素子の静電破壊を抑制できる基板の処理方法および基板の処理装置を提供する。
【解決手段】処理ステージ２１１に載置された基板２１０を鉛直軸Ｙ周りに回転させ、基板２１０の一方の面に処理液を供給することにより基板２１０を処理する基板２１０の処理方法において、処理ステージ２１１上に基板２１０を載置する工程Ａと、基板２１０の上に霧状の液体を供給する工程Ｂと、工程Ｂの後に、基板２１０の上に処理液を供給する工程Ｃと、を備える。このように、帯電した基板２１０に霧状の処理液を供給することで、基板２１０からの急激な電荷移動を抑制でき、基板２１０上の配線または素子の静電破壊を防止できる。 （もっと読む）

【課題】生地等に付着した汚れを洗い落とす洗浄用スプレーガンの提供。
【解決手段】持手１３の上部には洗浄液噴射ガンを有し、該洗浄液噴射ガンは先端に洗浄液の噴射ノズル４を設け、シリンダー６に設けたピストンポンプのピストンを往復動させて洗浄液を上記噴射ノズル４から断続的に噴射することが出来、そして上記洗浄液噴射ガンと併設されて、該洗浄液噴射ガンの洗浄液噴射ノズル４に平行して延びる蒸気噴射ノズルを先端に有した蒸気噴射ガン２を有し、さらに上記持手１３には洗浄液を噴射する為の洗浄液噴射スイッチ１４と蒸気を噴射する為の蒸気噴射スイッチ１５を取付けている。 （もっと読む）

【課題】基板の主面に対向部材を極めて微小な間隔を隔てて対向配置させて基板に処理を施すことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】遮断板４の対向面には、中央部吐出口１２と多数個の周縁部吐出口１９とが形成されている。遮断板保持体１７は、ボールブッシュ機構２３を介してアーム１０に取り付けられている。そのため、遮断板保持体１７および遮断板４は、アーム１０に対して上下方向に変位可能に保持される。周縁部吐出口１９からの不活性ガスの吐出によって、遮断板４に、鉛直上向きの離反方向力が作用し、遮断板４はアーム１０に対して鉛直上向きに相対変位する。遮断板４は、この離反方向力と遮断板４等に働く重力とが釣り合う位置に保持される。 （もっと読む）

【課題】コンパクトな構成で手軽にナノバブルを発生させることができるノズルおよびこれを用いたナノバブル発生装置を提供する。
【解決手段】内部に流路４２が形成された筒状に設けられ、液体中にナノバブルを発生させるためのノズル３４であって、軸線方向の一方の端部に液体を流入させる流入口４５が形成され、軸線方向の他方の端部にナノバブルが混入した液体を流出させる流出口４７が形成され、流路４２には、流入口４５から所定距離は同一の径を有する同一径部４４と、同一径部４４から流出口４７に向けて、徐々に径が広がるテーパ部４６とが形成され、流路４２に気体を導入させる気体導入孔５０が同一径部４４と外部とを連通するように形成されている。 （もっと読む）

【課題】高圧で洗浄を行なう必要がなく、異物が混入しても詰まるようなことなく、気泡の発生を防止して高い洗浄効果で洗浄を行なうことができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】液体を圧送する加圧部１。液体に気体を注入する気体注入部２。気体を注入された液体が加圧部１で圧送されることによる加圧で液体に気体を溶解させる加圧溶解部３。加圧溶解部３で気体を溶解させた気体溶解液の圧力を、気体溶解液の流入側から流出側に向かって順次大気圧まで減圧する減圧部４（流路長さの調整で気体溶解液の圧力を大気圧にまで減圧するように形成された流路６で構成）。減圧部４で減圧された気体溶解液を吐出する吐出部１２。これらを備え、加圧部１、気体注入部２、加圧溶解部３の各部を連続的に運転させて、減圧部４に気体溶解液を乱流状態で連続的に供給し、吐出部１２から気泡の発生のない気体溶解液を連続的に吐出させるようにする。 （もっと読む）

【課題】洗剤の使用が不要で且つコンパクトで洗浄性能が高い洗浄装置を提供する。
【解決手段】液体を搬送経路１に流して加圧すると共に脈動流を発生させるポンプ２と、気体を前記搬送経路１を流れる液体に加圧溶解させて該気体が飽和状態となった液体を生成する加圧溶解部３と、加圧溶解部３で生成し気体が飽和状態となった液体を大気圧まで減圧する減圧部４と、前記減圧部４からの液体を被洗浄物６の表面に噴射する洗浄液噴射部５とを備えた。 （もっと読む）

【課題】小径貫通穴３ａを有する部品３に付着した加工残留物を確実に除去するとともに、部品３の洗浄工程による部品３の滞留をなくした小径貫通穴洗浄方法およびその装置を提供する。
【解決手段】小径貫通穴３ａを有する部品３の小径貫通穴３ａに、高圧噴流を噴射するノズル１を、一対一対応で接触させ、ノズル１から高圧噴流を噴射させる。 （もっと読む）

【課題】 ウエハ状の物品の一方の表面上の、縁部側の所定の部分を、或る液体で処理し、しかも、（ウエハの外縁から測定して）２ｍｍより多い縁部領域を処理する可能性を示すこと。
【解決手段】 洗浄ガスの大部分をウエハ状の物品（Ｗ）の縁部領域でウエハ状の物品（Ｗ）から導き出すガス排出装置（４）が周囲に設けられ、また、第２の主面上の液体が縁部付近の所定の部分を濡らし、続いて、液体がウエハ状の物品（Ｗ）から除去される。 （もっと読む）