【課題】切削加工後のワークを傷付けずに、ワーク表面の付着物を効果的に除去して、洗浄品質を向上させる。
【解決手段】ノズル４１に接続した給水管４５には、純水中にマイクロナノバブルＢを発生させるマイクロナノバブル発生器４９が接続され、ノズル４１の先端はワークＷの被洗浄部近傍に配置されている。ノズル４１の吐出口部には圧力維持バルブ５１が設けられ、マイクロナノバブル発生器４９で生成した加圧過飽和状態のマイクロナノバブルＢを含む洗浄水Ｃが、洗浄中にノズル４１から吐出して、ワークＷの被洗浄部に至近距離から供給する。 （もっと読む）

【課題】従来のような二流体ノズルや高圧ジェットを用いた場合、たとえば、パターン等が形成された基板を洗浄する場合、洗浄液の供給される力によって、基板上に形成されたパターンに損傷が生じる場合があり、一方、損傷を防止するために供給する力を抑制すれば、洗浄を十分に行えないという問題があった。
【解決手段】微細気泡を含む洗浄液を用いて基板の洗浄を行う。洗浄液を供給するノズルの先端を、基板上に形成された液膜の液面より低い位置に配置し、ノズルの先端部分付近（微細気泡発生領域）を洗浄液が通過する際に、洗浄液中に微細気泡が発生するように構成する。 （もっと読む）

【課題】カスケード方式の洗浄装置における菌体の繁殖を簡易な手段で防止することができ、被洗浄物の洗浄効率を向上させることができる洗浄装置及び方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板１がローラー２で搬送され、ジェット洗浄ノズル３及び最終リンスノズル４で洗浄される。最終リンスノズル４に純水が供給される。最終リンスノズル４からの洗浄排水がタンク７に流入し、ポンプ９からノズル３に供給される。タンク７内の菌体数が増加した場合、タンク７内の水をオゾン水供給装置１２に循環通水し、タンク７内にオゾン水を供給し、殺菌する。 （もっと読む）

【課題】簡単な構造で洗浄効果の高い洗浄ノズルを提供する。
【解決手段】洗浄ノズル８は、被洗浄物に微細気泡を含む加圧水流を洗浄水として噴射するノズル本体８１と、ノズル本体８１の軸線から偏心した位置に配置され、微細気泡を含む加圧水流を導入して、ノズル本体８１の内周壁８１３の円周方向に沿って流す導水管８２１として機能する空間Ｓ３が形成された混合ホルダ部８２と、ノズル本体８１の噴射口８１２の縁部に吸引口８３１が配置され、回収した洗浄水を再利用するための液部吸引管８４２として機能する流路が形成されたヘッド部８３と、ノズル本体８１と同軸線上に配置されていると共に、噴射口８１２の中心部に吸引口８４１ａが配置され、回収した洗浄水を廃棄するための気泡部吸引管８４１とを備えたものである。 （もっと読む）

【課題】管状部材の内部から開口側へ洗浄液を噴射させることにより管状部材の内面を洗浄するにあたり、洗浄ムラを生ずることなく、洗浄液の管状部材内部への逆流を防止して、洗浄効果をより高めることのできる洗浄ノズルを提供する。
【解決手段】ノズル先端側から順次、ノズル周方向にわたり形成され、ノズル先端側から後端側に向かい洗浄液を噴射する噴射スリット１１と、ノズル周方向に複数にて配置され、ノズル先端側から後端側に向かい洗浄液を噴射する噴射孔１２と、を備える洗浄ノズルである。噴射孔１２の形成方向ａとノズル軸方向ｚとがねじれの関係にあり、かつ、噴射孔１２の出口中心とノズル軸とを通る平面Ｘにおいて見た、噴射スリット１１の形成方向のノズル軸方向ｚとなす角θ_１と、噴射孔１２の形成方向ａのノズル軸方向Ｚとなす角θ_２とが、θ_１≧θ_２で示される関係を満足する。 （もっと読む）

【課題】管状部材の内部から開口側へ洗浄液を噴射させることにより管状部材の内面を洗浄するにあたり、洗浄液の管状部材内部への逆流を防止して、洗浄効果をより高めることのできる洗浄ノズルを提供する。
【解決手段】ノズル周方向にわたり形成され、ノズル先端側から後端側に向かい洗浄液を噴射する噴射スリットを備える洗浄ノズルである。噴射スリットとして、ノズル先端側から順次、第一および第二のスリット１１，１２が設けられてなり、かつ、ノズル軸方向断面における、第一のスリット１１の形成方向のノズル軸方向となす角θ_１、および、第二のスリット１２の形成方向のノズル軸方向となす角θ_２が、θ_１≧θ_２で示される関係を満足する。 （もっと読む）

【課題】液処理工程中に基板を上方から支持する基板支持部、あるいは基板とともに回転する天板を基板へ供給されるリンス液を用いて洗浄する。
【解決手段】液処理装置１００はウエハＷを上方から支持する回転自在の基板支持部１０と、基板支持部１０の回転中心に設けられ少なくともリンス液をウエハＷに対して供給するトッププレートノズル１０ｎとを備えている。トッププレートノズル１０ｎは基板支持部１０に対して上下方向に移動可能となっており、トッププレートノズル１０ｎを基板支持部１０から離間した状態でトッププレートノズル１０ｎからリンス液をウエハＷに対して供給する。トッププレートノズル１０ｎを基板支持部１０に接近させた状態で、トッププレートノズル１０ｎからリンス液を基板支持部１０の下面に供給して洗浄する。 （もっと読む）

【課題】平流しの基板搬送路上で被処理基板に供給した第１の処理液を分別回収して第２の処理液に置き換える動作を効率よくスムーズに行い、現像斑の発生を抑制する。
【解決手段】被処理基板Ｇに第１の処理液Ｄを供給する第１の処理液供給手段９と、前記第１の処理液が液盛りされた前記被処理基板の基板面に対し、所定のガス流を吹き付ける気体供給手段２１と、前記被処理基板の基板面に対し前記第２の処理液Ｓを吐出する第２のリンス手段２３と、前記気体供給手段と前記第２のリンス手段との間に設けられ、前記気体供給手段によりガス流が吹き付けられた前記被処理基板の基板面に対し、所定の流速で前記第２の処理液を吐出する第１のリンス手段２２と、前記基板搬送路上において、前記第１のリンス手段により供給された第２の処理液によって、基板幅方向に延びる液溜まり部を形成する液溜まり形成手段２７とを備える。 （もっと読む）

【課題】雰囲気が置換される空間の体積を減少させることができ、基板のエッチング量を面内全域で低減できる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】基板処理装置１は、内部空間Ｓ１を有するチャンバー２と、チャンバー２内で基板Ｗを保持して回転軸線Ａ１まわりに回転させるスピンチャック３と、チャンバー２内で基板Ｗの上面に対向する遮断板４と、遮断板４と基板Ｗとの間に不活性ガスを供給するガス供給機構５と、基板Ｗに対して傾いた方向に処理液を吐出することにより、基板Ｗの上面中央部に斜めに処理液を供給する処理液ノズル２９と、処理液ノズル２９に供給される処理液から酸素を脱気する脱気手段とを含む。 （もっと読む）

【課題】蒸着マスクに強固に付着した付着物を、蒸着マスクにダメージを与えるおそれを低減しつつ、効率よく除去する蒸着マスク洗浄装置、蒸着マスク洗浄システムおよび蒸着マスク洗浄方法を提供する。
【解決手段】有機ＥＬデバイスの製造工程に用いられる蒸着マスク１６を洗浄するための蒸着マスク洗浄装置としての電解洗浄装置１３は、蒸着マスク１６を収容する洗浄槽としての電解槽２０と、電解槽２０にアルカリ性の電解液を供給するポンプ２１および貯留槽２２からなる電解液供給部と、洗浄槽内に設けられている陽極電極２３および陰極電極２４の電極と、陽極電極２３および陰極電極２４の電極間に通電する通電部２６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、魚網等の清掃対象物表面を広範囲において効率よく清掃できるようにした場合であっても、清掃対象物表面の凹凸や撓みに対して安定した走行が可能となるようにする。
【解決手段】本発明の水中清掃ロボット１は、清掃ノズルユニット５が、前記ロボット本体２の下部に回転自在に設けられ、前記ロボット本体を移動させる走行装置３が設けられている。前記走行装置３は、前記ロボット本体の左右に設けられた第１走行手段３６ａ、３７ａ、３８ａ、３９ａと、前記第１走行手段の前後方向にそれぞれ設けられ且つ前記第１走行手段の下端よりも上方に位置している第２走行手段３６ｂ、３７ｂ、３８ｂ、３９ｂとを備えている。 （もっと読む）

【課題】着脱性やメンテナンス性に優れ、梁型のノズル保持機構が無くても撓まない長尺型の処理液吐出ノズルを提供すること。
【解決手段】この処理液吐出ノズル６４に取り付けられるたわみ補正機構７４は、ノズルヘッダ管６８の第１および第２の中間点Ｐ_M1，Ｐ_M2で補強面６８ａに突出して設けられる第１および第２の中間ジョイント部７８，８０と、ノズルヘッダ管６８の第１および第２の中間ジョイント部７８，８０の間たとえば長手方向の中心点Ｐ_Cで補強面６８ａに突出して設けられる中心ジョイント部７６と、中心ジョイント部７４と第１の中間ジョイント部との間に架け渡される第１の連結棒８０と、中心ジョイント部７８と第２の中間ジョイント部８０との間に架け渡される第２の連結棒８４とを有している。 （もっと読む）

【課題】洗浄装置において、被洗浄物の表面に洗浄液を噴射して洗浄を行う場合に、被洗浄物の表面からの飛散物が種々の方向に飛散する場合でも再付着を防止することができるようにする。
【解決手段】洗浄装置１は、レンズ１５を保持して回転させる回転保持部２と、回転保持部２に保持されたレンズ１５上のスポット状の洗浄領域に洗浄液Ｌを噴射する洗浄液噴射部７と、洗浄領域の周囲を、回転中心に対する洗浄領域の相対移動方向における後方側から覆うように凸レンズ面１５ａに入射する層状気流１７を形成する圧縮空気噴射部８と、回転保持部２および洗浄液噴射部７の少なくとも一方を移動させて、洗浄領域をレンズ１５の回転中心から外周側に向かって相対移動させるとともに層状気流１７の入射位置を洗浄領域の相対移動に追従して相対移動させる昇降ステージ６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】基板表面に付着したパーティクル等の汚染物質を除去するための基板処理方法および基板処理装置において、パーティクル除去効率を向上させる。
【解決手段】基板Ｗの表面Ｗｆに、ＤＩＷにポリスチレン微粒子Ｐを分散させた処理液Ｌによる液膜ＬＰを形成する。冷却ガス吐出ノズル３から冷却ガスを吐出させながら該ノズルを基板Ｗに対し走査移動させて、液膜ＬＰを凍結させる。液膜中に混入された微粒子Ｐが凝固核となって氷塊ＩＣの生成が促進されるため、液相から固相への相変化時間を短くしてパーティクル除去効率を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】従来の超音波洗浄装置において、微細気泡を含有する洗浄液を供給して、被洗浄物を洗浄する場合、洗浄液の微細気泡によって、超音波が減衰し、被洗浄物の表面に超音波が伝達せず、洗浄力が落ちてしまうという課題があった。
【解決手段】被洗浄物の一面に微細気泡を含有する第一の洗浄液を供給する第一の洗浄液供給経路と、前記被洗浄物の他面に微細気泡を含有しない第二の洗浄液を供給する第二の洗浄液供給経路と、前記被洗浄物の他面側から前記被洗浄物を通して前記第一の洗浄液と接する前記被洗浄物の一面に超音波を付与する超音波振動子とを有することを特徴とする超音波洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】フィルタの寿命を延ばすことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、基板Ｗに供給される処理液をろ過するフィルタ１６を内部で保持するハウジング１７と、ハウジング１７に保持されている状態のフィルタ１６に液滴を衝突させるスプレーノズル２３とを含む。フィルタ１６に付着している異物は、液滴の衝突によって除去される。 （もっと読む）