電極は経路に沿って端部を縦にして搬送される。電極は、底部外周端で支持されて、概ね垂直に保持される。複数の洗浄ノズルが経路に隣接してその対向する両側に配置される。ノズルからの洗浄スプレイは電極の両側面に当てられる。ノズルは、直線状に配置されてノズルアレイを形成し、電極の底部より先に上部に洗浄スプレイが当たるように角度が付けられる。リンスまたは前洗浄用の分離した部分を洗浄チャンバ内に備えてもよい。使用済みの水を回収して再利用してもよい。
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【課題】基板を品質よく処理することができる基板処理装置、ガス溶解液供給方法、および、基板処理方法を提供する。
【解決手段】二流体ノズル２１と、二酸化炭素が溶解された炭酸ガス溶解水を二流体ノズルに供給する溶解液供給管２２と、炭酸ガス溶解水の溶存ガスと同じ二酸化炭素をキャリアガスとして二流体ノズル２１に供給するキャリアガス供給管２３と、を備えている。二流体ノズル２１は、炭酸ガス溶解水の液滴をキャリアガス（二酸化炭素）とともに基板Ｗに噴射する。噴射された炭酸ガス溶解水は溶解濃度が比較的に高い状態で基板Ｗに着液する。よって、基板を品質よく処理することができる。 （もっと読む）

【課題】プラスチックレンズ成形型に付着した樹脂汚れの除去を容易化可能とするプラスチックレンズ成形型用洗浄剤組成物、およびこれを用いたプラスチックレンズ成形型を構成するガラス型の清浄化方法、並びに、プラスチックレンズの製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で示されるフェニルエーテルおよび一般式（２）で示されるフェニルエーテルから選ばれる少なくとも１種のフェニルエーテルを含有するプラスチックレンズ成形型用洗浄剤組成物。
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【課題】 ベースから基板が落下することを低減し、十分な洗浄ができる基板洗浄装置、基板の製造方法、および歩留まりが向上され特性が優れた太陽電池素子を提供することを目的とする。
【解決手段】 ベース２に接着されたブロック１と、第1の液体４と、第2の液体６と、を準備する工程と、ベース２に接着されたブロック１をスライスし、ベース２に接着された基板列とする工程と、基板列を第1の液体により洗浄した後、基板列を第2の液体により洗浄する工程と、基板列をベース２から剥離し複数の基板とする工程と、を有し、基板列を洗浄する工程において、先に基板列を洗浄する第１の液体４の温度を次第に上昇させるとともに、後に基板列を洗浄する第２の液体６の温度を、第1の液体４の最高温度より低くする。 （もっと読む）

【課題】酸素濃度を低減した処理液で基板を処理できる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】基板処理装置１は、基板Ｗを保持するスピンチャック３と、スピンチャック３に保持された基板Ｗに対向する基板対向面３４を有し、基板対向面３４の周囲からスピンチャック３に向かって突出した周壁部３２が形成された遮断板６と、スピンチャック３に保持された基板Ｗに処理液を供給する第１上側処理液供給管３５とを備えている。第１上側処理液供給管３５には、第２上側処理液供給管３８を介して第１配管内調合ユニット５１から薬液が供給される。この薬液は、薬液原液と、不活性ガス溶存水生成ユニット５０によって純水中の酸素が脱気され、当該純水中に不活性ガスが添加されて生成された不活性ガス溶存水とが第１混合部５９内で混合されることにより調合されたものである。 （もっと読む）

【課題】 少ない水量でもって且つ個別の孔・袋穴の位置を追わないで小径・微細な孔・袋穴の内部を確実に清浄できるようにする。
【解決手段】 物品Ｂを速度１．０ｍ／分で搬送するスラット式のコンベヤ装置Ｃのコンベヤ面の上下それぞれにノズル径０．３ｍｍの噴出ノズル２を搬送方向と直角の縦方向に２０ｍｍピッチで、又送り方向には４８ｍｍピッチで、千鳥状に配置した噴水ノズル体１を配置し、同噴水ノズル体１を搬送方向と直交する縦方向に毎分６００サイクルでもって揺動させながら、噴水させて孔・袋穴の内部を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】超音波処理装置の伝播槽内の伝搬液中における超音波の減衰もしくはゆらぎ、処理槽内の処理液中における超音波の減衰もしくはゆらぎを抑制することができ、かつ処理槽の破損を防止することができる超音波処理装置用供給液の製造装置を提供する。
【解決手段】超音波処理装置の処理槽に処理液を供給する処理液供給手段と、超音波処理装置の伝播槽に伝播液を供給する伝播液供給手段と、処理液中の溶存ガス濃度を制御する処理液溶存ガス濃度制御手段と、伝播液中の溶存ガス濃度を制御する伝播液溶存ガス濃度制御手段と、を備え、伝播液溶存ガス濃度制御手段は、伝播液中の溶存ガス濃度を０．２ｍｇ／Ｌ〜１０ｍｇ／Ｌの範囲に制御する超音波処理装置用供給液の製造装置である。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物の洗浄面の大径化に容易に対応できる超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る超音波洗浄装置は、伝搬液１５に超音波エネルギーを与える超音波振動子１３と、前記超音波振動子によって超音波エネルギーが与えられた伝搬液を流す超音波伝搬管１２と、前記超音波伝搬管の下方に配置された、被洗浄物２１を保持する保持機構と、前記保持機構によって保持された被洗浄物の洗浄面に洗浄液を供給する洗浄液供給機構と、を具備し、前記超音波伝搬管１２は、その側面が、前記洗浄液供給機構によって前記洗浄面に洗浄液を供給することで該洗浄面に形成される該洗浄液の液膜１９に接触するように配置されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 車両用トイレタンク内のスラッジを溶解し、前記トイレタンク内を洗浄するものであり、その際、前記トイレタンク内の最大容量を超えさせないようにすること及び溶解したスラッジが前記トイレタンクの外に接続されている車両用真空式トイレタンク内スラッジ除去循環装置内に混入しない手段を講ずること。
【解決手段】 車両用トイレタンク内にスラッジ溶解促進用洗浄剤を注入し、前記トイレタンク内の最大容量を超えさせないように容量を把握する水位計及び溶解したスラッジが前記循環装置内内に混入させないためのフイルターを配設し、前記洗浄剤を前記トイレタンク内で循環させることを特徴とする車両用真空式トイレタンク内スラッジ除去循環装置 （もっと読む）

【課題】略漏斗状の石英部材の内側を一層確実に洗浄することができる石英部材の洗浄方法を提供すること。
【解決手段】本発明の石英部材の洗浄方法は、第１開口部Ｓ１１及びその反対側に位置し且つ第１開口部Ｓ１１に連通する第２開口部Ｓ２１を有し、第２開口部Ｓ２１側に管状部Ｓ２を備えると共に第１開口部Ｓ１１側に第１開口部Ｓ１１の開口面積が第２開口部Ｓ２１の開口面積よりも大きくなるように膨らんだ膨出部Ｓ１を備える中空の石英部材Ｓを洗浄する洗浄方法であって、第１開口部Ｓ１１を下に向けた状態の石英部材Ｓに対して、第２開口部Ｓ２１を塞いだ状態で、石英部材Ｓの内側に第２開口部Ｓ２１を介して洗浄用液Ｒ３を噴射して、管状部Ｓ２の内側を洗浄する管状部内側洗浄工程を備える。 （もっと読む）

【課題】この発明は立位状態で搬送される基板を処理液によって均一に処理することができるようにした処理装置を提供することにある。
【解決手段】基板を処理液によって処理する処理装置において、
基板を立位状態で所定方向に搬送する搬送手段と、この搬送手段によって立位状態で搬送される基板に処理液を噴射するエッチング処理部１８とを有し、
エッチング処理部は、基板の板面に処理液を噴射する複数のノズル２１ａ〜２１ｄを有し、これら複数のノズルは基板の高さ方向に所定間隔で、かつ高さ方向上方に位置するノズルが下方に位置するノズルよりも基板の搬送方向後方に位置するよう配置されている。 （もっと読む）

【課題】 耐久性とコストを両立する合板素材の振動板について、共振性能を向上させることができる超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】 洗浄液を保持する洗浄槽と、洗浄槽に振動を伝播可能に設けられる振動板と、振動板を振動させる超音波振動素子とを具備する超音波洗浄装置であって、振動板は、第１素材により形成される第１板材と、第１板材に重ね合わされ第２素材により形成される第２板材からなり、第１板材の厚さをｔ_１、第２板材の厚さをｔ_２、第１板材の音速をｖ_１、第２板材の音速をｖ_２、超音波振動素子の発振周波数をｆ、自然数をｎとすると、
【数１】


の関係を満たすことを特徴とする超音波洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】酸液による酸洗工程の後の水洗工程において、酸液の除去の完了を簡単に、かつ、精度良く判断することが可能な多結晶シリコンの洗浄方法及び洗浄装置、並びにその洗浄によって高品質の多結晶シリコンを製造する方法を提供する。
【解決手段】多結晶シリコンの洗浄方法であって、酸液による酸洗工程Ｓ４と、この酸洗工程Ｓ４の後に純水で洗浄する水洗工程Ｓ５とを有し、水洗工程Ｓ５では、純水を貯留した水洗槽に多結晶シリコンを浸漬し、少なくとも１回以上水洗槽内の純水を入れ替えて、多結晶シリコンの表面に残留した酸液の除去を行うとともに、水洗槽中の純水の電気伝導度Ｃを測定し、電気伝導度Ｃの測定値によって水洗工程Ｓ５の終了を判断する。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】実施形態例において、洗浄発泡体を生成するデバイスは、メスハウジングとオスプラグとを含む。プラグは、洗浄システムの別の構成要素から流体が流れ込む開口部を含む。プラグは、開口部から流体を受領するとともに、発泡体を形成するために気体が注入される予混合チャンバを含む。実施形態例において、チャンバは、中空のシリンダであり、気体は、シリンダに対して接線方向にある流路を介してシリンダへ注入される。プラグは、さらに、外側に連続螺旋陥凹部を有する中実シリンダを含む。オスプラグがメスハウジングに挿入される時、連続螺旋陥凹部と、ハウジングの内面とは、螺旋流路を形成し、発泡体は螺旋流路を介して流動し、洗浄システムへ戻る途中でさらに混合される。 （もっと読む）

【課題】この発明は、洗浄処理に使用される洗浄液の損失が少なくて済み、消費量及びコストの低減を図ることができる被処理物洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】被処理物洗浄装置１により被処理物Ａを浸漬洗浄処理する際に、第１処理槽１Ｂ内に放出されたフッ素系溶剤Ｃの蒸気Ｃａを、第２処理槽２Ｂより下方に配置された冷却ジャケット３の冷却作用によって沸点より低い温度に冷却する。被処理物Ａを、第１処理槽１Ｂ内の第２処理槽２Ｂに貯留されたフッ素系溶剤Ｃに浸漬して浸漬洗浄処理する。浸漬洗浄処理から蒸気洗浄処理へ移行する際に、被処理物Ａを第２処理槽２Ｂに収容したまま位置を変更せずに、第２処理槽２Ｂに貯留されたフッ素系溶剤Ｃを蒸気Ｃａに入れ替えて蒸気洗浄処理する。蒸気洗浄処理から浸漬洗浄処理へ戻る際に、第２処理槽２Ｂに放出された蒸気Ｃａをフッ素系溶剤Ｃに入れ替えて浸漬洗浄処理する。 （もっと読む）

【課題】リソースの使用が延長されたことを判別できるようにすることにより、スケジュールに起因して処理が停止するのを防止して、装置の稼働率が低下するのを防止できる。
【解決手段】制御部２５は、単バッチのスケジュールにて、温水ユニットＨＤＩＷを使用する処理工程からロットが払い出されるタイミングに合わせて、温水ユニットＨＤＩＷの仮想リソースの使用終了時を表す仮想終了マークを付加しておく。全体スケジュールを作成する際に、払出が時間的に後ろにずれる場合には仮想リソースの仮想終了マークも時間的に後ろにずらし、仮想リソースの使用を仮想終了マークまで延長しておく。その結果、その後に配置される単バッチのスケジュールは、温水ユニットＨＤＩＷの仮想リソースによって排他される。リソースの競合によりアラームが発生して処理が停止するのを防止でき、装置稼働率の低下を防止できる。 （もっと読む）

【課題】基板の一方主面に形成されたパターンへのダメージを抑制しながら基板の他方主面を良好に洗浄処理する。
【解決手段】基板Ｗの表面Ｗｆに形成された液膜１１ｆを凍結させることによって、パターンＰＴの間隙内部に入り込んだＤＩＷが基板表面Ｗｆに付着するＤＩＷと一緒に凝固して凍結膜１３ｆの一部となり、凍結膜１３ｆによってパターンＰＴが構造的に補強される。そして、基板裏面Ｗｂに対して低温処理液を供給しながら基板裏面Ｗｂに形成される低温処理液の液膜１１ｂに対して超音波振動が付加されて基板裏面Ｗｂが超音波洗浄される。このように、凍結膜１３ｆによりパターンＰＴが補強された状態のまま基板裏面Ｗｂが超音波洗浄されるため、超音波洗浄によりパターンＰＴがダメージを受けることなく、基板裏面Ｗｂを超音波洗浄によって良好に洗浄処理することができる。 （もっと読む）

【課題】剥離溶液の酸濃度および極性に応じて異なる色を呈し得る着色指示薬であって、その色の変化がｐＨ０〜３の範囲、とりわけ０〜２の範囲、有利には０〜１の範囲において観察されるものとを含んでなる、液体剥離剤を提供する。
【解決手段】１種以上の強酸と、特に測定不能なｐＨ（すなわち１未満）で視覚的な用量指示薬を含んでなる強酸系剥離剤であって、該指示薬が水洗検査として、すなわち中性化検査としての機能も果たす剥離剤。 （もっと読む）

本発明は一般に食品汚れにより汚染された表面を洗浄およびスケール除去する方法で、とりわけクリーン-イン-プレース（装置を分解せずに洗浄する）システムに向けられている。とりわけ、本発明に基づく方法はさらに食品汚れにより汚染された表面の消毒も提供する。かくして、食品汚れした表面を洗浄、消毒、およびスケール除去することが可能な単一洗浄サイクルが提供され、さらにある実施態様では前すすぎを必要とせず、無機酸、有機酸、またはこれらの混合物から成る群から選択された酸の存在の元で脂肪性アルキル−１，３−ジアミノプロパンまたはその塩を含む酸性洗浄剤組成物を用いている。 （もっと読む）

【課題】薬液の使用量を抑えつつ基板表面を良好に処理することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】初期薬液処理では、基板表面Ｗｆにシリコン酸化膜が形成されており、基板表面Ｗｆは親水面となっている。そこで、初期薬液処理（時刻０から時間Ｔ1が経過するまでの間）においてはフッ酸溶液の流量を５１０（ｍＬ／ｍｉｎ）に抑えてフッ酸の使用量を抑制している。一方、初期薬液処理により基板Ｗのシリコン層の少なくとも一部が露出してくるタイミングでフッ酸溶液の流量を１５３０（ｍＬ／ｍｉｎ）に増大させて連続薬液処理中を実行しているため、基板表面Ｗｆの一部にシリコン層が露出して疎水面が形成されたとしてもフッ酸溶液が基板表面Ｗｆ全体をカバレッジしてシリコン酸化膜のエッチング除去を継続させることができる。 （もっと読む）