【課題】ガラス基板、電極または配線上に存在する有無機汚染物またはパーティクルを除去することが可能な平板表示装置用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】本発明の平板表示装置用洗浄剤組成物は、組成物の総重量に対して、第４級アンモニウム塩化合物０．０１〜１０重量％、グリコールエーテル化合物０．０１〜１０重量％、リン酸エステル化合物０．０１〜１０重量％、グリセリン化合物０．０１〜５重量％及び接触角低下剤０．０１〜１重量％を含有し、残部が水からなる。 （もっと読む）

【課題】クーラント、砥粒、あるいはシリコン粉に対する優れた洗浄性能を有し、かつ、その後のエッチング工程において良好なテクスチャーを形成することができるウェハ表面を作り上げることができるシリコンウェハ用表面処理剤組成物を提供する。
【解決手段】次の成分（ａ）〜（ｄ）からなる；（ａ）エーテル型非イオン界面活性剤０．１〜４０重量％、Ｒ−Ｏ−（ＡＯ）ｎ−Ｈ、Ｒ：炭素数８〜２４の直鎖又は分岐の脂肪族炭化水素基、ＡＯ：炭素数２〜４のオキシアルキレン基、ｎ：１〜１００（ｂ）アルキルポリグルコシド５〜４０重量％、Ｒ−Ｏ−（Ｇ）ｎ−Ｈ、Ｒ：炭素数１〜２２の直鎖又は分岐のアルキル基、Ｇ：炭素数５〜６の還元糖、ｎ：１〜５（ｃ）アルカリ剤１〜３０重量％（ｄ）水、前記成分（ａ）、（ｂ）、（ｃ）との合計量１００重量％中の残部。 （もっと読む）

【課題】研磨後の表面粗さの悪化を抑制し、かつ、洗浄性に優れる酸性洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】平均付加モル数が１０〜９０である炭素数２〜４のオキシアルキレン基と、アニオン性基（カルボン酸基を除く）又はその塩とを有する水溶性化合物、酸、及び水を含み、２５℃におけるｐＨが０．５を超え５．０未満である、シリカ研磨材及び／又はシリカ研磨屑が付着した電子材料基板を洗浄するための電子材料基板用酸性洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光学ガラスの洗浄において、潜傷の顕在化を抑制し、かつ、硝材によらず洗浄剤を変更する必要がなく、作業スペース、コストも低減し、作業効率を改善できる光学ガラス用洗浄液及び光学ガラスの洗浄方法を提供する。
【解決手段】質量平均分子量が１５００以上のポリカルボン酸を１０〜６０質量％、非イオン性界面活性剤を１〜２０質量％、溶媒を２０〜８９質量％含有し、ｐＨが９以上である光学ガラス用洗浄液及びそれを用いた光学ガラスの洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】 マスクブランク用基板の洗浄時に、ガラス基板内部に潜傷が発生することを抑制でき、しかも基板主表面に存在するパーティクルを確実に排除できるマスクブランク用基板等の基板の洗浄方法を提供する。
【解決手段】 液体中に配置された基板の少なくとも一つの表面に向かって、気泡又は洗浄用粒子を含む加圧した洗浄液体を噴射ノズルから噴射し、前記基板の少なくとも一つの表面を洗浄することを含むことを特徴とする、基板の洗浄方法である。 （もっと読む）

【課題】半導体材料用シリコンについて、アルミニウムおよび鉄の洗浄効果に優れた洗浄方法とその多結晶シリコン塊、洗浄装置を提供する。
【解決手段】半導体材料用シリコンを用意する工程と、逆浸透精製処理と、イオン交換精製処理とを行った純水を用意する工程と、前記純水を用いて半導体材料用シリコンを洗浄する工程と、前記洗浄によって、純水洗浄後のシリコン表面に残留するアルミニウムおよび鉄が低減された半導体材料用シリコンを得る工程と、を含む洗浄方法および洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】洗浄槽内に液剤が所定量正しく供給されたか否かの判定を行う。
【解決手段】洗浄槽３は、液体を貯留して被洗浄物２を浸漬する。減圧手段７は、洗浄槽３内の気体を外部へ吸引排出して、洗浄槽３内を減圧する。液剤供給手段５は、液剤タンク１７が液剤供給路１８を介して洗浄槽３に接続されてなり、液剤供給路１８には液剤供給弁１９が設けられている。減圧手段７により洗浄槽３内を減圧した状態で液剤供給弁１９を開くことで、洗浄槽３の内外の差圧を利用して液剤タンク１７からの液剤を洗浄槽３内へ供給する。液剤供給路１８には、液剤が流れたことを検出するフローセンサ２０が設けられている。液剤供給弁１９への動作用出力信号と、フローセンサ２０の検出信号とに基づき、洗浄槽３内への液剤の供給異常を判定する。 （もっと読む）

【課題】多結晶シリコンを収納した容器を洗浄槽との間で円滑かつ確実に搬送することができ、作業効率を向上させて安定した品質を維持できる多結晶シリコン洗浄装置及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】多結晶シリコンＳを容器３に収納した状態で洗浄槽２１〜２７に浸漬して洗浄する多結晶シリコンの洗浄装置１であって、洗浄槽２１〜２７の内底部に容器３を載置状態に保持するガイド枠５を有しており、ガイド枠５には上方から容器３の導入を案内する複数のガイド板５２が上方に向かうにしたがってガイド枠５の保持中心から離間する方向に傾斜して設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板の全面を十分に洗浄することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、基板を保持して回転させるスピンチャック２と、スピンチャック２に保持された基板Ｗに向けて処理液の液滴を吐出するノズル４とを含む。ノズル４には、処理液の液滴を吐出する複数の吐出口３３が一列に並べられた列Ｌ１が複数列配置されている。ノズル４はノズルアーム１８に保持されて、スピンチャック２に保持された基板Ｗの主面に垂直な垂直方向Ｄ１から見たときに基板Ｗの主面の回転中心Ｃ１を通る軌跡Ｘ１に沿って移動する。ノズル４は、垂直方向Ｄ１から見たときに複数の列Ｌ１と軌跡Ｘ１とが交差するようにノズルアーム１８に保持される。 （もっと読む）

【課題】イオン系コンタミが少なく、かつ乾燥不良が起きず、その結果ヘッド浮上量が微少なハードディスクに搭載してもヘッドクラッシュを起こさない磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】磁気情報記録媒体用ガラス基板を保管ケースに保管する公知を備える磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、前記保管ケースは、電気抵抗値が１０ＭΩ・ｃｍ以下である水溶液を用いてリンスされることを特徴とする磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を用いる。前記電気抵抗値が１０ＭΩ・ｃｍ以下である水溶液は、水に炭酸ガスを浸透溶解させて調整したものであることが好ましい。また、前記電気抵抗値が１０ＭΩ・ｃｍ以下である水溶液は、水に水素ガスを浸透溶解させ、ｐＨを９〜１０に調整したものであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】光学部品の洗浄装置において、超音波洗浄による光学部品の洗浄ムラの発生を抑制することができるようにする。
【解決手段】洗浄装置１を、被洗浄物Ｗを洗浄する洗浄液３が貯留された洗浄槽２と、超音波振動子４ａおよび超音波振動子４ａによる超音波振動を伝達してホーン先端面４ｃから放射するホーン４ｂを有し、洗浄液３に挿入されたホーン先端面４ｃの前方に超音波振動によるキャビテーションを生成するキャビテーション生成部４と、を備え、キャビテーション生成部４によって生成されたキャビテーションを被洗浄物Ｗに当てて洗浄を行う構成とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の表面を洗浄する工程においてガラス基板の表面がより良好に洗浄される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を得る。
【解決手段】円形ディスク状に形成されるガラス基板１に磁気記録層が形成される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、保持用治具７を用いてガラス基板１を洗浄液中に保持する工程と、洗浄液に超音波を印加し、ガラス基板１の表面に沿うように洗浄液中を伝播する超音波によってガラス基板１の表面を洗浄する工程と、を備え、ガラス基板１の表面に対して保持用治具７が超音波の伝播を遮る面積は、ガラス基板１の表面の面積に対して１％以下である。 （もっと読む）

【課題】配管の内壁に付着した凝集体等の付着物を、薬剤等の化学的作用や高圧ガスによる圧力を用いるのではなく、液体が衝突するときの衝撃により除去できる、低コストの洗浄方法を提供する
【解決手段】液状流体を移送するための配管の洗浄方法であって、内径Ｄの配管を、複数の洗浄液のドメインと複数の気体のドメインとを交互且つパルス状に連続して通過させる工程を備え、配管内を通過する、洗浄液の各ドメインが占める平均長さをＬ_W、気体の各ドメインが占める平均単位長さをＬ_Gとした場合、Ｌ_W／（Ｌ_W＋Ｌ_G）が０．１５〜０．８５であり、且つ、Ｌ_W＋Ｌ_G≦５０・Ｄである、を満たす。 （もっと読む）

【課題】洗浄水による洗浄と熱水洗浄とを同一の簡易な設備で施すことができる医療器具等の洗浄殺菌装置を提供する。
【解決手段】洗浄対象の器具が浸漬、且つ加熱するヒータ１４が設けられたポット部１２を具備する貯留タンク１０と、給排出手段と蓋部１８の天井面に向けてポット部１２で加熱された洗浄水を噴射し、天井面に噴射された熱水が流下するようにして水蒸気発生面積を可及的に広くして水蒸気を充満させる噴射ノズル２０，２０と、超音波洗浄を施す超音波発信装置１６と、前記超音波洗浄を施した器具の一部が露出するように貯留タンク１０に貯留された洗浄水をポット部１２で加熱して噴射ノズル２０，２０に送液するポンプとを備え、且つ貯留タンク１０内に各洗浄に用いる所定量の洗浄水を貯留するように前記給排手段を制御する制御手段を具備する。 （もっと読む）

【課題】液相部への給気流量を所定範囲に収めることにより、騒音を抑制しながら、洗浄性能の低下を防止する。
【解決手段】洗浄槽３には液体が貯留され、被洗浄物２が浸漬される。洗浄槽３には、減圧手段５と液相給気手段６とが設けられる。減圧手段５は、洗浄槽３内の気体を外部へ吸引排出して、洗浄槽３内を減圧する。液相給気手段６は、減圧手段５により減圧された洗浄槽３内の液相部に外気を導入する。また、液相給気手段６は、洗浄槽３内への外気流入量を絞る流量制限手段を備える。この流量制限手段は、たとえばオリフィス１８から構成される。 （もっと読む）

【課題】細かい磁性体含有粒子から有機溶媒を取り除く際に、乾燥した粒子の飛散を防止すると共に、気化熱で粒子の温度が低下することによることを防止することである。
【解決手段】磁性体を含有する平均粒子径２００μｍ以下の粒子を含む洗浄容器内に水と非水溶性溶媒の混合液を添加する第１の工程と、前記混合液で前記粒子を洗浄する第２の工程と、前記粒子を磁石で固定する第３の工程と、磁石を固定した状態で前記混合液を除去する第４の工程と、前記洗浄容器内に温水を注ぐ第５の工程と、気体を洗浄容器内に導入して非水溶性溶媒を除去する第６の工程とを具備することを特徴とする磁性体含有粒子の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】
炊飯釜等の容器洗浄装置において、容器洗浄面の最短距離まで洗浄ノズルを挿入し、洗浄面を死角なく効率的に洗浄することを可能ならしめると共に装置の小型化を達成する。
【解決手段】
容器３の取手部３ａが挿入される凹状部４を有する反転回動可能な容器支持体２と、ノズルアーム７ａ先端に取り付けられ、容器支持体２が反転したとき、該容器支持体に取り付けられた容器３内部を洗浄する回転式洗浄ノズル７を設けて、回転式洗浄ノズル７を容器支持体２の反転に伴って容器３内に移行して挿入し、回転しながら下向き姿勢の容器３内部を全面にわたり洗浄し得る如く構成した。なお、支持体２内への容器３の挿入、洗浄後の支持体内からの取り出しはガイドローラーを使用し、バッチ式としてもよく、搬送コンベアを用いて連続式又は往復式としてもよい。 （もっと読む）

【課題】液切れのよいノズルアームを備える基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板処理装置は、処理液を吐出するノズルと、ノズルを保持するノズルアーム４とを含む。ノズルアーム４は、水平面に沿う長手方向Ｄ１に延びている。ノズルアーム４の少なくとも一部の直交断面Ｃ１は、直交断面Ｃ１において最も上に位置している頂部４５と、頂部４５より側方に位置している側部４２と、頂部４５から側部４２まで下降し続けている上側傾斜部４７とを含む。 （もっと読む）

【課題】疎水性溶媒と親水性溶媒を用いて磁性体を洗浄するときに、磁性体と親和する溶媒量を低減させて洗浄効率を上げることを課題とする。
【解決手段】磁性体を含有する粒子を親水性溶媒と疎水性溶媒の混合溶液で洗浄する磁性体の洗浄装置において、洗浄容器１２と、前記粒子と前記親水性溶媒及び疎水性溶媒とを混合する攪拌機１１と、前記洗浄容器１２の底部に近接して移動可能な磁石１３と、洗浄後の溶媒を排液する排液管１４とを具備することを特徴とする磁性体の洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】
基板に付着したパーティクルは時間が経過するとともに除去しづらくなるが、基板の保管や運搬などで時間が経過した基板からこれらのパーティクルを除去するメディアイ工程でも、パーティクルを十分に除去することを目的とする。
【解決手段】
下記一般式（１）で表される脂肪族アルコールもしくはそのオキシアルキレン付加物の硫酸エステル塩、アルカリ、キレート剤および水を必須成分として含有することを特徴とする電子材料用洗浄剤を用いる。
ＲＯ−（ＡＯ）ｎ−ＳＯ_３⁻・1/f Ｍ^f+ （１）
［式（１）中のＲが脂肪族炭化水素基；Ｍ^f+はアルカリ金属、アンモニウムまたはアミンのカチオン；ＡＯはオキシアルキレン基。ｎはアルキレンオキサイドの平均付加モル数を表し０〜２０の数である。］ （もっと読む）