【課題】薬液よる基板の薬液処理後、純水処理時における基板表面へのパーティクルの転写を抑制する。
【解決手段】ウエハＷに洗浄処理を行う基板処理方法において、フッ酸（ＨＦ）等の薬液を貯溜した第１処理槽１１にウエハＷを浸漬させつつ薬液によりウエハＷに薬液処理を行う薬液処理工程と、塩酸（ＨＣｌ）を含む液体を第２処理槽２１へ供給し、第２処理槽２１を塩酸を含む液体により洗浄する処理槽洗浄工程と、第２処理槽２１へ純水（Ｈ_２Ｏ）を供給し、薬液処理工程で薬液処理されたウエハＷを第２処理槽２１に貯溜された純水に浸漬させつつ純水によりウエハＷに純水処理を行う純水処理工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 効率的でかつ廉価な基板の乾燥方法を提供する。
【解決手段】 リンス処理（リンス工程 Ｓ１）後、まず、窒素による圧送により、ウエハ２０が配置された密閉処理容器１２に残留した超純水等の水分が密閉処理容器１２の下部から排出される（リンス液排出工程 Ｓ２）。つぎに、低温状態下にある密閉処理容器１２内に窒素を高速で吹き込んで、密閉処理容器１２内に残存する超純水等を吹き飛ばして排出する（残存液除去工程 Ｓ３）。つぎに、ＩＰＡ蒸気を同伴した窒素を密閉処理容器１２内に供給する（残存液置換工程 Ｓ４）。最後に、密閉処理容器１２内を大気圧未満の所定の圧力に減圧しながら、窒素を密閉処理容器１２内に吹き込んで乾燥を終了させる（乾燥工程 Ｓ５）。 （もっと読む）

【課題】 各種レシピに対応した洗浄槽の配列構成が可能で、汎用性に富むとともに、スループットにも優れる基板洗浄技術を提供する。
【解決手段】 基板洗浄部Ｂは、複数種類の薬液で洗浄処理可能な多機能洗浄槽３（３ａ、３ｂ）と、専用の薬液で洗浄処理可能な単機能洗浄槽４（４ａ、４ｂ）とを組み合わせてなる洗浄槽列１（１ａ、１ｂ）が２組設けられてなり、各種レシピに対応した洗浄槽の配列構成が可能で、スループットにも優れる。 （もっと読む）

【課題】 基板洗浄装置の工程流れ方向に対するコンパクト化を図りつつ、基板の支持を確実化させると共に、基板のエッジ部分の異物残存を回避し、製品歩留まりを向上させる。
【解決手段】 基板２を移送しつつ、スクラビング洗浄工程、リンス洗浄工程、および乾燥工程を順次実行する基板洗浄装置１において、スクラビング洗浄工程を実行する第一の槽４と、リンス洗浄工程および乾燥工程を実行する第二の槽５とを備える。そして、第二の槽５に、基板２を垂直姿勢に保持してスピンリンス洗浄およびスピン乾燥を行うための単一のスピン部５８を配備する。 （もっと読む）

【課題】 連続的に搬送されてくる個々の容器内部を衛生的かつ有効に洗浄し、引き続き水切り乾燥まで連続的に行なうことができる容器の連続洗浄装置の提供。
【解決手段】 容器を洗浄室内へ受け入れる受け入れコンベアと、該受け入れコンベアにより洗浄室内で受け入れられた容器を、その受け入れコンベアと共に洗浄位置まで上昇させ、さらには洗浄後の容器を受け入れコンベアと共に初期位置へ降下させる昇降機構と、該昇降機構の動作で上記コンベアと共に洗浄位置まで上昇された容器を、その両側方から挟持しながら、天地逆に反転するクランプ反転機構と、該クランプ反転機構により反転された容器の内外面を湯洗及びリンス洗浄する洗浄機構と、該洗浄機構による洗浄が終了された容器の内面及び外面の水切りを行なうエアブロー機構を有する。 （もっと読む）

【課題】 多孔質体の多孔質構造を変化させることなく短時間で洗浄する。
【解決手段】 陽極化成により形成された多孔質体を洗浄する洗浄方法において、陽極化成終了後に、アルコール、酢酸等を含む洗浄液により多孔質体を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】 キャリアをブラシ洗浄する際に、ブラシの回転駆動に伴って発生するパーティクルによる洗浄度低下を防止する。
【解決手段】 回転ブラシを駆動するためのモータ３８ａを水平アーム３２内に収容する。水平アーム３２の先端部から下方に延出する垂直アーム３３の下端部に、回転ブラシの回転軸３５を支持する軸受３４を取付け、モータ３８ａの回転を垂直アーム３３内のベルト３８ｅを介して回転軸３５に伝達する。回転ブラシを支持するアームをケースにして、回転ブラシの回転駆動部３８をこのケース内に収容したことにより、ブラシの回転駆動に伴って発生するパーティクルの洗浄槽への落下が防止される。 （もっと読む）