【課題】化粧道具を良好に洗うことができる化粧道具洗い具を提供する。
【解決手段】化粧道具２を挟む第１，第２の押し付け体１０，２０をヒンジ部３０で連結し，少なくとも一方に通水口１１（２１）を設ける。第１，第２の押し付け体１０，２０の間に化粧道具２を入れ，必要に応じて通水口１１から化粧道具２へ水等を供給しながら，第１，第２の押し付け体１０，２０をヒンジ部３０回りに複数回回動させて両押し付け体１０，２０で化粧道具２をその弾性力に抗して挟むようにして化粧道具２を好適に押し洗いすることができる。筆洗い干し具は，液体を入れることが可能な容器本体の底面に一体に複数個設けられていて，筆の毛部を捌く半球状の突起を備えた筆洗い具と，容器本体に対して着脱可能に取付可能で，容器本体への装着時に，容器本体の少なくとも外側において，筆の柄部を，柄の軸方向が上下方向を向くように保持する保持部を有する筆干し具とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板洗浄工程中に電析の発生を防止しつつ基板の状態を観察することが可能な基板洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】発電層が形成された基板１２を洗浄する洗浄部と、それらの上流側に設けられて、基板１２を基板搬入口から洗浄部に搬入する搬入部と、洗浄された基板１２の発電層を乾燥させる乾燥部と、乾燥部の下流側に設けられて乾燥した基板１２を基板搬出口へ搬出する搬出部と、基板搬入口を除く搬入部、洗浄部、乾燥部、基板搬出口を除く搬出部内に入射する光を遮断する光遮断手段９と、それに設けられる観察窓１０と、観察窓１０から入射する光のうち発電層の発電に寄与する波長の少なくとも一部を遮断し、発電層の発電電圧を波長の少なくとも一部を遮光しない場合の発電電圧の１／１０以下にする光透過手段と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 傾斜面に沿って斜めに載置される可撓性対象を効率よく洗浄でき、しかもコンパクトな洗浄装置を提供する。
【解決手段】 傾斜面と直交するように配置される平行な第１、第２縦レール４、５と、第１、第２縦レール４、５に沿って走行可能な第１、第２フレーム６、７と、第１、第２フレームを連結する横レール９と、横レール９に沿って傾斜面に沿って横行するノズルフレーム１１とを備え、横レールは、傾斜面に平行で間隔を開けて位置する水平上片及び水平下片と、これらを連結する起立片とを有し、ノズルフレーム１１の上部には、水平下片の上面に接する上部ローラ１６と水平下片の下面に接する下部ローラ１７とが設けられ、ノズルフレーム１１は、上部ローラ１６と下部ローラ１７が横レール９を挟持することにより支持される。 （もっと読む）

【課題】 水面下に超音波振動子を配置した水槽の水中へ被洗浄物を搬送コンベヤでもって連続的に又は間欠的に水平に搬出入できて効率的な洗浄が行え、しかも通過する開口部からの水槽の洗浄水の排出量を低く抑えて小型化する。
【解決手段】 側壁の左右に開口部２，３を設けた水槽１内に超音波振動子７を上下及び前後に対向するように設け、開口部２，３を介して被洗浄物を収容するネットトレー５ｆが通過するように搬送コンベヤ５を設け、各開口部に上下動するシャッター４と水吹出ノズル８を設け、水槽１の外側に未洗浄の洗浄物を収容したネットトレー５ｆを搬送コンベヤ５に取り付ける投入ステーション１１と、水槽で洗浄したネットトレー５ｆ及び被洗浄物にリンス液を吹付けその後空気を吹付けて乾燥させる仕上げステーション（乾燥室１０）と、洗浄処理完了したネットトレー５ｆを搬送コンベヤ５から取り外す回収ステーション１２とを設ける。 （もっと読む）

【課題】水道水等を貯留する貯水槽の広大な面積の垂直なコンクリート壁面に対して、ウォータージェットによる研掃を効率良く行えるようにする表面研掃処理装置を提供する。
【解決手段】表面研掃処理装置１０は、ベースマシン１４と、縦方向スライドガイド部１６と、横方向スライドガイド部１９と、ウォータージェット噴射ノズル１１を備えるウォータージェット治具１３とを含んで構成される。ベースマシン１４は、基台部２３と走行部２２とからなる。縦方向スライドガイド部１６は、基台部２３上の支持架台２１に固定される縦方向固定ガイド部１７と、縦方向固定ガイド部１７に沿って昇降可能な昇降ガイド部１８とからなる。横方向スライドガイド部１９は、ウォータージェット治具１３の横巾の略３倍の長さを有し、昇降ガイド部１８に沿って昇降可能である。ウォータージェット治具１３は、横方向スライドガイド部１９に沿って横方向に移動可能である。 （もっと読む）

【課題】室温でもポリイミドを良好に除去することができ、アルミニウム及びアルミニウム合金配線の腐食防止効果にも優れるだけでなく、長期間使っても析出の問題がないポリイミド除去用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】組成物の総重量に対し、（Ａ）０．１〜１０重量％の下記化学式１で示される第４級アンモニウム水酸化物、（Ｂ）５０〜９０重量％のグリコールエーテル系化合物、（Ｃ）７〜３０重量％のグリセリン、及び（Ｄ）残量の水を含むポリイミド除去用洗浄剤組成物を提供する。
［化学式１］
［Ｎ−（Ｒ）_４］^＋・ＯＨ⁻
前記式で、Ｒは炭素数が１〜５のアルキル基である。 （もっと読む）

【課題】洗浄対象となる基板近傍にて光触媒反応を利用してＯＨラジカルを潤沢に発生させることによって、基板上に付着した有機物等のパーティクルを効果的に除去することのできる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】処理対象である基板Ｗ上の被処理面Ｗ１を洗浄する第１のノズル１１と、被処理面Ｗ１上に液を供給する第２のノズル１２と、を備え、第１のノズル１１は、被処理面Ｗ１に対向し液に接触する光触媒１１ａと、光触媒１１ａを保持する保持部材１１ｂと、保持部材１１ｂを透過して光触媒１１ａに光を照射する光源１１ｃとを備える。 （もっと読む）

【課題】合成石英ガラス基板から成る半導体フォトマスクやナノインプリントテクノロジーにおいて、使用されているレジスト膜と、レジスト膜の上に形成されている保護膜を同時に除去することができ、不要となった膜成分を容易に回収でき、剥離させるための溶剤を長く使用することができると共に、レジスト膜又は保護膜の除去能力及び膜の除去にかかるタクトタイムを改善できる基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板表面にレジスト膜が被覆された合成石英ガラス基板を、テルペン類が溶解している溶剤に浸漬して、上記レジスト膜を剥離し、次いで当該基板を水リンスする。 （もっと読む）

【課題】多孔質セラミックで構成された保持パッドを従来よりも高い洗浄力で洗浄する。
【解決手段】保持パッド１の多孔質セラミックで構成された保持部３に対し、水とエアとの混合流体である二流体を噴出させて保持部３内の孔に混入する屑を洗い出す二流体噴出洗浄工程と、保持部３を吸引する吸引洗浄工程とを、一定時間ごとに複数回交互に繰り返して保持部３を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】微細バブルの洗浄に有効なより多くの性質を利用しつつ効果的な洗浄を可能にする洗浄方法及び洗浄装置を提供する。
【解決手段】処理液をかけて被洗浄物を洗浄する洗浄方法であって、マイクロナノバブルやナノバブル等の比較的小さいサイズのバブルを含む第１処理液を前記被洗浄物にかける第１ステップ（Ｓ３）と、該第１ステップの後に、前記第１処理液に含まれるバブルより大きいサイズのマイクロバブル等のバブルを含む第２処理液を前記第１処理液が付着した状態の前記被洗浄物にかける第２ステップ（Ｓ４）とを有し、第１処理液での洗浄の後に、該第１処理液に含まれるバブルより大きいサイズのバブルを含む第２処理液での洗浄がなされるので、比較的小さいバブルの好ましい性質を利用した第１処理液による洗浄の後に、比較的大きいバブルの好ましい性質を利用した第２処理液による洗浄を行うことができるようになる。 （もっと読む）

【課題】湿潤および浸透効果に優れるため、配向膜基板上に存在する汚染物質に対する洗浄効果に優れた洗浄液組成物を提供する。
【解決手段】本発明の洗浄液組成物は、アルカリ化合物を含まない洗浄液組成物であって、組成物の総重量に対して、Ｃ１〜Ｃ５の低級アルコール０．１重量％〜１５重量％、水溶性グリコールエーテル化合物０．１重量％〜１５重量％、有機リン酸０．０１重量％〜１０重量％、アゾール系化合物０．００１重量％〜１０重量％、および残量の水を含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、煩雑な水切り溶剤の組成管理を必要とせず、かつ水切り性に優れた水切り乾燥方法、および水切り乾燥システムの提供を目的とする。
【解決手段】特定の条件を満たすハイドロフルオロカーボンおよびハイドロフルオロエーテルからなる群から選ばれる１種以上のフッ素系溶剤（Ａ）を含む沸騰状態の水切り溶剤に、水またはアルコール水が付着した物品を浸漬させて該物品に付着した水分を蒸発させ、該物品を乾燥させる水切り乾燥工程を有する水切り乾燥方法。また、該水切り乾燥方法に使用する水切り乾燥システム。 （もっと読む）

【課題】高い清浄度でウェブを洗浄する。
【解決手段】ウェブ２の表裏面の少なくとも一方の面に対して、洗浄液が供給される。これにより、ウェブ２の面に沿った液流が発生させられる。この洗浄液には、ウェブ２の面に存在する異物１１に接触させるためのブラスト材１２が混入されている。したがって、ウェブ２の表面に沿った液流自体による剥離作用だけでなく、ブラスト材１２が接触することによる剥離作用が、異物１１に対して働く。このようにして、ウェブ２の面に沿った液流により、ウェブ２の面に存在する異物１１が除去される。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物の種類や数量に応じた最適な洗浄時間での洗浄を容易に行うことのできる蒸気洗浄装置を提供する。
【解決手段】蒸気洗浄装置において、ワーク４０を気密に収容する洗浄乾燥槽１０と、洗浄乾燥槽１０に溶剤の加熱蒸気を送り込む蒸気供給手段２０と、洗浄乾燥槽１０を減圧する減圧手段３０と、洗浄乾燥槽１０内の温度を検知する温度検知手段１３と、蒸気洗浄の開始後において、前記減圧手段３０による洗浄乾燥槽１０の減圧を断続的に実行させる減圧制御手段６１と、前記断続的な減圧に起因する前記洗浄乾燥槽１０内の温度変動の幅が予め定められた値以下となった時点で蒸気洗浄が完了したと判定する判定手段６３とを設ける。 （もっと読む）

【課題】水分を十分に除去しながら、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）あるいはこれに代わる水切り乾燥液の使用量が少ない水切り工程を含む洗浄方法・装置を提供する。
【解決手段】洗浄装置１（洗浄方法）は、被洗浄物に洗浄溶剤を適用する第１洗浄処理槽２及び第２洗浄処理槽３（薬剤洗浄工程）と、洗浄処理後の被洗浄物を水ですすぐ第１すすぎ槽４及び第２すすぎ槽５（すすぎ工程）と、被洗浄物に付着した水分を除去するための水切り乾燥槽群６（水切り乾燥工程）を備える。水切り乾燥槽群６は、前記被洗浄物を浸漬した後で引き上げる温純水引き上げ槽１１（水引き上げ工程）と、水を取り込む乾燥用溶剤の蒸気を当てる溶剤乾燥槽１３（溶剤乾燥工程）を含む。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成でトレーや焼肉に使用する金網および鉄板等に付着する油、カーボン状の汚れを傷つけることなく洗浄する洗浄方法およびこの洗浄方法を用いた洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】一方に傾斜した底板２を有し、内部に被洗浄物載置用のメッシュ板３と洗浄溶液加熱用のヒータ４とを備えた洗浄槽１と、この洗浄槽１の側面に前記ヒータ４の温度を制御する温度制御器７と前記洗浄溶液８の供給器９と洗浄溶液上面の浮遊汚物および前記底板２に沈殿した洗浄剥離汚物を排出する排出管１１および１２を配設した洗浄装置内に、１０重量％の塩基性水溶性塩よりなるイオン洗浄溶液を水１リットルに対して３〜３００グラム混合した洗浄溶液８を満たし、この洗浄溶液８を３０〜９０℃に加熱すると共に被洗浄物を３０分以上浸漬するように構成したものである。 （もっと読む）

【課題】 ガラス面、光沢のある金属面や塗装面、プラスチック面の拭掃は勿論、処理液によって処理された面が光沢を失わないで汚れを防ぎ、長期間その効果が持続する表面処理液の製造方法を提供する。
【解決手段】 高速回転機能を有する撹拌機の回転槽内に、エタノ−ル６０％、精製水３９，７％、弗素０，７％ の割合で投入した後、２００００回転乃至２５０００回転の速度で１０数分回転させる表面処理液の製造方法。 （もっと読む）

【課題】医療用器材等の洗浄対象物に付着した錆やスケールを確実に除去することができるとともに、洗浄対象物の腐食が生じないようにし、かつ作業者の危険性を減らすことができる洗浄方法および洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄対象物に、酸性洗浄剤により洗浄を施し、酸性洗浄剤による洗浄終了後に、洗浄対象物に、アルカリ性洗浄剤により洗浄を施し、アルカリ性洗浄剤による洗浄終了後に、アルカリ性洗浄剤を水または温水ですすぐことを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】運転日時、運転内容、洗浄結果などを履歴として残し、所望により確認することのできる洗浄管理機能を搭載した洗浄装置の提供。
【解決手段】洗浄装置１の運転情報記憶部２８には、運転日時、消毒効果を示すＡ０値、運転時間（運転に要した時間）を含む運転情報が、運転ごとに記憶される。操作パネル２４にて指定された運転についての運転情報を運転情報記憶部２８から取得して、少なくとも運転日時、Ａ０値、運転時間を出力する。洗浄インジケータの結果についても、運転情報として同様に管理するのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】水量不足にならず、かつ無駄な水をなくすことを目的とする。
【解決手段】洗浄装置は、給水手段による給水時に、第１の水位計の測定結果に基づいて第１の洗浄水タンク内の水位が所定水位より低いと認識した場合に、第２の水位計に基づいて第２の洗浄水タンクが満杯になったと認識しても、第１の洗浄水タンクの水位が所定水位より高くなる所定水量をさらに給水手段に給水させる制御手段を具備する。 （もっと読む）