【課題】水量不足にならず、かつ無駄な水をなくすことを目的とする。
【解決手段】洗浄装置は、給水手段による給水時に、第１の水位計の測定結果に基づいて第１の洗浄水タンク内の水位が所定水位より低いと認識した場合に、第２の水位計に基づいて第２の洗浄水タンクが満杯になったと認識しても、第１の洗浄水タンクの水位が所定水位より高くなる所定水量をさらに給水手段に給水させる制御手段を具備する。 （もっと読む）

【課題】 製造工程時に使用する装置から溶出する鉄イオンに代表される金属イオンに由来するパーティクルに対して優れた洗浄性を有するとともに、適度なエッチング性を有することで基板表面から脱離したパーティクルの分散性が良好であり、かつ再付着防止性に優れた磁気ディスク用基板洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 オキシカルボン酸（Ａ）とｐＨ６．０における三価の鉄イオンに対するキレート安定度定数の対数値が７．０以上であって該オキシカルボン酸以外のキレート剤（Ｂ）およびアルカノールアミン（Ｃ）を必須成分として含有することを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤である。 （もっと読む）

【課題】同じ洗浄液を長時間使い続けても液晶パネルに不具合を生じることなく、かつ、液晶汚れに対する洗浄力に優れた液晶除去用洗浄剤組成物及び液晶パネルの洗浄方法を提供する。
【解決手段】式（１）［Ｒ^１はＯＣＨ_３又はＣＨ_２ＯＣＨ_３、Ｒ^２はＣＨ_３、ＯＣＨ_３又はＣＨ_２ＯＣＨ_３を示す。］で表される芳香族化合物と、水と、式（２）で表される化合物及び炭素数７〜２２のアルキル基又はアルケニル基を有するＨＬＢが１１以上のアルキレンオキサイド付加型ノニオン界面活性剤からなる群から選択される少なくとも一種と、特定の化学構造を有する窒素誘導体化合物１質量％以上とを含有する液晶除去用洗浄剤組成物。
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【課題】マイクロスクラッチの発生を抑制して、ステンレス鋼板の研磨を行う。
【解決手段】帯状ステンレス鋼板１を研磨した後、鋼板上の研磨液３の洗浄及び、鋼板１の乾燥を行う鋼板１の研磨方法であって、（１）鋼板１を研磨した領域の鋼板１の長手方向の両端近傍の上部に設けられた１対の洗浄ノズルから鋼板上に洗浄液を供給し、鋼板上の１対の洗浄ノズル間に研磨液３と洗浄液を滞留させた後、研磨液３を、研磨液除去材料を用いて洗浄液と共に鋼板１の幅方向端部から外部へと洗い流す。（２）鋼板１の長手方向において、研磨した領域、洗浄ノズル及び乾燥ノズルの順で鋼板１の上部に設けられた乾燥ノズルから鋼板上にガスを供給し、洗浄ノズルと乾燥ノズルの間に洗浄液を滞留させ、かつ鋼板１を洗浄ノズルから乾燥ノズル方向へ向って移動させながら前記ガスにて鋼板上の洗浄液を順次吹き払って鋼板１を乾燥する。 （もっと読む）

【課題】使用できるスペースに制限のある作業場所においても、塗料の洗浄によって生じた廃水を適正に処理可能な器具類の付着物の洗浄装置を提供する。
【解決手段】水性塗料又はその他の汚れが付着している器具類を水で洗浄した洗浄廃水を貯留可能であり、洗浄廃水に対して中和と凝集を含む必要な処理を行うために、洗浄廃水を溜めるときは排水口１３を閉じ、洗浄廃水を排出するときには排水口を開く開閉部２０を設けた貯留槽１４と、上記貯留槽内部に着脱可能に配置され、必要な処理の行なわれた洗浄廃水を槽外部へ排出する際に凝集分ないし固形分を捕集する粗フィルターを備えた第１の分離手段と、上記貯留槽から排出された洗浄廃水を受け入れ、第１の分離手段を通過した固形分を捕集するために、上記粗フィルターよりも細かいメッシュを持つ細フィルターを備えた第２の分離手段を具備する。 （もっと読む）

【課題】ノズルを移動しながら基板を処理することができ、かつ、密閉チャンバの内部空間の狭空間化を図ることができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】密閉チャンバ２は、密閉された内部空間を区画する隔壁９を有している。密閉チャンバの内部空間でウエハＷが保持される。密閉チャンバ２には、移動ノズルとしての形態を有する処理液ノズル４が設けられている。処理液ノズル４を支持するノズルアーム１５は、隔壁９に形成された通過孔１４を介して密閉チャンバ２の内外に跨って延びている。このノズルアーム１５は、密閉チャンバ２外に配置された直線駆動機構３６によって駆動されるようになっている。隔壁９とノズルアーム１５の外表面との間は、第３シール構造によってシールされるようになっている。 （もっと読む）

【課題】マイクロリアクタを包含するマイクロリアクタラインのインライン洗浄が可能なマイクロリアクタライン洗浄システムを提供する。
【解決手段】マイクロリアクタ２０と、前記マイクロリアクタ２０が介装された第１の流路１２と、前記第１の流路１２の前記マイクロリアクタ２０の上流側で合流し、前記マイクロリアクタ２０及び前記第１の流路１２に洗剤４４、すすぎ水５２、揮発性溶剤６０の順に流通させる洗浄機構（第１の流路１２に合流する第２の流路３６、第２の流路３６に合流する第１の供給手段３８乃至第５の供給手段７０等）と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板上の不要物を良好に除去することができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】バキュームチャック１１の上方には、ほぼ円錐形状の遮断板１２が配置されている。遮断板１２の下面１２１には、それぞれエッチング液、純水および窒素ガスを吐出する開口１２２ａ，１２２ｂ，１２２ｃが形成されている。エッチング液、純水および窒素ガスは、ウエハＷの回転半径外方に向かうにつれてウエハＷに近づくように傾斜した方向に吐出されて、それぞれウエハＷの表面のエッチング液供給位置Ｐｅ、純水供給位置Ｐｄおよび窒素ガス供給位置Ｐｎに供給される。 （もっと読む）

【課題】高圧の洗浄液を用いずとも金属部材の表面の付着物を洗浄することができ、強固な防錆膜を形成することができる防錆膜形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の防錆膜形成方法は、沸点以上の温度を有し、加圧した水を含む洗浄液を常圧中に放出させて沸騰させることにより、水蒸気と液滴とからなる気液混合体を形成する気液混合体形成工程と、気液混合体を金属部材に吹き付けることにより金属部材の表面の付着物を除去し、金属部材の表面に酸化層を形成する酸化層形成工程と、酸化層の表面に防錆膜を形成する防錆膜形成工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子の大型蒸着マスクを効率よく洗浄し、蒸着マスクの利用回数を上げることができる装置を実現する。
【解決手段】蒸着マスク２は第１の面と第２の面を有し、前記第１の面には蒸着剤が付着しており、前記蒸着マスクの第１の面の周辺が前記蒸着マスクよりも厚さの大きい枠部３に取り付けられている。レーザ照射手段によって、第１の面にレーザ１０を照射して蒸着剤を蒸着マスクから剥離する。ノズルを有する第１の洗浄手段６によって蒸着マスクの第１の面に洗浄液を照射し、ノズルを有する第２の洗浄手段６によって超音波を印加した洗浄液を蒸着マスクの第２の面に照射する。これによって、蒸着マスク２の近傍において、超音波が印加された洗浄液を照射することが出来る。したがって、蒸着マスクを効率よく洗浄することが出来る。 （もっと読む）

【課題】安価で素早く高度な洗浄性能を発揮することができる超音波洗浄装置を提供すること。
【解決手段】超音波洗浄装置１は、洗浄液７００を用いて被洗浄物８００を超音波洗浄処理する洗浄処理部１００と、洗浄液７００に対して超音波振動を照射する振動子２００と、振動子２００を圧電効果によって超音波振動させるために、所望の周波数で、且つ所望の振幅の電気信号を振動子２００に付与する発振器３００と、洗浄液７００に所望の濃度を有する気体４１０を溶解する気体溶解部４００と、振動子２００より発振される超音波振動（圧力変動）から音圧Ｐを測定する音圧測定部５６０と、音圧測定部５６０によって測定された音圧Ｐを基に、気体溶解部４００によって洗浄液７００に溶解する気体４１０の濃度を制御する制御部６００とを有している。 （もっと読む）

【課題】 乾燥後に発生するシリカ成分などによる白濁シミの付着及びその付着物による錆を防止する洗浄後の白濁シミ付着防止洗浄方法及びその洗浄装置を得ること。
【解決手段】 洗浄水又は濯ぎ水に含まれる不純物により白濁シミ及び錆が、洗浄、乾燥後に発生しないように、逆浸透膜（ＲＯ膜）装置で溶存不純物を除去した純水とし、特に濯ぎ槽の塩化カルシュウム、塩化ナトリウムの不純物の濃度を１０ｐｐｍ以下にする目的で純水の供給量を制御する洗浄後のシミ付着防止方法と、
第１槽の洗浄槽及び第２槽の濯ぎ槽に超音波発生装置及び加温するヒーターを設けた洗浄装置において、該第２槽を介して該第１槽に純水を供給する該逆浸透膜装置を備え、該第２槽の汚染度を計測する導電率センサーにより純水の供給量を制御し、また該逆浸透膜装置の排水を洗浄槽に洗浄水として供給する洗浄後の白濁シミ付着防止の超音波洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】基板を安定的に処理することができる基板の処理方法および処理装置を提供すること。
【解決手段】処理装置１は、内部に液体Ｌが供給されるとともに、供給された液体Ｌに基板２を浸積させる槽１１と、槽１１内部に配置される基板２の基板面が鉛直方向に略平行となるように基板２を保持する保持部１３とを備える。処理装置１は、槽１１の供給口１１１から排出口１１２に向かって液体Ｌを流すと、液体Ｌが、鉛直方向上方側から下方側に向かって基板面に沿って流れるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高い洗浄性と高い保存安定性とが両立された硬質表面用アルカリ洗浄剤組成物、及びそれを用いて行うガラス表面の洗浄方法を提供する。
【解決手段】アルカリ剤（成分Ａ）と、非イオン性界面活性剤（成分Ｂ）と、キレート剤（成分Ｃ）と、水（成分Ｄ）と、一般式（１）および一般式（２）から選ばれる少なくとも１種のカルボン酸化合物(成分Ｅ)と、一般式（３）で示される化合物およびその塩から選ばれる少なくとも１種のアニオン性界面活性剤(成分Ｆ)とを含有してなり、含有量比〔成分Ｅ（重量％）／成分Ｂ（重量％）〕が１／１．５〜１５／１であり、含有量比〔成分Ｆ（重量％）／成分Ｂ（重量％）〕が１０／１〜１／５であり、２５℃でのｐＨが１２以上である、硬質表面用アルカリ洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】液滴吐出装置の導体パターン形成用インクの流路における汚れ、液滴吐出ヘッドの目詰まりを好適に解消できる液滴吐出装置の洗浄方法を提供する。
【解決手段】液滴吐出方式による導体パターンの形成に用いられ、金属粒子が水系分散媒に分散した導体パターン形成用インク１を吐出する液滴吐出装置を洗浄する洗浄方法であって、前記液滴吐出装置の前記導体パターン形成用インク１の流路に、分散剤と有機溶剤とを含む第１の洗浄液を流す第１の洗浄工程と、前記第１の洗浄工程の後、前記液滴吐出装置の吐出性を検査する検査工程と、無機酸を含む第２の洗浄液を前記流路に流す第２の洗浄工程と、主として前記水系分散媒で構成された第３の洗浄液を前記流路に流す第３の洗浄工程とを有し、前記第２の洗浄工程および前記第３の洗浄工程は、前記検査工程の結果に応じて行う。 （もっと読む）

【課題】超純水製造システムから金属不純物を効率よく除去でき、しかも洗浄時間も短くて済む超純水製造システムの洗浄方法を提供する。
【解決手段】１次純水タンク２１に塩酸を添加し、ポンプ２２によって熱交換器２３、紫外線酸化装置２４、バイパスライン３０，３１，３２、流路６ａ、ユースポイント４及び流路６ｂの順に循環させ、次いで浸漬状態とする。その後、タンク２１内を１次純水とし、同一の順番にて１次純水を通水し、洗浄液を流路６ｂの末端から系外に排出する。酸洗浄に際し、脱ガス装置２５、イオン交換樹脂塔２６、ＵＦ装置２７をバイパスさせる。ＵＦ装置２７をバイパスすることにより、塩酸含有液の押し出し洗浄時間が短縮される。 （もっと読む）

本発明は、加熱された洗濯プロセスの間の発煙および／または曇りを低減するための組成物ならびに方法を提供する。この組成物は、発煙低減性界面活性剤パッケージ、および所定の量の遊離アルコールを含む洗浄性界面活性剤を含んでいる。この発煙低減性界面活性剤パッケージは、アニオン性界面活性剤、両性界面活性剤またはそれらの混合物を含んでいる。これらの界面活性剤は、これらの界面活性剤を含む該組成物と接触した衣類が、少なくとも約２５０°Ｆに加熱された時に、発生する煙または曇りが、低減および／または排除されるように選択される。また、この組成物を用いる方法も提供される。
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【課題】エタノールを含有する洗浄剤組成物を用いる軽い清掃作業である水拭きにおいて、泡立ちがなく、跡残りのなさなどの仕上がり性に優れることに加えて、エタノール臭が全く気にならない、さらにワックス床に対して悪影響のない水拭き用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）アルキル基の平均炭素数が８〜１６であり、糖の平均縮合度が１〜２のアルキルグリコシドを０．０５〜０．１５質量％、（ｂ）炭素数８〜２０の炭化水素基を１つ有するアルキルアミンオキシドを０．００１〜０．０５質量％、（ｃ）エタノールを５〜２０質量％、（ｄ）香料を０．００１〜０．１質量％、及び水を含有し、質量比として（ａ）／（ｂ）＝６０／４０〜９９／１、［（ａ）＋（ｂ）］／（ｄ）＝１〜１０である水拭き用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】 超音波洗浄で問題となっていた洗浄ムラ（洗い残し）の問題を解消し、パーティクル除去を効果的に行うこのできる超音波洗浄方法を提供することにある。
【解決手段】 少なくとも、洗浄槽中の洗浄液に被洗浄物を浸漬し、超音波振動子から発生する超音波を前記洗浄槽中の洗浄液に伝播させて前記被洗浄物を洗浄する超音波洗浄方法であって、前記超音波振動子から発生する超音波による被洗浄物の洗浄を、少なくとも２以上の超音波出力条件で行うことを特徴とする超音波洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】超音波洗浄で問題となっていた洗浄ムラを解消し、パーティクル除去を効果的に行うことのできる超音波洗浄方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、洗浄槽中の洗浄液に被洗浄物を浸漬し、超音波振動子から発生する超音波を伝播槽中の伝播水を介して前記洗浄液に伝播させて前記被洗浄物を洗浄する超音波洗浄方法であって、前記伝播水として、脱気した純水に、溶存ガスを飽和濃度に対して３５〜７０％の濃度で溶解させたものを用いることを特徴とする超音波洗浄方法。 （もっと読む）