【課題】乾燥ガスが光透過部材から被処理基板上に滴下することを防止することにより、製品歩留まりの低下を防止することが可能な乾燥室、洗浄・乾燥処理装置、被処理基板を乾燥する乾燥処理方法、および記録媒体を提供する。
【解決手段】乾燥室１０は、被処理基板Ｗを収容する乾燥室本体１１と、乾燥室本体１１の内壁１１ａに設けられた光透過部材１２と、乾燥室本体１１の内壁１１ａと光透過部材１２との間に設けられた加熱用光源１３とを備えている。光透過部材１２の下方には、光透過部材１２側に向けて乾燥ガスを供給するガス供給部１４が設けられている。光透過部材１２の内面１２ａは、乾燥ガスがこの光透過部材１２の内面１２ａに液膜として付着するように表面処理が施されている。 （もっと読む）

【課題】基板を洗浄する処理液の使用量を低減可能な基板の製造装置及び製造方法を提供すること。
【解決手段】基板１００の製造装置１は、基板１００を処理液で洗浄することで、基板１００のＳｉ層１０２に形成された酸化膜１０５の一部を除去する予備洗浄処理手段１３と、予備洗浄処理手段１３による基板１００の洗浄で残存した酸化膜１０５を除去する本洗浄処理手段１４と、本洗浄処理手段１４に未使用の処理液を供給するとともに、本洗浄処理手段１４で使用された処理液を予備洗浄処理手段１３に供給する供給手段１９と、を備える構成とする。 （もっと読む）

【課題】部品洗浄に有機溶剤洗浄液、炭化水素洗浄液、臭素系洗浄液、アルカリ系洗浄液の洗浄剤を使用すれば、気化した有害物質によるオゾン層の破壊、水質汚染等が発生する。
【解決手段】加温洗浄槽と油分を分離する油分回収槽と、中性洗浄剤を循環させる循環ポンプと、前記循環ポンプからの送りだされる中性洗浄剤の流量を手動設定する流量手動設定部と、常温洗浄する常温洗浄槽と、洗浄機を制御する制御部からの構成からなり、中性洗浄剤を加温洗浄槽と油分回収槽と常温洗浄槽とを循環させる構成で洗浄運転中に、油分を手動又は、自動回収する中性洗浄剤を用いる洗浄機。 （もっと読む）

【課題】基板表面の全域に対して、処理液による処理を均一に施すことができる基板処理装置および基板処理方法を提供することである。
【解決手段】この基板処理装置１は、スピンチャック４と、スピンチャック４に保持されたウエハＷの表面に向けて、高温（たとえば８０℃）のＳＣ１を供給するためのＳＣ１ノズル５と、スピンチャック４に保持されたウエハＷの表面に水蒸気を供給するための蒸気ノズル６と、スピンチャック４を収容するカップ８とを備えている。ＳＣ１ノズル５から吐出された高温のＳＣ１は、ウエハＷの中央部に供給される。蒸気ノズル６から吐出された水蒸気は、ウエハＷの中間位置Ｍに供給される。 （もっと読む）

【課題】金属製ノズルを、より簡易に強力洗浄でき得るノズル洗浄装置を提供する。
【解決手段】ノズル洗浄装置は、液体検体を検査または分析する検査分析装置に設けられた金属製ノズル２０を洗浄するべく、当該検査分析装置に搭載される。ノズル洗浄装置は、液体の吸引吐出に用いられる金属製ノズル２０を備えたノズルユニット１２と、洗浄実行時に過酸化水素水溶液が貯留される処理槽１６と、洗浄実行時に、金属製ノズル２０を処理槽１６内に進入させて過酸化水素水溶液に浸すべく、金属製ノズル２０を前記処理槽に対して相対移動させる移動機構と、処理槽１６内に進入した金属製ノズル２０の内部に位置する線状電極４０と、線状電極４０を介して過酸化水素水溶液に正電圧を、金属製ノズル２０に負電圧を印加する定電圧電源７０と、を備える。そして、電圧印加時に生じる水酸化ラジカルにより金属製ノズル２０を洗浄する。 （もっと読む）

【解決手段】 本発明の実施形態は、一般的には、チャンバ構成部品の外部位置洗浄のための方法及び装置に関する。一実施形態では、洗浄化学物質で構成部品を洗浄するためのシステムを提供する。システムは、洗浄プロセス中洗浄すべき１つ又はそれ以上の構成部品を保持するための洗浄槽組立体を含むウェットベンチ装置と、洗浄プロセス中１つ又はそれ以上の洗浄化学物質を洗浄槽組立体に供給するための、洗浄槽組立体と着脱可能に連結された着脱可能な洗浄カートを含む。 （もっと読む）

【課題】酸化セリウム等の研磨材に由来する微粒子汚れに対する洗浄性に優れる洗浄剤組成物、およびガラス製ハードディスク基板の洗浄方法を提供する。
【解決手段】酸化セリウムを含む研磨材で研磨したガラス製ハードディスク基板の洗浄に用いる洗浄剤組成物において、（Ａ）成分：ホスホン酸系キレート剤を１〜５０質量％、（Ｂ）成分：ヒドロキシカルボン酸および／またはその塩を１〜２０質量％含有し、かつ、前記（Ａ）成分と（Ｂ）成分の質量比が、（Ａ）成分／（Ｂ）成分＝５０／５０〜９０／１０であり、界面活性剤の含有量が１質量％未満であり、純水で２質量％に希釈した希釈液の２５℃におけるｐＨが５．０以下であることを特徴とする洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】省スペース化の課題，洗浄液多量消費の課題，キャビテーション発生の課題，および微粒異物の詰りの課題を同時に解決すること。
【解決手段】洗浄槽３と、洗浄槽３内の気体を凝縮する熱交換器４および真空ポンプ５を含む減圧手段６と、洗浄槽３内の復圧手段７と、減圧と復圧とを繰り返して洗浄槽３内の洗浄液を沸騰させる制御手段１４とを備える洗浄装置において、熱交換器４は、冷却水により気体を冷却するプレート式熱交換器にて構成され、熱交換器４の上流側に、デミスタにより洗浄液，気体に含まれる洗浄液の微小液滴および微粒異物を前記気体から分離し、分離した液体を洗浄槽３へ戻す気液分離器９を備えた。 （もっと読む）

【課題】アルミナ等の研磨材に由来する微粒子汚れに対する洗浄性に優れるハードディスク基板用洗浄剤組成物、およびハードディスク基板の洗浄方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分：アルカリ金属の水酸化物を０．０１〜５．００質量％、（Ｂ）成分：１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸および／またはその塩を０．１０〜２０．００質量％、（Ｃ）成分：下記一般式（１）で表されるポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩を０．０５〜１０．００質量％含有し、界面活性剤の含有量が１．００質量％未満であることを特徴するハードディスク基板用洗浄剤組成物。
Ｃ_ｍＨ_２ｍ＋１Ｏ（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎＳＯ_３Ｍ ・・・（１） （もっと読む）

【課題】半導体装置等の製造に用いる基板、例えばフォトマスク用基板、フォトマスクブランク、フォトマスク、あるいはそれらの製造中間体等を洗浄した場合に、異物の発生を極めて少なくすることができる基板の洗浄装置及び洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも、超純水により基板を洗浄する際に超純水を噴出するための超純水噴出ノズルと、該超純水噴出ノズルから超純水を噴出して基板の洗浄を行う基板洗浄室とを有する、基板の洗浄を行うための洗浄装置であって、少なくとも、超純水による基板の洗浄の前後の待機中に前記超純水噴出ノズルを待機させるための、前記基板洗浄室とは隔壁により仕切られた超純水噴出ノズル待機室を有し、該待機室は、排水機構と前記超純水噴出ノズル待機室から前記基板洗浄室へのミスト拡散防止機構を具備するものであることを特徴とする基板の洗浄装置。 （もっと読む）

タンパク質汚れを除去し、かつ表面上への汚れの再堆積を防止するための方法及び組成物が提供される。該組成物は、約１質量％〜約９０質量％の糖類、約１質量％〜約８０質量％のアルカリ源及び約１質量％〜約１０質量％の界面活性剤成分を含む。該糖類は、サッカリド又は非サッカリド系糖類でよい。該組成物は、リン含有化合物を実質的に含まず、かつ約０．０５質量％未満のアルカリ土類金属を含む。 （もっと読む）

【課題】 洗浄対象物に洗浄液混合の圧縮気を噴射可能であると共に、周囲にミストが飛散しなよう吸引回収可能であり、洗浄液を切り替えて汚れや塵埃などを除去し、最終的に圧縮空気のみを噴射して、洗浄の全工程を一挙に完了可能とする新たな洗浄技術を提供する。
【解決手段】 グリップ２の先端に一体化してなる吸引筒７の先端中央に、同吸引筒７に対して同心状配置で、その先端がわ方向に向けた洗浄ノズル８を設け、該グリップ２の基端から該洗浄ノズル８に達する主圧縮気回路３の適所に噴射スイッチ６を配し、該主圧縮気回路３適所から分岐した負圧誘導回路３３の末端を、当該吸引筒７内壁適所において、同吸引筒７末端がわに向けて開口し、当該グリップ２内の一液回路４１および別液回路４２の各内端に液路切換器５を接続し、且つ、同液路切換器５の吐出路５１を、当該主圧縮気回路３の適所に配した気液混合器３５に接続してなる洗浄ガン１である。 （もっと読む）

【課題】微細気泡を用いた効率的な洗浄を行うと共に、洗浄液の清浄度を確保可能な洗浄装置を得る。
【解決手段】第１および第２の仕切り１１、１２により形成された旋回状の流路部１４を有する洗浄槽１０と、旋回状の流路部１４に微細気泡と洗浄液の混合による流れを発生させ、旋回状の流路部１４内で被洗浄物を洗浄する気液混合エジェクタ２０と、洗浄後の洗浄液から油脂や異物などを分離する油水分離槽５０を備える。 （もっと読む）

【課題】ガスの溶解の持続性を有するガス溶解水を作成することができるガス溶解水製造装置を提供する。
【解決手段】ガス溶解水を作成することができるガス溶解水製造装置は、無電解質かつ水不溶解性の光電極体７を有する光電極体部１に水を接触させて水分解反応により酸性分解水を作成する水分解手段２と、酸性分解水に酸性水溶解性のガスを溶解してガス溶解水を作成する溶解手段３と、水分解手段２に水として純水を作成して供給する純水供給手段４とを備えたものである。 （もっと読む）

【課題】洗浄装置において、洗浄作業を効率よく行うことができるとともに、洗浄ムラを抑制することができるようにする。
【解決手段】 洗浄装置１は、洗浄液４を入れる洗浄槽２と、洗浄槽２に入れられた洗浄液４中に被洗浄物２０を浸漬させて保持する被洗浄物保持部３と、洗浄液４中に超音波Ｓを出射する超音波振動子５と、超音波出射領域５ａに対向して、超音波Ｓの出射方向に対して傾斜角をつけて配置された超音波反射板７Ａ、７Ｂ、７Ｃ、７Ｄと、を備える。 （もっと読む）

【課題】被処理体の処理に用いられる液の温度変動を抑制することができる液処理装置を提供する。
【解決手段】液処理装置１０は、液供給機構１５と、液供給装置に接続され温度調節された液を吐出する吐出開口３０ａを有した供給ライン３０と、供給ラインの吐出開口を支持しする処理ユニット５０と、供給ラインに供給された液を液供給機構へ戻す戻しライン３５と、処理ユニットでの被処理体の処理に用いられる液の供給および供給停止を切り替える液供給切り替え弁３８ａと、を有する。液供給切り替え弁３８ａは、供給ライン３０上に設けられ、供給ライン３０から戻しライン３５を介して液供給機構１５へ戻る液の経路上に、位置している。 （もっと読む）

【課題】雌型結合部材と雄型結合部材の互いに接触する部分を、塗料残りなく洗浄できる流体流路の接続装置を提供すること。
【解決手段】絶縁分離バルブ３２の分離機構１００は、雌型結合部材３２Ｕを所定の推力で駆動し、第１接続部５４と第２接続部６４とを接近させる主シリンダ１１１と、雌型結合部材３２Ｕを所定の推力で駆動し、第１接続部５４と第２接続部６４とを離隔させる洗浄位置用シリンダ１１３と、を備える。制御装置は、第１接続部５４および第２接続部６４を洗浄用流体で洗浄する際には、主シリンダ１１１で発生させる推力を、洗浄用流体の供給時に主シリンダ１１１で発生する推力に抗して第１接続部５４と第２接続部６４とを離隔させる方向に作用する力より大きく、かつ、洗浄位置用シリンダ１１３で発生する推力以下に制御し、シール部材６６が凹部５２に密接する範囲内で第１接続部５４と第２接続部６４とを離隔させる。 （もっと読む）

【課題】プリント基板に付着したイオン性汚損物中のイオン成分の種類と量を分析できる汚損物の分析方法及び、プリント基板の洗浄方法を提供する。
【解決手段】イオン性汚損物で汚損されたプリント基板から、該イオン性汚損物質中のイオン成分を純水中に抽出させ、得られた抽出液中のイオン成分をイオンクロマトグラフィー法で測定し、検出されたイオン成分の種類と量を分析する。該方法で、プリント基板に付着したイオン成分の種類と量を分析することにより、プリント基板に付着した各イオン成分の濃度を所定値以下とするのに必要な洗浄条件を求め、この洗浄条件に従って、同様な使用条件下で汚染されたプリント基板の洗浄を行う。 （もっと読む）

【課題】装置を小型化でき、被洗浄物を容易に乾燥することができるようにする。
【解決手段】洗浄籠内に被洗浄物を収容した状態で洗浄する方法において、洗浄時、洗浄液供給手段を用いて処理槽に洗浄液を供給して洗浄籠内に収容した前記被洗浄物を洗浄し、洗浄後、前記洗浄液供給手段を用いて前記処理槽に供給された洗浄液を前記洗浄液供給手段に回収し、すすぎ時、すすぎ液供給手段を用いて前記処理槽にすすぎ液を供給し、すすぎ終了後、前記すすぎ液供給手段を用いて前記処理槽に供給されたすすぎ液を前記すすぎ液供給手段に回収し、乾燥時、ノズルを有する乾燥手段を用いて前記ノズルを前記処理槽の前記洗浄籠内に進入させて熱風を前記被洗浄物に吹き付けるとともに、排出手段を用いて乾燥時に出る液体を前記処理槽から排出し、乾燥後、前記乾燥手段を用いて前記ノズルを前記洗浄籠及び前記処理槽から退出させる。 （もっと読む）

【課題】アルカリアルミノシリケートガラスからなるガラス円板について、酸化セリウム砥粒を含むスラリーを用いる研磨工程を経て情報記録媒体用ガラス基板を製造する方法において、酸化セリウム砥粒の残留を抑制し、更に主表面の面荒れを少なくする。
【解決手段】（ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３）が６２モル％以下のＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系ガラスからなる円板を、酸化セリウム研磨工程の跡、硫酸濃度２０質量％以上８０質量％以下、過酸化水素濃度１質量％以上１０質量％以下である洗浄液を用いて５０℃以上１００℃以下の液温にて洗浄し、その後、ガラス円板の主表面をコロイダルシリカ砥粒を含むスラリーを用いて仕上げ研磨する。 （もっと読む）