【課題】広範囲な環境でバイオフィルムを効率的に除去する方法および液状バイオフィルム除去剤組成物を提供する
【解決手段】ポリエチレンイミンをバイオフィルムに接触させることを特徴とするバイオフィルム除去方法およびポリエチレンイミンを含有することを特徴とする液状バイオフィルム除去剤組成物。 （もっと読む）

【課題】外壁を洗浄するための洗浄剤を洗い流す工程に関連し、環境汚染を防ぐための新規な技術を提案する。
【解決手段】酸性洗浄剤を建物外壁の汚れ部分に直接塗布する第３工程Ｓ３と、アルカリ性洗浄水により酸性洗浄剤を洗い流す第４工程Ｓ４を有する。酸性洗浄剤を含む排水を中性に近づけることができ、そのまま下水に排水してしまう場合と比較して、環境負荷を低減することができ、環境汚染を防ぐことが可能となる。また、アルカリ性洗浄水による中和の作用によって、残留してしまった酸性洗浄剤のｐＨを高めて中性に近づけることができるため、仮に、酸性洗浄剤が完全に洗い流されない場合であっても、酸性洗浄剤を中性に近づけることによって、外壁１０の変色や劣化を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】機器や配管等の金属表面に付着したカルシウム塩のスケールを良好に洗浄する難溶解性付着物の洗浄技術を提供する。
【解決手段】難溶解性付着物の洗浄剤は少なくともギ酸を成分に有し、金属表面に付着したカルシウム塩のスケールを洗浄する。遠心薄膜乾燥機２０においてこの洗浄剤を供給する供給タンク３１が接続されている。例えば、乾燥処理の対象となる廃液が、ホウ酸カルシウムを主成分とする懸濁液である場合、洗浄剤のギ酸濃度が０．５〜１０ｗｔ％、好ましくは１〜５ｗｔ％の範囲に調整される。 （もっと読む）

【課題】スライムの洗浄速度が速く、スライムの洗浄時間を短縮することができ、スライムの除去効率を向上させることができるスライムの洗浄方法を提供する。
【解決手段】スライムの洗浄方法は、水タンク等の機器又は水配管等の内壁面に付着したスライムに洗浄剤としての過酸化物を作用させてスライムの洗浄を行うにあたり、該洗浄を減圧状態で行うものである。過酸化物としては、酸素と水に分解する過酸化水素が最も好ましい。その過酸化水素を過酸化水素水として用い、過酸化水素水中の過酸化水素の濃度は０．１〜１０質量％であることが好ましい。また、減圧状態の圧力は０．００１〜０．０９ＭＰａに設定され、スライムの洗浄は酸性条件下で行われる。 （もっと読む）

【課題】スケールの溶解率を高めることができるとともに、スケールの溶解時間を短縮することができ、スケールの除去効率を向上させることができる酸によるスケールの洗浄方法を提供する。
【解決手段】酸によるスケールの洗浄方法は、機器又は配管の内壁面に付着したスケールに洗浄剤としての酸を作用させて発泡させながらスケールの洗浄を行うにあたり、該洗浄を減圧状態で行うものである。前記洗浄剤の酸は無機酸又は有機酸であり、無機酸としては塩酸、スルファミン酸等が挙げられ、有機酸としてはクエン酸、グリコール酸等が挙げられる。減圧状態における圧力は０．００１〜０．０９ＭＰａであることが好ましい。また、洗浄時における洗浄液のｐＨは５以下であることが望ましい。 （もっと読む）

【課題】スケールの溶解率を高めることができるとともに、スケールの溶解時間を短縮することができ、スケールの除去効率を向上させることができるアルカリによるスケールの洗浄方法を提供する。
【解決手段】アルカリによるスケールの洗浄方法は、水タンク等の機器又は水配管等の配管の内壁面に付着したスケールに洗浄剤としてのアルカリを作用させてスケールの洗浄を行うにあたり、該洗浄を減圧状態で発泡源を添加するか、又は気泡を吹き込みながら行うものである。前記スケールは二酸化珪素を含むものである。また、前記気泡としては、その気泡径が１００ｎｍ〜１００μｍの微細気泡が用いられる。洗浄時における洗浄液のｐＨは９以上であることが好ましい。洗浄時の圧力は、０．００１〜０．０９ＭＰａに設定される。 （もっと読む）

【課題】硬質材料表面に付着するスケールを材料表面の腐食・劣化を発生させることなく、効率的に除去する方法を提供する。
【解決手段】難除去性無機系スケール付着硬質材料表面に対し、以下に示す三つの処理ステップを実施する。第１ステップ：スケールが付着している硬質材料表面に対する酸性洗浄剤による洗浄処理の実施。なお、酸性洗浄剤としてメタンスルホン酸とヒドロキシカルボン酸との混合液の使用が特に好ましい。第２ステップ：第１ステップ処理面に対する乾燥処理の実施。第３ステップ：第２ステップ処理面に対するアルカリ性洗浄剤による洗浄処理の実施。 （もっと読む）

【課題】炭化水素化合物や芳香族化合物等の油分又は難分解性の着色成分を含む排水の処理に使用した濾過膜の汚れを容易に除去できる濾過膜洗浄剤および濾過膜洗浄方法を提供する。
【解決手段】本発明の濾過膜洗浄剤は、塩素酸又はその塩と界面活性剤とを含む混合溶液からなり、排水の処理に使用された濾過膜を洗浄する際に使用される濾過膜洗浄剤であって、塩素酸又はその塩の遊離塩素濃度が０．０１〜３．０％である。
本発明の濾過膜の洗浄方法は、上記濾過膜洗浄剤によって、排水の処理に使用した濾過膜を洗浄する方法である。 （もっと読む）

【課題】 多量の処理液を消費することなく基板の表面全域に有効に処理液を供給することが可能であり、さらに、処理液を回収して再利用することが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】 各塗布ユニット１ａ、１ｂは、複数の搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の表面に処理液を供給するための第１処理液吐出ノズル２と、この第１処理液吐出ノズル２との間に処理液の液溜まりを形成するとともに、複数の搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００の裏面に処理液を供給するための第２処理液吐出ノズル４とを備える。搬送ローラ９により搬送されるガラス基板１００に対し、このような構成を有する２個の塗布ユニット１ａ、１ｂの作用により、その表面および裏面への処理液の塗布が、繰り返し実行される。 （もっと読む）

【課題】設備コストおよびエネルギーコストの面で優れた、むらなく浸漬処理を施すことが可能な線材コイルの浸漬処理装置を提供する。
【解決手段】線材コイル２をつり下げるためのフック１と処理液４で満たされた処理槽３とで構成される線材コイルの浸漬処理装置であって、フック１が、線材コイル２をフック１から分離させる一つ以上の分離用部材５を有し、フック１を処理槽３内に下降させることにより線材コイル２を処理液４に浸漬する線材コイルの浸漬処理装置。 （もっと読む）

【課題】硫酸の温度の変更に容易に対応可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】この基板処理装置は、硫酸と過酸化水素水とを混合して生成したレジスト剥離液を基板Ｗの表面に供給する。この基板処理装置は、レジスト剥離液を基板に向けて吐出するノズル２と、ノズル２に向けて過酸化水素水を流通させる過酸化水素水供給路３０と、過酸化水素水供給路３０上においてノズル２までの流路長が異なる複数の混合位置ＭＰ１，ＭＰ２，ＭＰ３，ＭＰ４にそれぞれ接続された複数の硫酸供給路３１，３２，３３，３４と、硫酸供給源２５からの硫酸を前記複数の硫酸供給路から選択された硫酸供給路に導入する硫酸供給路選択ユニット３５とを含む。 （もっと読む）

【課題】乾式洗浄と湿式洗浄とを選択的に実施できる基板処理設備及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】本発明による基板処理設備は、基板が載せられた容器が置かれるポート１１００及びインデックスロボット１２００を有するインデックス部１０００と、基板処理を遂行する処理部２００と、処理部２００とインデックス部１０００との間に配置されてこれらの間に搬送される基板が一時的に留まるバッファユニット４０００と、を含み、処理部２００は、基板を搬送するための移送路に沿って配置されるグルー除去用処理モジュール、基板冷却処理モジュール、加熱処理モジュール、及び機能水処理モジュールを含む。 （もっと読む）

【課題】研磨後の表面粗さの悪化を抑制し、かつ、洗浄性に優れる酸性洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】平均付加モル数が１０〜９０である炭素数２〜４のオキシアルキレン基と、アニオン性基（カルボン酸基を除く）又はその塩とを有する水溶性化合物、酸、及び水を含み、２５℃におけるｐＨが０．５を超え５．０未満である、シリカ研磨材及び／又はシリカ研磨屑が付着した電子材料基板を洗浄するための電子材料基板用酸性洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光学ガラスの洗浄において、潜傷の顕在化を抑制し、かつ、硝材によらず洗浄剤を変更する必要がなく、作業スペース、コストも低減し、作業効率を改善できる光学ガラス用洗浄液及び光学ガラスの洗浄方法を提供する。
【解決手段】質量平均分子量が１５００以上のポリカルボン酸を１０〜６０質量％、非イオン性界面活性剤を１〜２０質量％、溶媒を２０〜８９質量％含有し、ｐＨが９以上である光学ガラス用洗浄液及びそれを用いた光学ガラスの洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】半導体材料用シリコンについて、アルミニウムおよび鉄の洗浄効果に優れた洗浄方法とその多結晶シリコン塊、洗浄装置を提供する。
【解決手段】半導体材料用シリコンを用意する工程と、逆浸透精製処理と、イオン交換精製処理とを行った純水を用意する工程と、前記純水を用いて半導体材料用シリコンを洗浄する工程と、前記洗浄によって、純水洗浄後のシリコン表面に残留するアルミニウムおよび鉄が低減された半導体材料用シリコンを得る工程と、を含む洗浄方法および洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】多結晶シリコンを収納した容器を洗浄槽との間で円滑かつ確実に搬送することができ、作業効率を向上させて安定した品質を維持できる多結晶シリコン洗浄装置及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】多結晶シリコンＳを容器３に収納した状態で洗浄槽２１〜２７に浸漬して洗浄する多結晶シリコンの洗浄装置１であって、洗浄槽２１〜２７の内底部に容器３を載置状態に保持するガイド枠５を有しており、ガイド枠５には上方から容器３の導入を案内する複数のガイド板５２が上方に向かうにしたがってガイド枠５の保持中心から離間する方向に傾斜して設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】金属に付着した金属ルテニウム、酸化ルテニウムまたは有機ルテニウム化合物を、容易に除去することができ、金属を腐食することなく、かつ特殊な設備を必要としない洗浄方法を提供する。
【解決手段】金属ルテニウム、酸化ルテニウムまたは有機ルテニウム化合物が付着したステンレス製容器と、０．０１重量％〜２０重量％の硝酸水溶液とを接触させ、超音波を０．１〜４８０分間かけることにより、付着物を除去し容器を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】廃プラスチック類に付着した有機物を、分解し脱臭処理すること。
【解決手段】スラリー槽１０に破砕された廃プラスチック類を入れ、過酸化水素１２と硫酸第１鉄１３と循環水１４を加え、かつ酸性に調整して攪拌する。フェントン洗浄タンク２０は、上下方向に多数の層２０ａ、２０ｂ、２０ｃに分割され、各層を貫いた回転軸２２が攪拌羽根２３ａ、２３ｂ、２３ｃを回転させる。層を隔てる仕切り板２４ａ、２４ｂには連通孔４８が設けられている。フェントン洗浄タンク３０も同様な構成であり、夫々の最下層同士が配管４０で接続されている。配管１８からフェントン洗浄タンク２０の最上層に攪拌された廃プラスチック類が投入され、フェントン洗浄タンク３０の最上層から廃プラスチック類をオーバーフローさせる。 （もっと読む）

【課題】より低コストかつ省資源な洗浄を行うために、ガス溶解水を用いた高圧ジェット洗浄又は二流体洗浄のみにより、超音波洗浄を組み合わせる必要がない程度に十分な洗浄効果をあげる洗浄方法を提供する。
【解決手段】洗浄流体吐出ノズルから洗浄液又は洗浄液と気体との混合流体を被洗浄物に向けて吐出させて、被洗浄物を高圧ジェット洗浄又は二流体洗浄する洗浄方法において、流体吐出ノズルに導入される洗浄液に溶存ガスを含ませる。溶存ガスは、所定の圧力が加えられることにより洗浄液に溶解され、溶存ガスの洗浄液への溶解量は、洗浄液の液温における飽和溶解度を第１飽和溶解度とし、洗浄液の液温を保ったまま所定の圧力を加えた状態における飽和溶解度を第２飽和溶解度とした場合に、第２飽和溶解度と第１飽和溶解度との差の１０〜７０％を第１飽和溶解度に加えたものとする。 （もっと読む）

【課題】反応容器や部材を繰返し使用できて、均一で高品質な結晶を製造できる方法を提供すること。
【解決手段】反応容器内で結晶成長を行った後に、該反応容器の表面及び該反応容器内で使用される部材の表面に付着した付着物を化学的溶解反応により除去する。 （もっと読む）