【課題】基板表面に付着したパーティクル等の汚染物質を除去するための基板処理方法および基板処理装置において、パーティクル除去効率を向上させる。
【解決手段】基板Ｗの表面Ｗｆに、ＤＩＷにポリスチレン微粒子Ｐを分散させた処理液Ｌによる液膜ＬＰを形成する。冷却ガス吐出ノズル３から冷却ガスを吐出させながら該ノズルを基板Ｗに対し走査移動させて、液膜ＬＰを凍結させる。液膜中に混入された微粒子Ｐが凝固核となって氷塊ＩＣの生成が促進されるため、液相から固相への相変化時間を短くしてパーティクル除去効率を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】
人体と接触することによって皮脂等の汚れが付着した物品を、安全に、簡便にかつ効果的に洗浄する方法を提供する。
【解決手段】
蛋白分解酵素及び脂肪分解酵素を含有し、界面活性剤を含有しないマイクロバブル洗浄用組成物、並びにマイクロバブルを含有する洗浄液を用いることを特徴とする、物品の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】エッチング処理した場合と比べて、渦電流損をさらに低減した回転電気機械用鋼板を得ることできる回転電気機械用鋼板の製造方法を提供することにある。
【解決手段】回転電気機械のコアを構成する回転電気機械用鋼板の製造方法であって、鋼板１０の表面１０ａをエッチング処理した後に、エッチング処理した鋼板１０の表面１０ａに圧力Ｆ１を付与する圧力付与処理を行って、当該鋼板１０の表面１０ａ近傍の粒界に生成した腐食生成物を除去して空隙１０ｃを形成する。 （もっと読む）

【課題】従来の洗浄装置は、超音波振動子などによるキャビテーションを用いて洗浄していたが、洗浄効果が得られないと共に、洗浄時間が長いという課題を有していた。
【解決手段】被洗浄物を収容するための洗浄室１１と、前記洗浄室内１１に設けた２つの電極にパルスパワーを印加しストリーマ放電を発生させる放電手段１６と、前記洗浄室１２内に気泡を発生させる気泡発生手段１７とを設けて、被洗浄物１１を洗浄することを特徴とした洗浄装置である。気泡を発生させてパルスパワーを印加することで、低い電圧で放電させることができるとともに、高い圧力範囲の衝撃波を発生させることができるので、被洗浄物１１に付着した汚れ成分や細菌やウィルスなどを除去する。気泡を発生させて放電することによってラジカルやオゾンを多量に生成することができるので、殺菌性能を向上することができるとともに、洗浄水を浄化することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】洗剤の使用が不要で且つコンパクトで洗浄性能が高い洗浄装置を提供する。
【解決手段】液体を搬送経路１に流して加圧すると共に脈動流を発生させるポンプ２と、気体を前記搬送経路１を流れる液体に加圧溶解させて該気体が飽和状態となった液体を生成する加圧溶解部３と、加圧溶解部３で生成し気体が飽和状態となった液体を大気圧まで減圧する減圧部４と、前記減圧部４からの液体を被洗浄物６の表面に噴射する洗浄液噴射部５とを備えた。 （もっと読む）

【課題】水熱処理装置の詰まり発生を抑制し、安定した稼働を実現する。
【解決手段】水熱管を通過させることにより有機性廃棄物を水熱処理し、冷却管を通過させることにより水熱処理液を冷却する水熱処理装置の洗浄方法であって、有機性廃棄物に代えて、油脂を鹸化する鹸化剤を前記水熱管に供給して洗浄運転を行う。 （もっと読む）

【課題】第１の有機溶剤システムおよび第２の二酸化炭素システムを用いて合成樹脂材料の容器から汚染物を除去する方法を提供する。
【解決手段】有機溶剤を用いて合成樹脂材料から汚染物を除去し、二酸化炭素を用いて合成樹脂材料から残留する有機溶剤を分離する。 （もっと読む）

【課題】 基板へのダメージを低減しつつ、基板表面の不要物を効率的に除去することのできる基板処理装置および方法を提供する。
【解決手段】 スピンチャック１に略水平に保持された基板Ｗを回転させた状態で、基板裏面Ｗｂに対して摂氏７０度以上に加熱された純水（温水）を供給する一方で、基板表面Ｗｆに対して窒素が過飽和に溶解された純水を処理液として供給する。基板裏面Ｗｂに供給された温水により基板Ｗが昇温され、基板表面Ｗｆに接液する処理液から溶解させている窒素を泡として効率的に発生させることができる。これにより、基板表面Ｗｆのパーティクルを効率良く除去するとともに排出される。しかも、基板表面Ｗｆで直接に泡を発生させているので泡が成長することなく比較的小さな泡で基板Ｗを処理することができるので、基板Ｗへのダメージを低減することができる。 （もっと読む）

【課題】 ＦＰＤの薄型化を可能にする実用的な技術を提供する。
【解決手段】 一対のガラス基板１の一方に電極１１を形成してガラス基板１をシール材１２を介して貼り合わせ、内部を封止した後、ガラス基板１の外面を機械研磨して厚さを薄くする。ノズル４に対して相対的に機械的に移動させながら、フッ酸より成る溶出液Ｌをノズル４からガラス基板１の外面に向けて噴射し、自重による加速度より大きな加速度を付けて０．５ｋｇ／ｃｍ^２〜３．５ｋｇ／ｃｍ^２の範囲で圧力で外面に吹き付ける。外面は溶出液Ｌにより溶出され、溶出液の衝撃による物理的作用を利用して外面が研磨される。 （もっと読む）